【技术实现步骤摘要】
本技术涉及直拉单晶硅生产,具体的说是一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚。
技术介绍
1、石墨坩埚为直拉单晶硅用单晶炉的主要部件,在单晶硅棒的拉制过程中,装有硅原料的石英坩埚加热后软化,石墨坩埚对其具有支撑作用,使软化的石英坩埚在拉晶过程中维持稳定状态,保证单晶正常生长。
2、常规的石墨坩埚为三瓣式结构,即石墨坩埚由三个坩埚块拼接形成并包裹石英坩埚的外壁,三瓣式结构的石墨坩埚能够释放石英坩埚软化膨胀引起的应力。但是,随着重掺低阻产品的需求量增加,且低阻产品拉制过程中掺杂更多的杂质以及设定更高的工艺炉压,例如24吋热场标准装料140kg,相比于20吋热场装料70kg,其相同目标电阻率、不考虑挥发的情况下掺杂量至少提升两倍,即拉制重掺单晶硅的单晶炉内的杂质氛围更加恶劣;同时,石墨坩埚是离加热器最近的部件使其受热温度较大。单晶炉内的杂质氛围恶劣以及石墨坩埚受热温度较大,造成了石墨坩埚冷却后其边缘发生崩边和起皮现象。
技术实现思路
1、为了解决现有技术中石墨坩埚冷却后易出现崩边和起皮
...【技术保护点】
1.一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚,包括埚体(1),其特征在于:埚体(1)的顶端同轴设置有释放环(2),释放环(2)的内侧壁与埚体(1)的内侧壁平齐使两者形成能够容纳石英坩埚(5)的容纳空间,释放环(2)的侧壁上开设有贯穿其两个端面的伸缩缝(3)。
2.如权利要求1所述的一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚,其特征在于:所述释放环(2)与埚体(1)接触的端面具有与其同轴的环形凸起(203),埚体(1)的顶端开设有与其同轴且能够供环形凸起(203)插入的环形槽(101),环形凸起(203)的侧壁与环形槽(101)的侧壁之间具有间隙(4)。
< ...【技术特征摘要】
1.一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚,包括埚体(1),其特征在于:埚体(1)的顶端同轴设置有释放环(2),释放环(2)的内侧壁与埚体(1)的内侧壁平齐使两者形成能够容纳石英坩埚(5)的容纳空间,释放环(2)的侧壁上开设有贯穿其两个端面的伸缩缝(3)。
2.如权利要求1所述的一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚,其特征在于:所述释放环(2)与埚体(1)接触的端面具有与其同轴的环形凸起(203),埚体(1)的顶端开设有与其同轴且能够供环形凸起(203)插入的环形槽(101),环形凸起(203)的侧壁与环形槽(101)的侧壁之间具有间隙(4)。
3.如权利要求1所述的一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚,其特征在于:所述释放环(2)的高度为50-60mm。
4.如权利要求1所述的一种用于大尺寸重掺单晶硅拉制的石墨坩埚,其特征在于:所述释放环(2)远离埚体(1)的端面为弧形面(201)。
...【专利技术属性】
技术研发人员:马武祥,令狐铁兵,范吉祥,马三宝,张奇,方丽霞,
申请(专利权)人:麦斯克电子材料股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。