【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开整体涉及光学投影系统，并且更具体地涉及用于投影图案的歪像放大率可调整投影系统。
技术介绍
1、光刻投影系统通常将图案投影到衬底上，以便在微电路和微器件的制造期间在多个阶段选择性地曝光光敏层。精细控制所投影的图案的图像放大率，以在连续曝光中将图案关联。光刻需要将衬底上当前曝光的层与先前曝光的层精确对准。通常通过将衬底与图像对准并且通过投影透镜或掩模位置的调整放大图像来实现覆盖。可期望在不经历图像特性的过度降级的情况下在围绕光轴的任何时钟角方向上提供歪像放大率的调整。
技术实现思路
1、根据本公开的一个实施方案，提供了一种放大率可调整投影系统。所述放大率可调整投影系统包括：成像系统，所述成像系统具有物体空间或图像空间；第一可变形透镜板，所述第一可变形透镜板位于所述物体空间或图像空间内，用于向所述成像系统贡献根据所述第一可变形透镜板的曲率量变化的第一放大倍数；以及第二可变形透镜板，所述第二可变形透镜板位于所述物体空间或图像空间内，用于向所述成像系统贡献根据所述第二可变形透镜板的曲率量变化的第二放大倍数。所述系统还包括：第一弯曲设备，所述第一弯曲设备通过一定范围的曲率变化来调整所述第一可变形透镜板的所述曲率，以用于调整所述成像系统的所述第一放大倍数；以及第二弯曲设备，所述第二弯曲设备通过一定范围的曲率变化来调整所述第二可变形透镜板的所述曲率，以用于调整所述成像系统的所述第二放大倍数，其中所述第一可变形板能够绕基本上垂直于所述成像系统的光轴延伸的第一横向轴线调整，并且所述第二可变形透镜
2、根据本专利技术的另一实施方案，提供了一种放大率可调整投影系统。所述放大率可调整投影系统包括：成像系统，所述成像系统具有物体空间或图像空间和投影透镜组件；第一可变形透镜板，所述第一可变形透镜板位于所述物体空间或图像空间内，用于向所述成像系统贡献根据所述第一可变形透镜板的曲率量变化的第一歪像放大倍数；以及第二可变形透镜板，所述第二可变形透镜板位于所述物体空间或图像空间内，用于向所述成像系统贡献根据所述第二可变形透镜板的曲率量变化的第二歪像放大倍数。所述系统还包括：第一弯曲设备，所述第一弯曲设备通过一定范围的曲率变化来调整所述第一可变形透镜板的所述曲率，以用于调整所述成像系统的所述歪像第一放大倍数；第二弯曲设备，所述第二弯曲设备通过一定范围的曲率变化来调整所述第二可变形透镜板的所述曲率，以用于调整所述成像系统的所述歪像第二放大倍数，其中所述第一可变形板能够绕基本上垂直于所述成像系统的光轴延伸的第一横向轴线调整，并且所述第二可变形板能够绕基本上垂直于所述成像系统的所述光轴延伸的第二横向轴线调整，并且其中所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板取向成使得所述第一横向轴线相对于所述第二横向轴线成大约四十五度(45°)；以及第一旋转校正器板，所述第一旋转校正器板基本上位于所述投影透镜组件的光瞳中并且平行于第二旋转校正器板，其中所述第一旋转校正器板和所述第二旋转校正器板各自具有形状表面并且可相对于彼此移动以校正像散。
3、应当理解，前述一般描述和以下详细描述仅仅是示例性的，并且意图提供用于理解权利要求书的性质和特征的概观或框架。包括附图以提供进一步的理解，并且所述附图并入本说明书并构成其一部分。附图示出一个或多个实施方案，并且连同描述一起用于解释各种实施方案的原理和操作。
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1.一种歪像放大率可调整投影系统，其包括：
2.如权利要求1所述的投影系统，其中所述成像系统还包括投影透镜组件和照射器，所述照射器用于将光束照射穿过所述投影透镜组件并且照射到所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板上。
3.如权利要求2所述的投影系统，其中所述投影透镜组件还包括第一旋转校正器板，所述第一旋转校正器板基本上位于所述投影透镜组件的光瞳中并且平行于第二旋转校正器板，其中所述第一旋转校正器板和所述第二旋转校正器板各自具有形状表面并且能够相对于彼此移动以校正像散。
4.如权利要求3所述的投影系统，其中所述第一旋转校正器板具有第一形状表面，所述第一形状表面相对于所述第二旋转校正器板的第二形状表面旋转。
5.如权利要求4所述的投影系统，其中所述第一形状表面和所述第二形状表面中的每一者基本上是由在圆柱坐标系中定义的第5条纹泽尼克项R2cos(2θ)定义的马鞍形状，其中R是距光轴的距离，并且θ是围绕所述第一旋转校正器板或所述第二旋转校正器板的周边的时钟角。
6.如权利要求4所述的投影系统，其中所述第一旋转校正器板和所述第
7.如权利要求1所述的投影系统，其中所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板的圆柱透镜具有基本上相等的半径。
8.如权利要求1所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备包括单个致动器，所述致动器用于致动位于所述第一透镜板的相反端部上的第一杆和第二杆。
9.如权利要求8所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备和所述第二弯曲设备各自包括第一设备臂，所述第一设备臂使用基本上单自由度的连接件链接到第二设备臂。
10.如权利要求8所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备和所述第二弯曲设备各自包括一个或多个挠性支撑件，所述一个或多个挠性支撑件操作地联接到所述第一杆和所述第二杆，以允许所述可变形板的每个端部的横向距离发生改变。
11.一种歪像放大率可调整投影系统，其包括：
12.如权利要求11所述的投影系统，其中所述成像系统还包括照射器，所述照射器用于将光束照射穿过所述投影透镜组件并且照射到所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板上。
13.如权利要求12所述的投影系统，其中所述投影透镜组件包括多个透镜元件。
14.如权利要求11所述的投影系统，其中所述第一旋转校正器板具有第一形状表面，所述第一形状表面相对于所述第二旋转校正器板的第二形状表面旋转。
15.如权利要求14所述的投影系统，其中所述第一形状表面和所述第二形状表面各自基本上是由在圆柱坐标系中定义的第5条纹泽尼克项R2cos(2θ)定义的马鞍形状，其中R是距光轴的距离，并且θ是围绕所述第一旋转校正器板或所述第二旋转校正器板的周边的时钟角。
16.如权利要求11所述的投影系统，其中所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板的圆柱透镜具有基本上相等的半径。
17.如权利要求14所述的投影系统，其中所述第一旋转校正器板和所述第二旋转校正器板相对于彼此旋转以设定所述像散校正的量值，并且一起旋转以设定所述像散的取向。
18.如权利要求11所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备包括单个致动器，所述致动器用于致动位于所述第一透镜板的相反端部上的第一杆和第二杆。
19.如权利要求18所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备包括第一设备臂，所述第一设备臂使用基本上单自由度的连接件链接到第二设备臂。
20.如权利要求18所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备包括一个或多个挠性支撑件，所述一个或多个挠性支撑件操作地联接到所述第一杆和所述第二杆，以允许所述可变形板的每个端部的横向距离发生改变。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种歪像放大率可调整投影系统，其包括：
2.如权利要求1所述的投影系统，其中所述成像系统还包括投影透镜组件和照射器，所述照射器用于将光束照射穿过所述投影透镜组件并且照射到所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板上。
3.如权利要求2所述的投影系统，其中所述投影透镜组件还包括第一旋转校正器板，所述第一旋转校正器板基本上位于所述投影透镜组件的光瞳中并且平行于第二旋转校正器板，其中所述第一旋转校正器板和所述第二旋转校正器板各自具有形状表面并且能够相对于彼此移动以校正像散。
4.如权利要求3所述的投影系统，其中所述第一旋转校正器板具有第一形状表面，所述第一形状表面相对于所述第二旋转校正器板的第二形状表面旋转。
5.如权利要求4所述的投影系统，其中所述第一形状表面和所述第二形状表面中的每一者基本上是由在圆柱坐标系中定义的第5条纹泽尼克项r2cos(2θ)定义的马鞍形状，其中r是距光轴的距离，并且θ是围绕所述第一旋转校正器板或所述第二旋转校正器板的周边的时钟角。
6.如权利要求4所述的投影系统，其中所述第一旋转校正器板和所述第二旋转校正器板相对于彼此旋转以设定所述像散校正的量值，并且一起旋转以设定所述像散的取向。
7.如权利要求1所述的投影系统，其中所述第一可变形透镜板和所述第二可变形透镜板的圆柱透镜具有基本上相等的半径。
8.如权利要求1所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备包括单个致动器，所述致动器用于致动位于所述第一透镜板的相反端部上的第一杆和第二杆。
9.如权利要求8所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备和所述第二弯曲设备各自包括第一设备臂，所述第一设备臂使用基本上单自由度的连接件链接到第二设备臂。
10.如权利要求8所述的投影系统，其中所述第一弯曲设备和所述第二弯曲设备各自包括一个或多个挠性支撑件，所述一个或...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗伯特·丹尼斯·格雷达，布莱恩·门罗·麦克马斯特，保罗·弗朗西斯·米查洛斯基，
申请(专利权)人：康宁公司，
类型：发明
国别省市：
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