【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于平面二维位移精密测量传感器,具体涉及一种绝对式平面二维时栅位移传感器。
技术介绍
1、精密位移测量技术广泛应用于数控机床、芯片制造、计量检测、航空航天和国防军工等各个精密运动控制领域。现有平面二维位移传感器主要有平面二维光栅位移传感器、基于电容原理的二维位移传感器、基于电磁感应原理的二维位移传感器等;其中,应用最为广泛的是平面二维光栅位移传感器,其具有精度高、量程大、分辨率高、动态性能好等优点,但其主要依赖超精密的栅距刻划程度,目前工艺已趋于极限,精度很难再有进一步突破,且其成本较高、抗油污能力较弱。基于电容原理的二维位移传感器采用非接触式测量,具有无摩擦、无磨损、无惰性的特点,其信噪比大、灵敏度高、分辨率高、精度稳定性好,但其量程一般较小、抗干扰能力较弱,并且两个方向的位移测量需要复杂的解耦运算。
2、近些年国内研制出了一种基于电磁感应原理并以时钟脉冲作为位移测量基准的平面二维时栅位移传感器,其不依赖空间精密刻线便能实现高分辨力与高精度的位移测量。目前,已研制的平面二维时栅位移传感器以增量式为主,其存在累计误
...【技术保护点】
1.一种绝对式平面二维时栅位移传感器,包括定尺(1)和与定尺平行正对且留有安装间隙的动尺(2),所述定尺(1)包括定尺基体(10)和设在定尺基体(10)上的激励单元,所述动尺(2)包括动尺基体(20)和设在动尺基体(20)上的感应单元;其特征在于:
2.根据权利要求1所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:
5.根据权利要求3所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:所述n
...【技术特征摘要】
1.一种绝对式平面二维时栅位移传感器,包括定尺(1)和与定尺平行正对且留有安装间隙的动尺(2),所述定尺(1)包括定尺基体(10)和设在定尺基体(10)上的激励单元,所述动尺(2)包括动尺基体(20)和设在动尺基体(20)上的感应单元;其特征在于:
2.根据权利要求1所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:
5.根据权利要求3所述的绝对式平面二维时栅位移传感器,其特征在于:所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨继森,修府,张静,秦小东,张显豪,
申请(专利权)人:重庆理工大学,
类型:发明
国别省市:
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