IC载板的制备工艺及IC载板制造技术

技术编号:41450374 阅读:50 留言:0更新日期:2024-05-28 20:39
本发明专利技术提供了一种IC载板的制备工艺及IC载板,属于IC载板技术领域,IC载板的制备工艺包括以下步骤:在陶瓷基板上加工多个第一通孔;在陶瓷基板的上下两面分别沉积第一导电金属层;并在第一通孔的内壁上沉积第二导电金属层;将第一导电金属层划分为刻蚀部分和预留部分,在刻蚀部分上设置感光干膜层,以暴露出预留部分;在预留部分内电镀铜层,并形成多对环形铜层;在第二导电金属层围设的柱形区域内填充铜柱,并使铜柱上下延伸;去除感光干膜层,并对感光干膜层覆盖的刻蚀部分进行刻蚀和清洁处理;在陶瓷基板的上下两侧分别叠加线路覆盖层。本发明专利技术提供的IC载板的制备工艺及IC载板具有可靠性高,热传导效率高,且上下层电气互联稳定的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于ic载板,更具体地说,是涉及一种ic载板的制备工艺及ic载板。


技术介绍

1、ic载板是一种用于封装集成电路芯片的基板,因其成本相对较低,制程精度较高,而主要应用于5g通信、人工智能、云计算等领域;现有技术中,需要在有机基板上下两面压合铜箔,然后在有机基板上制备通孔,且为了保证通孔的上下互连,需要利用化镀工艺在侧壁上沉铜,沉铜的厚度远远不能使得通孔充满铜,为了保证有机基板的强度和结构稳定,化镀完成后的通孔需要塞树脂浆料,以增加其结构稳定,填充树脂后,通孔顶端和底部有树脂露出,因此还需要利用化镀,在树脂表面上沉铜,以保证通孔处向上/向下的电气互连,经过上述过程完成了通孔处的工艺;而后再在有机基板设置覆盖层,并打盲孔以设置内部线路。

2、但是,采用传统的有机基板的机械强度和热导率较低,在后续压合线路覆盖层的过程中,容易受到热影响,且ic载板的翘曲度较大,可靠性较低;且由于通孔内部填充有树脂材料,而仅通过树脂表面沉铜进行导电,使得上下层电气互联不稳定。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.IC载板的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的IC载板的制备工艺,其特征在于,所述第一导电金属层(12)和所述第二导电金属层(13)的金属成分主要包括钛元素和铜元素。

3.如权利要求1或2所述的IC载板的制备工艺,其特征在于,通过磁控溅射工艺沉积所述第一导电金属层(12)和所述第二导电金属层(13);所述第一导电金属层(12)和所述第二导电金属层(13)的厚度不超过1μm。

4.如权利要求1所述的IC载板的制备工艺,其特征在于,采用机械或者激光钻孔的方式在所述陶瓷基板(1)上加工所述第一通孔(11);p>

5.如权利...

【技术特征摘要】

1.ic载板的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的ic载板的制备工艺,其特征在于,所述第一导电金属层(12)和所述第二导电金属层(13)的金属成分主要包括钛元素和铜元素。

3.如权利要求1或2所述的ic载板的制备工艺,其特征在于,通过磁控溅射工艺沉积所述第一导电金属层(12)和所述第二导电金属层(13);所述第一导电金属层(12)和所述第二导电金属层(13)的厚度不超过1μm。

4.如权利要求1所述的ic载板的制备工艺,其特征在于,采用机械或者激光钻孔的方式在所述陶瓷基板(1)上加工所述第一通孔(11);

5.如权利要求1所述的ic载板的制备工艺,其特征在于,在步骤s4中所述的设置所述感光干膜层(14)包括:将感光干膜覆盖在所述刻...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨鑫张鹤谢岳杨振涛刘林杰
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第十三研究所
类型:发明
国别省市:

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