【技术实现步骤摘要】
本专利技术为关于光束变换元件，光学照明装置，曝M置，以及曝光方法，特别是关于用光刻蚀刻工程制造半导体元件，摄影元件液晶显示元件，薄膜磁头等的微元件之际，其所使用的曝光装置适用的光学照明装置。
技术介绍
此种典型的曝光装置，由光源射出的光束，透过光学积分器(opticalintegrator)及錄眼透4竟(fly-eye lens),由多数的光源形成实质的面光源的二次光源。二次光源(一般为光学照明装置的照明瞳或在其近傍形成的照明瞳分布)照出的光束，经配置在蝇眼透镜的后侧焦点面近傍的开口光圏限制后，射入聚光透4竟(condenser lens )。由该聚光透镜聚集的光束，重叠地照明己形成所定的图案的掩膜。透过该掩膜的图案的光，通过光学投影系统在晶圓(wafer)上成像。如此，掩膜图案投影曝光(复制)到晶片上。又，在掩膜形成的图案己被高度积体化，该微细图案要正确地复制到晶片上，在晶片上有均匀的照明度分布是不可缺的。例如在本申请人提出申请的日本专利第3246615号公^艮中有揭露，为实现能将任意方向的微细图案，忠实地复制之合适的照明条件，在蝇眼透镜的后侧焦点面形成轮胎状...
【技术保护点】
一种光学照明装置，适用在使用投影光学系统将掩膜的图案投影曝光到感光性基板的投影曝光装置中，所述光学照明装置基于来自供给直线偏光的光束的光源的光束，而对于所述掩膜进行照明，所述光学照明装置的特征在于其包括： 第１部分，位于将所述光学照明 装置的光轴进行横切的面内的第１区域，且所述第１部分变更来自所述光源的光的进行方向而射出； 第２部分，位于将所述光学照明装置的光轴进行横切的面内、与所述第１区域不同的第２区域，且所述第２部分变更来自所述光源的光的进行方向而射出；以及 偏光元件，配置在：将所述第１区域与所述第２区域所在位置的所述光学照明装置的光轴进行横...
【技术特征摘要】
JP 2003-11-20 2003-3906741、一种光学照明装置，适用在使用投影光学系统将掩膜的图案投影曝光到感光性基板的投影曝光装置中，所述光学照明装置基于来自供给直线偏光的光束的光源的光束，而对于所述掩膜进行照明，所述光学照明装置的特征在于其包括第1部分，位于将所述光学照明装置的光轴进行横切的面内的第1区域，且所述第1部分变更来自所述光源的光的进行方向而射出；第2部分，位于将所述光学照明装置的光轴进行横切的面内、与所述第1区域不同的第2区域，且所述第2部分变更来自所述光源的光的进行方向而射出；以及偏光元件，配置在将所述第1区域与所述第2区域所在位置的所述光学照明装置的光轴进行横切的所述面、与所述光源之间，所述偏光元件使供给到所述第1部分与所述第2部分的光束的、在将所述光学照明装置的光轴进行横切的所述面内的直线偏光的偏光方向的分布成为不均一的偏光分布。2、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光元件是凹凸状的光学元件。3、 根据权利要求2所述的光学照明装置，其特征在于 所述凹凸状的光学元件是由水晶形成。4、 根据权利要求3所述的光学照明装置，其特征在于 形成所述凹凸状的光学元件的水晶的结晶光学轴平行于所述光学照明装置的所述光轴。5、 根据权利要求2所述的光学照明装置，其特征在于 所述凹凸状的光学元件是利用具有旋光性的光学材料而形成。6、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光元件在沿着光的透过方向的方向中的厚度互异。7、 根据权利要求6所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光元件的多个部分是沿着将所述光轴进行横切的面内而进行配置。8、 根据权利要求7所述的光学照明装置，其特征在于 将所述光学照明装置的光轴进行横切的所述面内的直线偏光的偏光方向的分布是所述偏光元件的所述多个部分中的l个部分所射出的直线偏光的方向、 与所述偏光元件的所述多个部分中的另 一个部分所射出的直线偏光的方向 为互异的分布。9、 根据权利要求8所述的光学照明装置，其特征在于 来自于所述第1部分而射出的所述直线偏光的所述偏光方向、与来自 于所述另一个部分而射出的所述直线偏光的所述偏光方向为互相垂直。10、 ...
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