【技术实现步骤摘要】
本申请涉及液冷结构散热,特别涉及一种液冷结构及电子设备。
技术介绍
1、相关技术中,随着芯片制成能力的提高,电子设备的整体性能不断上升。而电子设备整体性能的提升,通常也意味着功率的增加,内部pcba板上的热流密度进一步提高。pcba板上的电子元器件工作时将会产生更多的热量,假如不能及时地对电子元器件进行散热,将会导致电子元器件的功能下降甚至失效。
2、目前常见的散热方式包括自然散热方式、风冷散热方式和液冷散热方式。其中,自然散热的散热性能有限,只能用于小功耗散热,风冷散热适用于中低功耗散热,而液冷散热是目前最适合高功耗散热的散热方式。液冷散热方式又分为直接液冷和间接液冷。直接液冷散热系统复杂,建设成本高,目前主流液冷散热都是间接液冷散热方式。在液冷散热方案设计中,冷板的性能影响着整体的散热性能,而流道的设计在很大程度上直接影响着冷板的散热性能。传统的液冷结构流道设计主要以平行流道、蛇型流道、树型流道、蜂窝流道等流道形状为主,这类流道要么加工简单、流动阻力小但散热性能差,要么散热性能好但流动阻力大,动力泵成本增加。
【技术保护点】
1.一种液冷结构,其特征在于,包括液冷板,所述液冷板具有流道结构,所述流道结构的平面轮廓由B-DNA双螺旋结构经平面化并放大得到,其中,所述流道结构包括两条相互交错且反向平行的主流道,两条所述主流道之间设置有若干条次级流道,每条所述次级流道的一端与其中一条所述主流道连通,另一端与另一所述主流道连通。
2.根据权利要求1所述的液冷结构,其特征在于,每条所述次级流道的延伸方向与所述流道结构的整体延伸方向垂直。
3.根据权利要求1或2所述的液冷结构,其特征在于,其中一条所述主流道与另一条所述主流道交汇处的倒角为3°~5°。
4.根据权利要
...【技术特征摘要】
1.一种液冷结构,其特征在于,包括液冷板,所述液冷板具有流道结构,所述流道结构的平面轮廓由b-dna双螺旋结构经平面化并放大得到,其中,所述流道结构包括两条相互交错且反向平行的主流道,两条所述主流道之间设置有若干条次级流道,每条所述次级流道的一端与其中一条所述主流道连通,另一端与另一所述主流道连通。
2.根据权利要求1所述的液冷结构,其特征在于,每条所述次级流道的延伸方向与所述流道结构的整体延伸方向垂直。
3.根据权利要求1或2所述的液冷结构,其特征在于,其中一条所述主流道与另一条所述主流道交汇处的倒角为3°~5°。
4.根据权利要求1或2所述的液冷结构,其特征在于,所述主流道的宽度为3~4mm。
5.根据权利要求1或2所述的液冷结构,其特征在于,所述次级流...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈亨达,谢颖熙,李军委,陆龙生,黄珍媛,黄泽强,
申请(专利权)人:华南理工大学,
类型:发明
国别省市:
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