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薄膜晶体管制造技术

技术编号:4216569 阅读:147 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种薄膜晶体管,其包括:一源极;一漏极,该漏极与该源极间隔设置;一半导体层,该半导体层与该源极和漏极电连接;以及一栅极,该栅极通过一绝缘层与该半导体层、源极及漏极及绝缘设置;其中,所述半导体层包括一碳纳米管薄膜,该碳纳米管薄膜包含多个首尾相连且择优取向排列的碳纳米管,至少部分碳纳米管的排列方向沿源极向漏极延伸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄膜晶体管,尤其涉及一种基于碳纳米管的薄膜晶体管。
技术介绍
薄膜晶体管(Thin Film Transistor, TFT )是现代微电子技术中的 一种关 键性电子元件,目前已经被广泛的应用于平板显示器等领域。薄膜晶体管主 要包括基板,以及设置在基板上的栅极、绝缘层、半导体层、源极和漏极。 其中,栅极通过绝缘层与半导体层间隔设置,源极和漏极间隔设置并与半导 体层电连接。薄膜晶体管中的栅极、源极、漏极均为导电材料构成,该导电 材料一般为金属或合金。当在栅极上施加电压时,与栅极通过绝缘层间隔设 置的半导体层中会积累载流子,当载流子积累到一定程度,与半导体层电连 接的源极漏极之间将导通,从而有电流从源极流向漏极。现有技术中,薄膜晶体管中形成半导体层的材料为非晶硅、多晶硅或有 机半导体聚合物等(R. e. I. Schropp, B. Stannowski, J. K. Rath, New challenges in thin film transistor research, Journal of Non-Crystalline Solids, 299-302, 13本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜晶体管,包括: 一源极; 一漏极,该漏极与该源极间隔设置; 一半导体层,该半导体层与该源极和漏极电连接;以及 一栅极,该栅极通过一绝缘层与该半导体层、源极及漏极绝缘设置; 其特征在于,所述半导体层包括一 碳纳米管薄膜,该碳纳米管薄膜包含多个首尾相连且择优取向排列的碳纳米管,至少部分碳纳米管的排列方向沿源极到漏极延伸。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:姜开利李群庆范守善
申请(专利权)人:清华大学鸿富锦精密工业深圳有限公司
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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