System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺制造技术_技高网

一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺制造技术

技术编号:41363392 阅读:8 留言:0更新日期:2024-05-20 10:12
本发明专利技术涉及高分子复合材料领域,具体为一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备方法。本发明专利技术将磷酸和八氟‑1,6‑己二醇混合,通过酯化反应生成含氟磷酸酯,再与三聚氰胺反应得到含氟磷酸酯三聚氰胺盐;将γ‑氨丙基三乙氧基硅烷和丁二酸酐反应,并对纳米二氧化硅进行修饰,在二氧化硅表面引入羧基;同时在缩合剂二环己基碳二亚胺的作用下将含氟磷酸酯三聚氰胺盐接枝到羧基化二氧化硅表面,从而得到改性二氧化硅;将改性二氧化硅与聚氨酯进行混炼、切片得到聚氨酯抛光片。本发明专利技术制备的聚氨酯抛光片耐磨性能优异,同时具有良好的阻燃效果和拉伸强度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高分子复合材料,具体为一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺


技术介绍

1、聚氨酯抛光材料是以聚氨酯微孔泡沫材料为基体,通过在其中填充固体调料制成的复合材料。根据聚氨酯原料和配方的变化,可以加工制成软质、半硬质、硬质系列的抛光材料,并将其应用于光学零件、玻璃制造、汽车生产、机械加工、木工及五金业等各个行业。

2、与古典法的毛毡和布轮抛光相比,聚氨酯抛光材料具有面形稳定、适应面广、环境污染小、制模简便、使用寿命长、抛光效率高、产品质量稳定等优点,因次备受工业界重视。为了进一步提高抛光片的使用效果和使用寿命,非常有必要专利技术一种高耐磨的聚氨酯抛光片。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为了解决上述技术问题,本专利技术提供如下技术方案:一种高耐磨的聚氨酯抛光片及其制备工艺,包括以下步骤:

3、步骤1:

4、将磷酸和八氟-1,6-己二醇混合,升温至120~130℃进行酯化反应1~2h生成含氟磷酸酯;将含氟磷酸酯和三聚氰胺混合,在80~95℃下反应1~2h,得到含氟磷酸酯三聚氰胺盐;

5、步骤2:

6、将硅烷偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷和丁二酸酐混合,均匀分散在n,n-二甲基甲酰胺中,搅拌2~3h后,向其中加入纳米二氧化硅微球,超声分散后3~5h,乙醇清洗、干燥得到羧基化二氧化硅;

7、步骤3:

8、将含氟磷酸酯三聚氰胺盐和羧基化二氧化硅混合,分散在乙醇溶液中,加入磷酸-柠檬酸缓冲液调节体系ph值,升温加入二环己基碳二亚胺,反应得到改性二氧化硅;

9、步骤4:

10、将异佛尔酮异氰酸酯、聚乙二醇、1,4-丁二醇、二丁基锡二月桂酸酯、抗氧化剂混合搅拌1~3h,在-0.3~-0.1kpa下真空脱水,反应后加入改性二氧化硅,混炼得到高耐磨聚氨酯弹性体;对聚氨酯弹性体切片、包装得到成品。

11、进一步的,步骤1中,磷酸和八氟-1,6-己二醇的摩尔比为1:1。

12、进一步的,步骤1中,含氟磷酸酯和三聚氰胺按摩尔比(1~2):1。

13、进一步的,步骤2中,硅烷偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷、丁二酸酐、纳米二氧化硅微球的质量比为(22~25):(100~103):(15~18)。

14、进一步的,步骤3中,改性二氧化硅的具体制备方法为:取3~5份含氟磷酸酯三聚氰胺盐和8~12份羧基化二氧化硅混合,分散在50~80份乙醇溶液中,加入磷酸-柠檬酸缓冲液调节体系ph值至4.0~6.5,升温至50~75℃后在2~3h内滴加22~27份二环己基碳二亚胺,反应0.5~1h,得到改性二氧化硅。

15、进一步的,步骤4中,高耐磨聚氨酯弹性体中各组分含量,按重量份数计,100~105份异佛尔酮异氰酸酯、180~195份聚乙二醇、45~60份1,4-丁二醇、8~12份二丁基锡二月桂酸酯、2~4份抗氧化剂、55~64份改性二氧化硅。

16、进一步的,步骤4中,反应温度为120~140℃;反应时间为3~5h。

17、进一步的,步骤4中,混炼温度为120~140℃;混炼时间为2~5h。

18、与现有技术相比,本专利技术所达到的有益效果是:本专利技术先对二氧化硅表面进行羧基化处理后,再与含氟磷酸酯三聚氰胺盐反应,得到改性二氧化硅;将改性二氧化硅与聚氨酯混合,制得高耐磨聚氨酯抛光片。在制备含氟磷酸酯三聚氰胺盐时,先将磷酸和八氟-1,6-己二醇反应得到含氟磷酸酯,将含氟磷酸酯与三聚氰胺反应,由于含氟磷酸酯中含有大量的氟元素,氟元素具有良好的阻燃效果,能够阻燃火焰的形成和蔓延;同时,含氟磷酸酯三聚氰胺盐中含有磷、氮元素,与氟元素协同阻燃,提高聚氨酯的防火阻燃效果。

19、需要说明的是,八氟-1,6-己二醇含有两个羟基,通过控制反应物磷酸和八氟-1,6-己二醇物质的量1:1,能够确保含氟磷酸酯上剩余一个羟基未反应,使其能够与聚氨酯中的异氰酸酯基团反应,提高相容性;此外,制备氟磷酸酯三聚氰胺盐,需要将含氟磷酸酯与三聚氰胺的物质的量控制在(1~2):1,从而确保有三聚氰胺上多余未反应的氨基参与到羧基化二氧化硅表面接枝改性中,进而赋予二氧化硅阻燃性能,提高其与聚氨酯的相容性。

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【技术保护点】

1.一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤1中,硅烷偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷、丁二酸酐、纳米二氧化硅微球的质量比为(22~25):(100~103):(15~18)。

3.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤2中,改性二氧化硅的具体制备方法为:取3~5份含氟磷酸酯三聚氰胺盐和8~12份羧基化二氧化硅混合,分散在50~80份乙醇溶液中,加入磷酸-柠檬酸缓冲液调节体系pH值至4.0~6.5,升温至50~75℃后在2~3h内滴加22~27份二环己基碳二亚胺,反应0.5~1h,得到改性二氧化硅。

4.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤2中,含氟磷酸酯三聚氰胺盐的制备方法为:将磷酸和八氟-1,6-己二醇混合,升温至120~130℃进行酯化反应1~2h生成含氟磷酸酯;将含氟磷酸酯和三聚氰胺混合,在80~95℃下反应1~2h,得到含氟磷酸酯三聚氰胺盐。

5.根据权利要求4所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:磷酸和八氟-1,6-己二醇的摩尔比为1:1。

6.根据权利要求4所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:含氟磷酸酯和三聚氰胺的摩尔比为(1~2):1。

7.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤3中,高耐磨聚氨酯弹性体中各组分含量,按重量份数计,100~105份异佛尔酮异氰酸酯、180~195份聚乙二醇、45~60份1,4-丁二醇、8~12份二丁基锡二月桂酸酯、2~4份抗氧化剂、55~64份改性二氧化硅。

8.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤3中,反应温度为120~140℃;反应时间为3~5h。

9.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤3中,混炼温度为120~140℃;混炼时间为2~5h。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺制备得到的聚氨酯抛光片。

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【技术特征摘要】

1.一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤1中,硅烷偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷、丁二酸酐、纳米二氧化硅微球的质量比为(22~25):(100~103):(15~18)。

3.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤2中,改性二氧化硅的具体制备方法为:取3~5份含氟磷酸酯三聚氰胺盐和8~12份羧基化二氧化硅混合,分散在50~80份乙醇溶液中,加入磷酸-柠檬酸缓冲液调节体系ph值至4.0~6.5,升温至50~75℃后在2~3h内滴加22~27份二环己基碳二亚胺,反应0.5~1h,得到改性二氧化硅。

4.根据权利要求1所述的一种高耐磨的聚氨酯抛光片的制备工艺,其特征在于:步骤2中,含氟磷酸酯三聚氰胺盐的制备方法为:将磷酸和八氟-1,6-己二醇混合,升温至120~130℃进行酯化反应1~2h生成含氟磷酸酯;将含氟磷酸酯和三聚氰胺混合,在80~95℃下反应1~2h,得到含氟磷酸酯三聚氰胺盐。...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘浩齐文斌赵朝阳伏彪靳祥娟
申请(专利权)人:上海鹤城高分子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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