一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法技术

本发明专利技术公开一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法，包括以下步骤：Ｓ１．玻璃基板清洗；Ｓ２．在玻璃基板上形成透明绝缘层；Ｓ３．将经过步骤Ｓ２后的玻璃基板通过光罩对透明绝缘层进行曝光，所述光罩上排布有多个孔，所述孔经设置用于在曝光时通过光并使光照射在透明绝缘层上；Ｓ４．对曝光后的玻璃基板用显影液进行显影处理，在玻璃基板上形成隔离点点阵。本发明专利技术采用刮刀涂布和旋转涂布的方法，可以根据不同的实际需要，来调整旋转的速度和时间来控制隔离点的高度；同时，本发明专利技术采用具有棱形排布孔的光罩作为掩膜版进行曝光、显影的方法，避免了印刷法常见的堵网、漏点、隔离点大小不一和分布不均等缺陷，对隔离点的分布情况进行了有效地控制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电阻式触摸屏，尤其涉及一种电阻式触摸屏隔离点的 制作方法。
技术介绍
在国外触摸屏幕技术已经非常成熟，在欧美如Micro Touch、 Elo及 Dynapro等厂商都有近二十年的历史；日本Nisha、 Gunze也有近十年以上 的经验。而在产品的技术发展上，东西方各有不同，欧美的触摸屏以电容 式、表面声波式、红外式为发展方向，产品以大尺寸居多；日本、韩国、 台湾等触摸屏厂商以电阻式为主要发展方向，产品以中小尺寸为主要目标。电阻式触摸屏又分为薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/玻璃、薄膜/薄膜 /PC等几种类型，其中又以薄膜/玻璃的应用最为广泛。现有技术的电阻式 触摸屏结构，如图1所示 一般由上片基材1和下片基材2构成，上片基 材1和下片基材2可以是薄膜(Film)或者玻璃(Glass)，上片基材1和 下片基材2的内表面分别设有上导电层3和下导电层4,在上导电层3和下 导电层4之间分布有一些隔离点(Dot spacer) 5，将上下导电层表面隔开 绝缘。当触摸屏表面受到的压力(如通过笔尖或手指进行按压)足够大时， 相互绝缘的上下导电层就在触摸点位置有了一个接触，下导电层接通X或Y 轴方向的均匀电压场，使得上导电层的输出由零变为非零，这种接通状态 被控制器侦测到后，进行模拟数字转换(Analogue Digital Converter, ADC)，即将电压转换成坐标位置，实现触摸点定位。这种结构中隔离点5的距离、高度、大小决定了触摸屏的敏感度，通 常这些隔离点采用印刷的方法制取。但是，印刷法网版容易堵塞，造成隔 离点缺失、大小不一、高度不均等不良，严重影响产品的响应度及性能。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种电阻式触摸屏隔离点的制作方 法，使隔离点的分布、大小、高度可控。为实现上述目的，本专利技术是通过以下技术方案实现的 ，包括以下步骤 Sl.玻璃基板清洗；52. 在玻璃基板上形成透明绝缘层；53. 将经过步骤S2后的玻璃基板通过光罩对透明绝缘层进行曝光，所 述光罩上排布有多个孔，所述孔经设置用于在曝光时通过光并使光照射在 透明绝缘层上；54. 对曝光后的玻璃基板用显影液进行显影处理，在玻璃基板上形成隔 离点点阵。进一步地，在所述步骤S1中，玻璃基板清洗的方法包括如下步骤511. 紫外线预处理去除玻璃基板表面的有机物物质；512. 碱液清洗去除玻璃基板表面的大颗粒物质；513. 超声波清洗去除玻璃基板表面的小颗粒物质和碱离子；514. 高压纯水喷淋进一步去除玻璃基板表面的颗粒物质和残留离子；515. 风刀处理初步去除玻璃基板表面的水和溶剂；516. 红外处理进一步去除玻璃基板表面的水和溶剂。 更进一步地，在所述步骤S12中，所述碱液清洗的碱洗剂为0.5 1.0%(重量份)的碱金属氢氧化物溶液或者碱金属碳酸盐溶液。优选地，所述碱金属氢氧化物溶液为氢氧化钾溶液，所述碱金属碳酸 盐溶液为碳酸钠溶液。优选地，所述高压纯水喷淋的压力为6 MPa -8MPa。 优选地，所述红外处理的温度为135度-150度。作为一种实施方式，在所述步骤S2中，通过涂布的方式在玻璃基板上 形成透明绝缘层，包括以下步骤521. 刮刀涂布在玻璃表面初步形成均匀透明树脂膜；522. 旋转涂布保持均匀的转速，在玻璃基板表面形成一膜厚更加均 匀的透明绝缘层；523. 将涂布好透明绝缘层的玻璃基板，进行干燥和预烘烤，除去玻璃 基板表面的溶剂。更进一步地，在所步骤S22中，所述的透明绝缘层膜厚为8-IO微米， 旋转涂布的转速为400rpm。作为另一种实施方式，在所述步骤S2中，通过涂布的方式在玻璃基板 上形成透明绝缘层，包括以下步骤S21'.刮刀涂布在玻璃表面初步形成均匀透明树脂膜；S22'.旋转涂布采用先加速后匀速最后减速的方式，在玻璃基板表面形成一膜厚更加均匀的透明树脂膜即透明绝缘层，所述加速、匀速、减 速的时间比为3秒7秒3秒；S23'.将涂布好透明绝缘层的玻璃基板，进行干燥和预烘烤，除去玻 璃基板表面的溶剂。进一步地，所述透明绝缘层为透明树脂膜，由丙烯酸树脂、分散剂和 感光化合物组成。进一步地，在所步骤S3中，所述光罩上孔的直径为40微米，间距为2 毫米，呈棱形排布；所述曝光时的曝光量为100mj/cm2，光罩离玻璃基板表 面的间隙为200-250微米。进一步地，在所步骤S4中，所述显影液的温度为28度-30度，喷淋时 间为40秒；所述显影液采用碳酸钠和氢氧化钾的混合物与水配制而成的溶 液。更进一步地，在所述步骤S4之后，还包括以下步骤S5:将显影后玻璃 基板表面进行烘烤固化，所述烘烤的温度为200度-250度，烘烤的时间为 40分钟。本专利技术的有益效果是(1) 本专利技术采用刮刀涂布和旋转涂布的方法，可以根据不同的实际需 要，来调整旋转的速度和时间来控制隔离点的高度；(2) 本专利技术采用具有棱形排布孔的光罩作为掩膜版进行曝光、显影的 方法，避免了印刷法常见的堵网、漏点、隔离点大小不一和分布不均等缺 陷，对隔离点的分布情况进行了有效地控制。(3) 同时，采用高温烘烤固化，大大增加了隔离点与玻璃基板的附着 力，降低了隔离点因长期使用所导致的磨损、脱落而造成的触摸屏不良。本专利技术的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。附图说明图1是本专利技术现有技术的电阻式触摸屏结构图。 图2是本专利技术具体实施例的光罩结构示意图。 图3是本专利技术具体实施例的制作方法流程图。具体实施方式为了便于理解本专利技术的具体技术方案，下面结合附图和具体实施例对 本专利技术作进一步的详细描述。实施方式一、本实施方式将隔离点制作于电阻式触摸屏的玻璃基板上面，电阻式触摸屏的结构可以为现有技术的触摸屏结构，如图1所示一般由上片基材1和下片基材2构成，上片基材1是薄膜(Film)，下片基 材2是玻璃(Glass)，上片基材1和下片基材2的内表面分别设有上导电 层3和下导电层4，在上导电层3和下导电层4之间分布有一些隔离点(Dot spacer) 5，将上下导电层表面隔开绝缘，上下导电层可以选用氧化铟锡导 电层<=上述电阻式触摸屏中隔离点的制作方法流程如图3所示，包括以下步骤51. 玻璃基板清洗；52. 在玻璃基板上形成透明绝缘层；53. 将经过步骤S2后的玻璃基板通过光罩对透明绝缘层进行曝光，所 述光罩上排布有多个孔，所述孔经设置用于在曝光时通过光并使光照射在 透明绝缘层上；54. 对曝光后的玻璃基板用显影液进行显影处理，在玻璃基板上形成隔 离点点阵。在上述步骤S1中，提供的玻璃基板作为所述电阻式触摸屏的下片基材， 通常此玻璃基材为含碱离子较低或者无碱离子的氧化铟锡玻璃。同时，所 述步骤S1中玻璃基板清洗的方法包括如下步骤Sll.紫外线预处理用紫 外线照射去除玻璃基板表面的有机物物质；S12.碱液清洗碱液清洗的碱 洗剂为0. 5~1. 0% (重量份)的碱金属氢氧化物溶液或者碱金属碳酸盐溶液， 去除玻璃基板表面的大颗粒物质，作为一种实施方式，所述碱金属氢氧化 物溶液为氢氧化钾溶液，所述碱金属碳酸盐溶液为碳酸钠溶液；S13.超声 波清洗去除玻璃基板表面的小颗粒物质和碱离子；S14.高压纯水喷淋 进一步去除玻璃基板表面的颗粒物质和残留离子；作为一种实施方式，所 述高本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于包括以下步骤：　Ｓ１．玻璃基板清洗；　Ｓ２．在玻璃基板上形成透明绝缘层；　Ｓ３．将经过步骤Ｓ２后的玻璃基板通过光罩对透明绝缘层进行曝光，所述光罩上排布有多个孔，所述孔经设置用于在曝光时通过光并使光照射在透明绝缘层上；　Ｓ４．对曝光后的玻璃基板用显影液进行显影处理，在玻璃基板上形成隔离点点阵。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘涛，
申请(专利权)人：比亚迪股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]