【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微波等离子体，更具体的是涉及微波等离子体清洗设备。
技术介绍
1、镀膜生产中，往往会用到工装夹具，然而工装夹具在镀膜生产时同样会被镀膜，工作几轮后，工装夹具上膜层越来越厚，进而影响产品的镀膜质量，这就需要对工装夹具进行清洗，传统方式以喷砂和酸洗为主。现有专利公开了如下技术：
2、公开号为cn115463889a，专利名称为“镀膜工装的清洗方法”的专利公开了如下内容：其包括：步骤一，将镀膜工装固定；步骤二，将固定的镀膜工装一次放入化学清洗剂内浸泡；步骤三，将浸泡后的镀膜工装一次放入超声波常温纯水槽内超声清洗；步骤四，将超声波后的镀膜工装二次放入化学清洗剂内浸泡；步骤五，将浸泡后的镀膜工装二次放入超声波常温纯水槽内超声清洗；步骤六，将超声清洗后的镀膜工装在洁净烤箱内烘烤。通过本申请的方法可降低加工成本，化学清洗剂可重复使用；可降低人员劳动强度；镀膜工装清洗良率在100％；可增加镀膜工装使用寿命；可杜绝镀膜因工装洁净度产生的一些品质不良。
3、传统的喷砂会极大损伤工装夹具表面，不易重复利用，且复杂结构的工装无法用喷砂完成清洗；上述专利的酸洗方式清洗时间长，工艺复杂，且会带来残液处理的环保等问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于：为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种微波等离子体清洗设备。适用于镀膜设备的工装夹具，可以实现简单快捷低成本的清洗，同时可以实现镀膜清洗一机两用。
2、本专利技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案：p>
3、本专利技术提供一种微波等离子体清洗设备，包括设备外框、设置在设备外框内的等离子体反应腔、设置在等离子体反应腔内的能够旋转的挂架以及至少两个微波辐射天线组件，等离子体反应腔为真空腔，挂架用于挂接待清洗的工装夹具。
4、具体来说，本方案中微波辐射天线组件产生的微波空间耦合到等离子体反应腔的真空腔内，形成超大面积微波等离子体，利用微波等离子体的强活性，对镀膜工装夹具或镀膜工件进行干法清洗还原，对传统工艺的改进提升，本方案还可以用作微波等离子体镀膜清洗一体机，平时用于镀膜工艺，当腔体内和工装夹具上膜层过厚时，可以实现在线清洗，无需转运工装和拆机。
5、且本方案可以有效完成环氧以及其他有机涂层、金属氧化涂层、碳基涂层等的干法清洗，生成物为二氧化碳和水，并由真空泵抽出腔体，无污染无残留。
6、在一个实施方式中，所有微波辐射天线组件分为两组，两组微波辐射天线组件呈上下交错方式布置在设备外框的外壁上，相邻的两个微波辐射天线组件在水平方向的投影部分重合，设备外框外壁上设置有多条与多个微波辐射天线组件一一对应的辐射开口。
7、具体来说，以微波辐射天线组件的数量六个为例，每组微波辐射天线组件的数量三个，将六个微波辐射天线组件以上下交错的方式布置在设备外框上，创建一个等离子体区域。在该区域内，有一个物料区用于放置待处理物料。一旦开始旋转，物料区将呈现均匀清洗的效果。这种排列方式可以确保等离子体能够均匀地覆盖并清洗整个物料区域，以达到彻底清洁的效果。可以选择六个微波辐射天线组件的微波功率均为3kw。
8、在一个实施方式中，各微波辐射天线组件按圆周呈环形阵列形式悬挂于设备外框外壁上，设备外框外壁上设置有多条与多个微波辐射天线组件一一对应的辐射开口。
9、具体来说，微波辐射器组件至少两个，呈环形阵列分布于设备外框四周，微波能量通过微波辐射天线组件经过辐射开口馈入设备外框内，并均匀耦合到等离子体反应腔内部。微波辐射器组件呈环形阵列分布的分布，可以在等离子体反应腔内形成均匀的电场分布，从而产生均匀的等离子体。
10、在一个实施方式中，设备外框与各微波辐射天线组件之间通过法兰安装孔连接。
11、在一个实施方式中，设备外框包括筒状侧壁和分别设置在筒状侧壁上下端的的上封盖和下封盖，等离子体反应腔位于筒状侧壁内，筒状侧壁的上下两端分别与上封盖和下封盖密封连接，等离子体反应腔、上封盖和下封盖构成真空密封腔。
12、具体来说，等离子体反应腔的上下端与上封盖和下封盖接触，通过密封圈保证等离子体腔气密性，工作时形成真空腔。上封盖打开，带有被处理工件的挂架从上封盖处取放。
13、在一个实施方式中，上封盖上设置有至少两个进气口，两个进气口均位于筒状侧壁与挂架之间；下封盖连接真空泵和磁流体。
14、在一个实施方式中，筒状侧壁、上封盖和下封盖的材质均采用金属材质。
15、在一个实施方式中，筒状侧壁的横截面为正六边形，正六边形的各条边上中部沿轴线方向均布置一个微波辐射天线组件。
16、在一个实施方式中，等离子体反应腔为圆筒状，等离子体反应腔的直径为800mm，且高度为800mm，等离子体的材质为透波材料。
17、具体来说，本方案产生的等离子体面积极大，为直径800mm高度800mm的圆柱形面。
18、在一个实施方式中，透波材料为石英或陶瓷中的一种。
19、在一个实施方式中，各微波辐射天线组件包括集成在一起的微波电源、隔离器、三销钉、辐射器和滑动短路器。
20、工作原理：打开上封盖，从顶部送入挂满工件(待清洗的工装夹具)的挂架，关闭上封盖，启动真空泵，当真空度抽到30pa时，从上封盖的若干个均匀分布的进气口，通入工艺气体(优选地：5l/mino2+0.5l/mincf4气体)，真空腔内真空度稳定后，启动电机，带动挂架以不高于1rad/min的速度旋转，开启微波电源，等离子体开始工作，每套电源功率设置2500w，运行20分钟后，工件表面的环氧类有机涂层被处理干净，关闭微波，停止通入工艺气体，关闭真空泵，打开上封盖，去除挂架，清洗完成。
21、本专利技术的有益效果如下：
22、1、本专利技术设计合理，微波辐射天线组件产生的微波空间耦合到等离子体反应腔的真空腔内，形成超大面积微波等离子体，利用微波等离子体的强活性，对镀膜工装夹具或镀膜工件进行干法清洗还原，对传统工艺的改进提升，本方案还可以用作微波等离子体镀膜清洗一体机，平时用于镀膜工艺，当腔体内和工装夹具上膜层过厚时，可以实现在线清洗，无需转运工装和拆机。
23、2、可以有效完成环氧以及其他有机涂层、金属氧化涂层、碳基涂层等的干法清洗，生成物为二氧化碳和水，并由真空泵抽出腔体，无污染无残留。
24、3、多个微波辐射器组件呈环形阵列分布于设备外框四周，微波能量通过微波辐射天线组件经过辐射开口馈入设备外框内，并均匀耦合到等离子体反应腔内部。微波辐射器组件呈环形阵列分布的分布，可以在等离子体反应腔内形成均匀的电场分布，从而产生均匀的等离子体。
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1.一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，包括设备外框(1)、设置在所述设备外框(1)内的等离子体反应腔(2)、设置在所述等离子体反应腔(2)内的能够旋转的挂架(3)以及至少两个微波辐射天线组件(4)，所述等离子体反应腔(2)为真空腔，所述挂架(3)用于挂接待清洗的工装夹具。
2.根据权利要求1所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所有所述微波辐射天线组件(4)按圆周呈环形阵列形式悬挂于所述设备外框(1)的外壁上，所述设备外框(1)外壁上设置有多条与多个所述微波辐射天线组件(4)一一对应的辐射开口。
3.根据权利要求1所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所有所述微波辐射天线组件(4)分为两组，两组所述微波辐射天线组件(4)呈上下交错方式布置在所述设备外框(1)的外壁上，相邻的两个所述微波辐射天线组件(4)在水平方向的投影部分重合，所述设备外框(1)外壁上设置有多条与多个所述微波辐射天线组件(4)一一对应的辐射开口。
4.根据权利要求3所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述设备外框(1)包括筒状侧壁和分别设置在所述筒状侧壁
5.根据权利要求4所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述上封盖上设置有至少两个进气口，两个所述进气口均位于所述筒状侧壁与所述挂架(3)之间；所述下封盖连接真空泵和磁流体。
6.根据权利要求4所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述筒状侧壁、所述上封盖和所述下封盖的材质均采用金属材质。
7.根据权利要求5所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述筒状侧壁的横截面为正六边形，正六边形的各条边上中部沿轴线方向均布置一个微波辐射天线组件(4)。
8.根据权利要求1所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述等离子体反应腔(2)为圆筒状，所述等离子体反应腔(2)的直径为800mm，且高度为800mm，所述等离子体的材质为透波材料。
9.根据权利要求8所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述透波材料为石英或陶瓷中的一种。
10.根据权利要求7所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，各所述微波辐射天线组件(4)包括集成在一起的微波电源、隔离器、三销钉、辐射器和滑动短路器。
...【技术特征摘要】
1.一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，包括设备外框(1)、设置在所述设备外框(1)内的等离子体反应腔(2)、设置在所述等离子体反应腔(2)内的能够旋转的挂架(3)以及至少两个微波辐射天线组件(4)，所述等离子体反应腔(2)为真空腔，所述挂架(3)用于挂接待清洗的工装夹具。
2.根据权利要求1所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所有所述微波辐射天线组件(4)按圆周呈环形阵列形式悬挂于所述设备外框(1)的外壁上，所述设备外框(1)外壁上设置有多条与多个所述微波辐射天线组件(4)一一对应的辐射开口。
3.根据权利要求1所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所有所述微波辐射天线组件(4)分为两组，两组所述微波辐射天线组件(4)呈上下交错方式布置在所述设备外框(1)的外壁上，相邻的两个所述微波辐射天线组件(4)在水平方向的投影部分重合，所述设备外框(1)外壁上设置有多条与多个所述微波辐射天线组件(4)一一对应的辐射开口。
4.根据权利要求3所述的一种微波等离子体清洗设备，其特征在于，所述设备外框(1)包括筒状侧壁和分别设置在所述筒状侧壁上下端的的上封盖和下封盖，所述等离子体反应腔(2)位于所述筒状侧壁内，所述筒状侧壁的上下两端...
【专利技术属性】
技术研发人员：王邱林，吉皓，何源远，刘鑫，
申请(专利权)人：成都奋羽电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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