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本技术公开了一种可调节的氧化镓制备清洗装置，包括箱体，还包括调节机构，所述箱体顶部设置有调节机构，所述调节机构包括浸泡腔、冲洗腔、套管、支杆、顶板、连杆和吊篮，所述箱体内部两侧分别开设有浸泡腔和冲洗腔且箱体顶部中间位置固定连接有套管，待处理...
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