一种真空镀膜装置制造方法及图纸

本技术涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜装置。包括箱体、隔板、放置板、封闭组件、立板、弹性伸缩组件、升降组件、水平驱动组件、第一抽真空组件以及第二抽真空组件；所述隔板安装于所述箱体内，且所述隔板与所述箱体的顶板之间形成镀膜腔；所述放置板安装于所述隔板下方，以使所述放置板与所述隔板之间形成用于放置待镀膜产品的放置腔；所述隔板上设有用以连通所述镀膜腔以及所述放置腔的连通口；所述封闭组件邻设于所述连通口，用于打开或关闭所述连通口；所述立板安装于所述放置腔内；所述弹性伸缩组件安装于所述立板的两端，以使所述立板的两端弹性抵压于所述隔板以及所述放置板。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜，尤其涉及一种真空镀膜装置。

技术介绍

1、真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积，离子束溅射等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在产品表面，通过成膜过程形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在产品表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

2、现有的真空镀膜设备大多内部都处于一体连通的状态，其内通常包括有镀膜腔以及用于放置产品的放置腔，镀膜腔与放置腔相互连通，工作时，相对镀膜腔以及放置腔进行抽真空处理，待抽真空后镀膜腔工作，镀膜腔内产生原子团或离子，并扩散入放置腔内的产品表面上，最终沉积形成薄膜。由此，实际使用中，由于镀膜腔以及放置腔一体连通，每次对放置腔内取放物品时都需要再次对镀膜腔进行抽真空工作，导致镀膜的效率较慢，且抽真空的成本较高，不适于工业应用；同时，放置腔内本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空镀膜装置，其特征在于：包括箱体、隔板、放置板、封闭组件、立板、弹性伸缩组件、升降组件、水平驱动组件、第一抽真空组件以及第二抽真空组件；所述隔板安装于所述箱体内，且所述隔板与所述箱体的顶板之间形成镀膜腔；所述放置板安装于所述隔板下方，以使所述放置板与所述隔板之间形成用于放置待镀膜产品的放置腔；所述隔板上设有用以连通所述镀膜腔以及所述放置腔的连通口；所述封闭组件邻设于所述连通口，用于打开或关闭所述连通口；所述立板安装于所述放置腔内；所述弹性伸缩组件安装于所述立板的两端，以使所述立板的两端弹性抵压于所述隔板以及所述放置板；所述升降组件与所述放置板相连，用于驱动所述放置板竖向升降，以...

【技术特征摘要】

1.一种真空镀膜装置，其特征在于：包括箱体、隔板、放置板、封闭组件、立板、弹性伸缩组件、升降组件、水平驱动组件、第一抽真空组件以及第二抽真空组件；所述隔板安装于所述箱体内，且所述隔板与所述箱体的顶板之间形成镀膜腔；所述放置板安装于所述隔板下方，以使所述放置板与所述隔板之间形成用于放置待镀膜产品的放置腔；所述隔板上设有用以连通所述镀膜腔以及所述放置腔的连通口；所述封闭组件邻设于所述连通口，用于打开或关闭所述连通口；所述立板安装于所述放置腔内；所述弹性伸缩组件安装于所述立板的两端，以使所述立板的两端弹性抵压于所述隔板以及所述放置板；所述升降组件与所述放置板相连，用于驱动所述放置板竖向升降，以使所述放置腔在竖直方向上扩张或收缩；所述水平驱动组件与所述立板相连，用以驱动所述立板水平移动，以使所述放置腔在水平方向上扩张或收缩；所述第一抽真空组件以及所述第二抽真空组件分别与所述镀膜腔以及所述放置腔相连，用以分别对所述镀膜腔以及所述放置腔抽真空。

2.根据权利要求1所述一种真空镀膜装置，其特征在于：所述封闭组件包括有封闭板以及第一电动伸缩柱；所述封闭板邻设于所述连通口；所述第一电动伸缩柱与所述封闭板相连，用于驱动所述封闭板遮蔽所述连通口，及从所述连通口上移开，以使打开所述连通口。

3.根据权利要求1所述一种真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙鹏，邓光华，
申请(专利权)人：东莞市鹏涛新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：