掩膜板清洁系统及清洁方法技术方案

本发明专利技术公开了一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩膜板进行清洁，其包括：清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口；开关装置，用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号；清洁装置，位于所述清洁室内，与所述开关装置电连接，根据所述控制信号开启或关闭，用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。本发明专利技术还公开了一种掩膜板的清洁方法。本发明专利技术能够使掩膜板从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中进行在线实时的清洁，保障了基板的质量，进一步提高了产品的良品率和生产效率，节约了成本。

Mask plate cleaning system and cleaning method

The invention discloses a mask plate cleaning system used before the mask exposure, cleaning, the mask includes a cleaning chamber having an opening on both sides of the mask entry; switch device for detecting the mask by generating a control signal; cleaning device. In the clean room, connected with the switch device, according to the control signal of the open or closed, for after the mask of the clean room clean. The invention also discloses a cleaning method for the mask plate. The invention can carry out real-time online cleaning the mask plate from the mask base transfer to mask platform in the process of ensuring the quality of the substrates, further improve product quality and production efficiency, saving cost.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，尤其是涉及一种在掩膜板 从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中，在掩膜板进行曝光之前对掩膜板进 行在线自动清洁的。
技术介绍
在半导体制造尤其是液晶面板生产过程中，阵列工序的曝光工艺中需要采用掩膜板(Mask)对基板进行曝光。掩膜板需要从掩膜板库传递到掩膜板平台进行曝光，在这个传递过程中 很容易受到微粒(Particle)的污染，其中掩膜板的上表面也就是空白面 (Blank Face)的微粒污染，比下表面也就是薄膜面(PelUcle Face)的污 染更影响曝光工艺的质量，因为附着在薄膜面的微粒成像时在焦平面以下， 一般不会影响曝光图案(Pattern)。若将受微粒污染的掩膜板用于曝光工艺，将造成阵列(Array )基板上产 生重复缺陷(R印eat Defect),而这种重复缺陷在曝光(PHOTO)的自动光 学4企测(Automatic Optic Inspection, AOI)中4主4主并不負fe净皮发J见，直到P车 列测试(Array Test)进行电学测试时才能发现，但此时大量基板(Panel) 已经受损，给生产造成重大损失。目前在生产制造时，采取的措施是将本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板清洁系统，用于在掩膜板进行曝光之前，对掩膜板进行清洁，其特征在于包括：　清洁室，其两侧具有掩膜板出入的开口；　开关装置，用于检测所述掩膜板的经过，产生控制信号；　清洁装置，位于所述清洁室内，与所述开关装置电连接， 根据所述控制信号开启或关闭，用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黎午升，鲁成祝，金基用，李斗熙，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]