一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法技术

技术编号:41530199 阅读:28 留言:0更新日期:2024-06-03 23:06
本发明专利技术公开了一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,包括以下步骤:步骤S1、将三氧化钨过筛去除钨粉末中的结块;步骤S2、称取过筛后的三氧化钨粉末置于管式炉中并设定好温度;步骤S3、向管式炉中通入氩气将空气排出,待管式炉加热至设定好的温度后,管式炉炉管开启旋转模式;步骤S4、调节氢气露点控制系统的氢气露点至预定值后关闭氩气,将湿氢通入管式炉中进行湿氢还原一段时间,湿氢还原结束后进行干氢还原,一段时间后停止加热,还原完成;步骤S5、将步骤S4所得钨粉通过高能球磨进行解团聚,得到分散均匀的微米级钨粉。本发明专利技术解决了目前干氢还原制备的钨粉存在的细颗粒多,部分颗粒粗大导致的粒度不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于钨粉制备,涉及一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法


技术介绍

1、随着应用环境的变化,对钨合金的性能提出了更高的要求。均匀分散性良好的钨粉有利于制备组织均匀的合金,提高材料导电性能。形貌不规则的钨粉制备的压坯由于其机械啮合作用而具有更高的硬度但均匀性较差,烧结获得的合金致密度较低。钨粉性能及其在合金相中的分布极大程度上决定了材料的性能。然而,目前市售钨粉均匀性不高,这是制备工艺导致的。因此改进还原工艺显得十分必要。

2、由于还原过程反应众多,且钨粉的还原条件不一致,极易导致颗粒之间的反应进程不一致,即导致形核生长的不一致,使粉末粒度分布范围大。调整反应的进程如缩短反应过程,提高还原环境的一致性是改进还原工艺的主要手段。

3、工业制备钨粉的设备主要有管式还原炉和回转还原炉两种,管式还原炉稳定性好,制度切换灵活,可生产细粒度钨粉,但该设备的能效低,产品粒度分布宽。回转炉由于原料一直处于动态过程,原料还原环境差别小,制备的产品粒度分布窄,但该设备同时具有产品易团聚和维护成本高等缺点,因此,还原设备仍有改进空间。

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【技术保护点】

1.一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中氢气露点控制系统包括第一节流阀(1)、第二节流阀(3),所述第一节流阀(1)、第二节流阀(3)的输入端分别与氢气入口相连接;所述第一节流阀(1)的输出端依次连接氢气加湿器(2)、第三节流阀(4)、氢气过滤器(5);所述第二节流阀(3)、氢气过滤器(5)分别连接氢气露点仪(6),氢气露点仪(6)的氢气出口连接管式炉炉管一端。

3.根据权利要求2所述的一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中湿氢...

【技术特征摘要】

1.一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,其特征在于,所述步骤s4中氢气露点控制系统包括第一节流阀(1)、第二节流阀(3),所述第一节流阀(1)、第二节流阀(3)的输入端分别与氢气入口相连接;所述第一节流阀(1)的输出端依次连接氢气加湿器(2)、第三节流阀(4)、氢气过滤器(5);所述第二节流阀(3)、氢气过滤器(5)分别连接氢气露点仪(6),氢气露点仪(6)的氢气出口连接管式炉炉管一端。

3.根据权利要求2所述的一种分散均匀的微米级钨粉的制备方法,其特征在于,所述步骤s4中湿氢还原和干氢还原的具体方法为:调节氢气流量为固定值,开启第一节流阀(1)、氢气加湿器(2)和第三节流阀(4),关闭第二节流阀(3),开启氢气露点仪(6),调整氢气过滤器(5)中分子筛的用量,使氢气露点达到预定值并稳定下来,开始湿氢还原;湿氢还原阶段结束后,关闭第一节流阀(1)、氢气加湿器(2)和第三节流阀(4),开启第二节流阀(3),开始干氢还原,干氢还原完成后关闭氢气,通入氩气至温度降至室温,关闭第二节流阀(3),关闭氢气露点仪(6)。

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【专利技术属性】
技术研发人员:魏民国刘柏雄赵文敏陈廷树伍铭
申请(专利权)人:江西理工大学
类型:发明
国别省市:

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