【技术实现步骤摘要】
本技术涉及氧化镓制备辅助用具，特别涉及一种可调节的氧化镓制备清洗装置。
技术介绍
1、氧化镓，别名三氧化二镓，是一种宽禁带半导体，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意，在光电子器件方面有广阔的应用前景，制备氧化镓的一种方法为，向三氯化镓的热水溶液中加nahco3的高浓热水溶液，煮沸到镓的氢氧化物全部沉淀出来为止，用热水洗涤沉淀至没有cl-为止，在600℃以上煅烧则得到β-ga2o3，残留nh4cl时，在250℃就和ga2o3反应，生成挥发性gacl3，在此制备方法中需要用到清洗装置对镓的氢氧化物沉淀进行冲洗。
2、现有的氧化镓制备用清洗装置在使用时存在以下弊端：现有的氧化镓制备清洗装置在使用时，都是采用单一冲洗的方式进行镓的氢氧化物沉淀的清洁，清洁效率较慢，尤其是在连续生产制备过程中，十分影响制备效率，为此，我们提出一种可调节的氧化镓制备清洗装置。
技术实现思路
1、本技术的主要目的在于提供一种可调节的氧化镓制备清洗装置，通过在箱体顶部设置的调节机构，配合浸泡腔和冲洗...
【技术保护点】
1.一种可调节的氧化镓制备清洗装置，包括箱体(1)，其特征在于，还包括调节机构(2)，所述箱体(1)顶部设置有调节机构(2)，所述调节机构(2)包括浸泡腔(201)、冲洗腔(202)、套管(203)、支杆(206)、顶板(207)、连杆(208)和吊篮(209)，所述箱体(1)内部两侧分别开设有浸泡腔(201)和冲洗腔(202)且箱体(1)顶部中间位置固定连接有套管(203)，所述套管(203)顶部通过支杆(206)活动连接有顶板(207)且顶板(207)两端均安装有插入至箱体(1)内部储装氢氧化物沉淀的吊篮(209)。
2.根据权利要求1所述的一种可调节...
【技术特征摘要】
1.一种可调节的氧化镓制备清洗装置，包括箱体(1)，其特征在于，还包括调节机构(2)，所述箱体(1)顶部设置有调节机构(2)，所述调节机构(2)包括浸泡腔(201)、冲洗腔(202)、套管(203)、支杆(206)、顶板(207)、连杆(208)和吊篮(209)，所述箱体(1)内部两侧分别开设有浸泡腔(201)和冲洗腔(202)且箱体(1)顶部中间位置固定连接有套管(203)，所述套管(203)顶部通过支杆(206)活动连接有顶板(207)且顶板(207)两端均安装有插入至箱体(1)内部储装氢氧化物沉淀的吊篮(209)。
2.根据权利要求1所述的一种可调节的氧化镓制备清洗装置，其特征在于：还包括清洗机构(3)，所述箱体(1)内部设置有清洗机构(3)，所述清洗机构(3)包括进水管(301)、竹节管(302)、喷头(3...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢鹏荐，张威，
申请(专利权)人：海宁拓材科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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