本发明专利技术提供如下的荧光Ｘ射线分析装置：通过与过去的测定结果信息的比较，能够进行容易的变化点管理。荧光Ｘ射线分析装置具有：输入部，其输入用于确定被测定物的特定信息；摄像部，其取得所述被测定物的测定部位图像；显示部，其在荧光Ｘ射线的测定后，至少显示被测定物的分析结果；以及数据库，其存储与所述特定信息对应的过去的测定信息，所述测定信息包含被测定物的测定部位图像和分析结果，所述显示部在荧光Ｘ射线的测定条件设定时，至少能够同时显示由所述摄像部得到的所述被测定物的测定部位图像、和存储在所述数据库中的测定信息中的与由所述输入部输入的特定信息对应的测定信息包含的所述被测定物的过去测定时的测定部位图像。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及物质的荧光x射线分析装置。特别涉及由各种组分构成的混入电气/电子设备所使用的部件中的环境负荷物质的荧光X射线分析装置。
技术介绍
近年来，已经有人指出构成电气/电子设备的部件内含有的环境负荷 物质的危险性，并且，通过法律/法令来限制这些环境负荷物质的含量的国家或州的数量正在不断增加。例如，从1996年起，在EU各国中，通 过RoHS指令，禁止使用含有1000ppm (Cd为lOOppm)以上的镉(Cd)、 铅、水银、特定溴系阻燃剂、六价铬的部件。并且，中国和美国等也已 开始施行同样的法律。为此，电气/电子设备制造商必须确认在各部件中 不含有限制值以上的环境负荷物质。作为测定元素含量的方法， 一般使用具有几十ppm的灵敏度、能够 以非破坏的方式在较短时间内进行测定的荧光X射线分析器。荧光X射线分析是指，对被测定物照射X射线，通过测定从被测定 物发出的荧光X射线，来分析被测定物的元素含量。在使用这种分析方 法的分析装置中， 一般公知有对被测定物中包含的元素的浓度进行定量 的步骤。首先，设定荧光X射线的测定时间，开始测定。在经过设定时 间后，根据测定结果进行含有元素的浓度计算。然后，显示结果。与此 相对，例如如专利文献1所公开的那样，还存在如下方法不是仅通过 设定时间来结束测定结束点，而是在荧光X射线的实测值的偏差达到预 先设定的测定精度以下的时点结束测定，进行浓度计算并显示结果。专利文献1国际公开第2005/106440号手册利用上述方法测定后，与被测定物的名称和批量编号一起，将显示4被测定物在装置上的放置状况的图像、测定条件、测定数据、其它附加 信息保存在装置附属的数据保存部分中。在电气/电子设备制造商中，为了确认在各使用部件中不含有限制值 以上的环境负荷物质，即使是有测定实绩的部件，也需要进行取样等并定期进行测定。但是，在以电镀品或芯片部件为代表的由2种以上的部 件构成的复合部件中，由于测定时的测定条件或部件的放置方法不同， 有时测定结果不同。由此，需要使这些条件与上次测定时相同，以时间 序列排列定期的测定结果等，进行表示制造上的异常等的变化点管理。-但是，为了进行上述管理，在现有的荧光X射线分析装置中是困难 的。例如，在要对新的纳入部件进行测定的情况下，需要向纸等输出过 去的测定条件和测定图像， 一边确认信息一边进行测定条件和部件的放 置。并且，当要确认过去的多个测定结果时，必须从庞大的纸信息中提 取参考数据。因此，存在一个部件的测定条件和部件的放置非常花费时 间的课题。
技术实现思路
本专利技术正是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供如下的荧光X射线分析装置通过与过去的测定信息的比较，能够进行容易的变化 点管理。本专利技术的荧光X射线分析装置向被测定物照射X射线，通过测定从 所述被测定物产生的荧光X射线，来分析所述被测定物的构成元素，其采用如下结构该荧光X射线分析装置具有输入部，其输入用于确定 被测定物的特定信息；摄像部，其取得所述被测定物的测定部位图像； 显示部，其在荧光X射线的测定后，至少显示所述被测定物的分析结果； 以及数据库，其存储与特定信息对应的过去的测定信息，所述测定信息 包含被测定物的测定部位图像和分析结果，所述显示部在荧光X射线的 测定条件设定时，至少能够同时显示由所述摄像部得到的所述被测定物 的测定部位图像、和存储在所述数据库中的测定信息中的与由所述输入 部输入的特定信息对应的测定信息包含的所述被测定物的过去测定时的测定部位图像。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述输入部能够按照至少由上位层级和下位层级构成的多个不同层级，分类输入所述被 测定物的多个所述特定信息，并且，所述数据库能够按照上述多个不同 层级，分类存储多个所述特定信息。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，当由所述输入部输入所述特定信息时，所述显示部能够一览显示多个与所述特定信息对 应的所述被测定物的过去的所述测定部位图像。进而，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述显示部能够按照测定日期时间从旧到新的测定部位的顺序，排列显示一览显示的所 述被测定物的过去的所述测定部位图像。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述测定信息还包含与所述被测定物对应的测定时的测定需要时间，所述显示部在测定 时能够显示从与所述被测定物对应的过去的所述测定需要时间中减去测 定时的测定经过时间后得到的测定剩余时间。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述测定信息还包含所述被测定物的测定条件的信息，所述显示部在荧光X射线的测定条件设定时，还显示与所述特定信息对应地存储在所述数据库中的测定 信息中的所述被测定物的过去测定时的测定条件。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述显示部在荧光X射线的测定后，在画面上同时显示与所述特定信息对应地存储在所述数据库中的测定信息中的所述被测定物的过去测定时的分析结果。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，该荧光x射线分析装置还具有判定部，该判定部判定所述被测定物的构成元素中的特定 物质的含量是否超过规定阈值，所述分析结果包含所述判定部的判定结果，所述显示部在荧光x射线的测定后还显示所述判定结果，所述输入部能够编辑所述判定结果。进而，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述输入部在所述编辑时能够输入该编辑的理由，所述显示部能够显示所述编辑前的所述判定结果和所述编辑的理由。并且，本专利技术的荧光x射线分析装置的特征在于，所述特定物质是由RoHS指令限制的环境负荷物质。根据本专利技术的荧光X射线分析装置，能够提供如下的荧光X射线分 析装置通过与过去的测定结果信息的比较，能够进行容易的变化点管 理。附图说明图1是本专利技术的实施方式1的荧光X射线分析装置的概略结构图。 图2是用于说明本专利技术的实施方式1的荧光X射线分析装置的动作 的流程图。图3是示出本专利技术的实施方式1的荧光X射线分析装置的测定条件 设定时的显示部的图。图4是示出本专利技术的实施方式1的荧光X射线分析装置的测定后的 显示部的图。图5是本专利技术的实施方式2的荧光X射线分析装置的概略结构图。 图6是用于说明本专利技术的实施方式2的荧光X射线分析装置的动作 的流程图。图7是示出本专利技术的实施方式2的荧光X射线分析装置的测定后的 显示部的图。图8是本专利技术的实施方式3的荧光X射线分析装置的概略结构图。 图9是示出本专利技术的实施方式3的荧光X射线分析装置的测定后的 显示部的图。图10是用于说明本专利技术的实施方式4的荧光X射线分析装置的动作 (特定信息的设定准备)的流程图。图11是用于说明本专利技术的实施方式4的荧光X射线分析装置的动作 (测定时的特定信息输入)的流程图。图12是示出本专利技术的实施方式4的荧光X射线分析装置中的特定信 息的输入项目的输入栏显示的图。7图13是用于说明本专利技术的实施方式5的荧光X射线分析装置的动作 (特定信息的选择)的流程图。图14是示出本专利技术的实施方式5的荧光X射线分析装置中的列表显 示部(列表显示单元)的图。图15是示出本专利技术的实施方式5的荧光X射线分析装置中的被测定 物的立体图。图16是示出本专利技术的实施方式5的荧光X射线分析装置中的列表显 示部(列表显示单元)的显示变化的说明图。图17是示出本专利技术的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种荧光Ｘ射线分析装置，该荧光Ｘ射线分析装置向被测定物照射Ｘ射线，通过测定从所述被测定物产生的荧光Ｘ射线，来分析所述被测定物的构成元素，其特征在于，该荧光Ｘ射线分析装置具有： 输入部，其输入用于确定被测定物的特定信息； 摄像部，其取得所述被测定物的测定部位图像； 显示部，其在荧光Ｘ射线的测定后，至少显示所述被测定物的分析结果；以及 数据库，其存储与特定信息对应的过去的测定信息， 所述测定信息包含被测定物的测定部位图像和分析结果， 所述显示部在荧光Ｘ射线的测定条件设定时，至少能够同时显示由所述摄像部得到的所述被测定物的测定部位图像、和存储在所述数据库中的测定信息中的与由所述输入部输入的特定信息对应的测定信息包含的所述被测定物的过去测定时的测定部位图像。
【技术特征摘要】
JP 2008-8-28 2008-219147;JP 2009-8-24 2009-1927611.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置向被测定物照射X射线，通过测定从所述被测定物产生的荧光X射线，来分析所述被测定物的构成元素，其特征在于，该荧光X射线分析装置具有输入部，其输入用于确定被测定物的特定信息；摄像部，其取得所述被测定物的测定部位图像；显示部，其在荧光X射线的测定后，至少显示所述被测定物的分析结果；以及数据库，其存储与特定信息对应的过去的测定信息，所述测定信息包含被测定物的测定部位图像和分析结果，所述显示部在荧光X射线的测定条件设定时，至少能够同时显示由所述摄像部得到的所述被测定物的测定部位图像、和存储在所述数据库中的测定信息中的与由所述输入部输入的特定信息对应的测定信息包含的所述被测定物的过去测定时的测定部位图像。2. 根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于， 所述输入部能够按照至少由上位层级和下位层级构成的多个不同层级，分类输入所述被测定物的多个所述特定信息，并且，所述数据库能 够按照上述多个不同层级，分类存储多个所述特定信息。3. 根据权利要求1或2所述的荧光X射线分析装置，其特征在于， 当由所述输入部输入所述特定信息时，所述显示部能够一览显示多个与所述特定信息对应的所述被测定物的过去的所述测定部位图像。4. 根据权利要求3所述的荧光X射线分析装置，其特征在于， 所述显示部能够按照测定日期时间从旧到新的测定部位...
【专利技术属性】
技术研发人员：长谷川清，小泽哲郎，
申请(专利权)人：精工电子纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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