【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于流量控制，尤其涉及一种气体裂解源用流量阀系统及流量调节方法。
技术介绍
1、裂解源是分子束外延、原子层沉积和真空表面处理设备和工艺中的关键核心部件，在半导体
，尤其是薄膜沉积领域，部分材料的生长工艺只能采用裂解源，高性能的气体裂解源也是解决化合物半导体界面问题的关键。相较于国外几十年的长期研发和产品迭代，国内化合物半导体产业在整机设备和裂解源等核心部件的技术水平落后于国外先进水平，长期依赖进口。要想实现在化合物半导体产业的突破，摆脱来自国外的限制，高性能裂解源的国产化是必须攻克的难关。
2、目前的气体裂解源供气形式为，将储存在气瓶001内部的纯净气体分子通过调节阀门的开度大小来为气体裂解源提供稳定的气体流量，例如，目前的气体裂解源镀膜系统如图1所示。
3、但目前的气体裂解源采用的现有技术的流量控制阀002基本为简单的流量计，随着裂解时间的增长，气瓶001内部的压力逐渐降低，这时进入裂解源内部的气体流量也就随之减小。气瓶001内的气体量是固定的，随着裂解的进行，气瓶001内部的压力会慢慢下降。随...
【技术保护点】
1.一种气体裂解源用流量阀系统，其特征在于：包括依次相连接的流量传感器、流量阀和气体裂解源，流量传感器的进气口与气瓶连接，流量传感器的出气口与流量阀的进气口连接，流量阀的出气口与气体裂解源的进气口连接；
2.根据权利要求1所述的一种气体裂解源用流量阀系统，其特征在于：所述气体裂解源还包括支撑部、热丝、壳体及其上的文氏结构，前端盖固定在壳体一端，壳体另一端设置文氏结构；支撑部穿过前端盖插入壳体内部的反应腔室内，热丝固定在反应腔室内支撑部的端部；所述导流管为设置在前端盖内部的环形管路，导流管的一端设置有进气管，与导流管相切，作为导流管的进气端。
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【技术特征摘要】
1.一种气体裂解源用流量阀系统，其特征在于：包括依次相连接的流量传感器、流量阀和气体裂解源，流量传感器的进气口与气瓶连接，流量传感器的出气口与流量阀的进气口连接，流量阀的出气口与气体裂解源的进气口连接；
2.根据权利要求1所述的一种气体裂解源用流量阀系统，其特征在于：所述气体裂解源还包括支撑部、热丝、壳体及其上的文氏结构，前端盖固定在壳体一端，壳体另一端设置文氏结构；支撑部穿过前端盖插入壳体内部的反应腔室内，热丝固定在反应腔室内支撑部的端部；所述导流管为设置在前端盖内部的环形管路，导流管的一端设置有进气管，与导流管相切，作为导流管的进气端。
3.根据权利要求2所述的一种气体裂解源用流量阀系统，其特征在于：所述前端盖内部沿周向开设有多个导向孔，导向孔的一端与导流管相通，另一端与壳体内部的反应腔室相通，将导流管内部的总流量进行流动方向的矫正和流量分配。
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