【技术实现步骤摘要】
本专利技术为关于光束变换元件，光学照明装置，曝光装置，以及曝光方法，特 别是关于用光刻蚀刻工程制造半导体元件，摄影元件液晶显示元件，薄膜 磁头等的微元件之际，其所使用的曝光装置适用的光学照明装置。
技术介绍
此种典型的曝光装置，由光源射出的光束，透过光学积分器(optical integrator)及錄眼透镜(fly-eye lens)，由多数的光源形成实质的面光 源的二次光源。二次光源(一般为光学照明装置的照明瞳或在其近傍形成的 照明瞳分布)照出的光束，经配置在蝇眼透镜的后侧焦点面近傍的开口光圈 限制后，射入聚光透镜(condenser lens )。由该聚光透镜聚集的光束，重叠地照明己形成所定的图案的掩膜。透过 该掩膜的图案的光，通过光学投影系统在晶圆(wafer)上成像。如此，掩 膜图案投影曝光(复制)到晶片上。又，在掩膜形成的图案己被高度积体化， 该微细图案要正确地复制到晶片上，在晶片上有均匀的照明度分布是不可 缺的。例如在本申请人提出申请的日本专利第3246615号公报中有揭露，为实 现能将任意方向的微细图案，忠实地复制之合适的照明条件，在蝇眼透镜的 ...
【技术保护点】
一种光学照明装置，适用在将配置在被照射面的掩膜的图案转写到感光性基板的曝光装置中，所述光学照明装置基于来自光源的照明光而对所述被照射面进行照明，所述光学照明装置的特征在于包括： 旋转三棱镜，配置在所述照明光的光路；以及 偏光变换 光学元件，设置于所述光源与所述配照射面之间的光路，所述偏光变换光学元件是利用具有旋光性的结晶光学材料所形成，且所述偏光变换光学元件将入射的直线偏光状态的光变换成在周方向具有偏光方向的周方向偏光状态的光。
【技术特征摘要】
JP 2003-11-20 2003-3906741、一种光学照明装置，适用在将配置在被照射面的掩膜的图案转写到感光性基板的曝光装置中，所述光学照明装置基于来自光源的照明光而对所述被照射面进行照明，所述光学照明装置的特征在于包括旋转三棱镜，配置在所述照明光的光路；以及偏光变换光学元件，设置于所述光源与所述配照射面之间的光路，所述偏光变换光学元件是利用具有旋光性的结晶光学材料所形成，且所述偏光变换光学元件将入射的直线偏光状态的光变换成在周方向具有偏光方向的周方向偏光状态的光。2、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光变换光学元件配置在所述旋转三棱镜的所述光源侧的光路中。3、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于 ——所述旋转三棱镜包括凹圆锥棱镜元件，向光的射出侧为凹面；以及 凸圆锥棱镜元件，向光的射入侧为凸面。4、 根据权利要求3所述的光学照明装置，其特征在于所述凹圓锥棱镜元件与所述凸圆锥棱镜元件的间隔为可变。5、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光变换光学元件，在光的透过方向所测定的厚度是具有可变的厚度分布。6、 根据权利要求5所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光变换光学元件的所述厚度分布设定成将在单一方向中具有偏光方向的直线偏光状态的光变换成在周方向中 具有偏光方向的周方向偏光状态的光。7、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于所述结晶光学材料的结晶光学轴朝向与所述光学照明装置的光轴为一 致的方向。8、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于 所述偏光变换光学元件射出在所述周方向中持有偏光方向的直线偏光，且所述光学照明装置的瞳中的偏光状态为在以光轴为中心的轮胎状区 域中，以所述光轴为中心而在圆周方向持有偏光方向的直线偏光状态。9、 根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于还包括 光学积分器，配置在所述旋转三棱镜的所述被照射面侧的光路中。10、 根据权利要求9所述的光学照明装置，其特征在于还包括 配置在所述旋转三棱镜的所述光源...
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