精确确定空间像高大小的方法技术

本发明专利技术提出一种精确确定空间像高大小的方法，适用于在对准系统中预先计算空间像高大小，其特征是根据公式计算空间像高大小，其中ｃ１、ｃ２为偏移常数，λ为对准系统所采用光源的波长，ＮＡ为对准系统中光线的数值孔径。本发明专利技术所提供的公式相较于之前的经验公式，能够更为精确地确定空间像高的大小，使得计算出的空间像高值尽可能地贴近实际空间像高值，减少对准工艺拟合过程中信息冗余，提高工作效能。

A method of precisely determining the size of a space

The present invention provides an accurate method to determine the spatial like high size, suitable for space in the pre alignment system in high computing like size, which is calculated according to the formula as high space size, including C1, C2 offset constant, the wavelength of the light used for the lambda NA alignment system, numerical aperture alignment system in light the. Before the empirical formula provided by the invention compared with the formula, can more accurately determine the size of space as high, the calculated space like a high value as much as possible close to the actual space as high value, reduce the redundancy of information technology alignment fitting process, improve work efficiency.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适用于对准工序中的确定采样点的方法，且特别涉及一种通过计算空间像高大小来确定对准工序中的采样点的方法。
技术介绍
在采用光刻机进行集成电路芯片生产过程中，为了实现光刻机期望的精度指标， 需要精确建立光刻机各坐标系之间的关系，使掩模、掩模台、物镜、硅片、硅片台能够在一个 统一的定标系统中工作。对准就是通过硅片台上的对准标记找到掩模或掩模台上标记在透 镜下方所成像的确切位置，使用传感器在水平方向和垂直方向对光强进行扫描采样，通过 对光强数据进行拟合计算，找出最大光强点所在位置。通过对准找到所成像的光强最大位 置就称为对准位置。在对准系统中，照明光源经过物镜系统，会形成一个空间像，这个空间 像的垂向大小即为这个空间像的像高。 在进行采样时，需要足够多的采样点以便为拟合计算提供足够的信息，但由于采 样点的增加，可能带来信息冗余，同时物理实现需要花更长的时间，特别值得注意的是，在 垂直方向上增加一个采样点，物理实现所花时间相对于水平方向增加一个采样点而言更 长。为了提高生产率，垂直方向采样点的计算应尽量精确，除了给拟合计算提供尽量足够的 信息，同时不要花费太长的扫描时间，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种精确确定空间像高大小的方法，用于在对准系统中预先计算空间像高大小，其特征在于，根据公式（２）ａｉｚ＝ｃ↓［１］＋ｃ↓［２］.λ／ＮＡ↑［２］，计算空间像高大小，其中ｃ↓［１］、ｃ↓［２］为偏移常数，λ为对准系统所采用光源的波长，ＮＡ为对准系统中光线的数值孔径。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李欣欣，李运锋，韦学志，宋海军，张勇，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]