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具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺制造技术

技术编号:41326905 阅读:2 留言:0更新日期:2024-05-13 15:04
本发明专利技术公开了一种具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,属于涂层技术领域。采用电弧离子镀膜技术在基体上沉积高熵合金涂层。制备AlCrVTiSiN高熵合金涂层时:本底真空度为3.0×10<supgt;‑3</supgt;Pa,沉积压强为2.8‑3.0Pa,脉冲偏压‑100~‑110V,频率45‑50KHz,脉宽6‑8μs;沉积温度为430‑470℃,AlCrSi靶电流95‑100A,AlTiSi靶电流80‑85A,V靶电流75‑95A,通入Ar和N<subgt;2</subgt;;本发明专利技术通过工艺设计及优化V元素含量,制备出兼具高硬度、自润滑能力的高熵合金涂层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及涂层,具体涉及一种具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺。


技术介绍

1、硬质涂层发展对刀具切削水平起决定作用,传统氮化物涂层通过添加不同元素来改善其性能,但较少主元限制了日益严苛的加工要求。高熵合金的问世突破了这一瓶颈,高熵涂层逐渐引发人们关注。高熵氮化物作为重要组成部分,因其由多主元制备而成,极大地丰富了合金种类,使涂层具有高强度、低磨损等优异性能,在刀具切削等方面具有广泛应用前景,通过控制v靶电流获得高性能刀具涂层材料,完善了高熵合金理论体系。

2、随着航空航天、国防军工、机械制造等行业迅速发展,对钨钼合金等耐高温材料的需求量迅速增加,更对其加工质量和效率提出严苛要求。钨钼合金等难加工材料导热系数较低,自身强度高,属于典型难加工材料,加工时切削力较大,导致刀具磨损严重,服役时间降低。目前加工钨钼合金这类难加工材料以硬质合金刀具为主,但在高速干切削环境下,硬质合金刀具磨损严重,刀具寿命短,这无疑对刀具基体和防护涂层提出了更严苛要求。为响应绿色加工理念,在刀具涂层中添加固体润滑剂,保证加工质量的同时提高了生产效率,实现刀具“延寿”。

3、过渡金属氮化物的键结构由共价键、离子键以及金属键共同组成,因具备优异的抗氧化性能、出色的耐磨性能、良好的耐腐蚀性能以及相对低的残余应力,而被应用于切削工具中,从而引起人们对金属氮化物薄膜的探索兴趣。研究初期tialn涂层表现出较高的抗氧化性,甚至应用温度可超过800℃,曾作为一种成功的涂层广泛应用在机械制造行业,但随着被加工材料性能的提高,tialn涂层应用受到阻碍,已无法满足复杂的工况要求。一种掺杂si元素的alcrtisin多元涂层弥补了这一缺陷,si元素的加入使涂层内部生成了纳米复合结构,si3n4非晶相包裹着tialn晶相,抑制了晶粒生长,进一步提高了涂层的硬度与抗氧化性。然而在实际切削加工时,alcrtisin系列涂层由于摩擦性能较差,尤其在干切削与高速切削时,刀具磨损严重,影响了加工效率,导致刀具过早失效。


技术实现思路

1、为进一步提高现有alcrtisin涂层的耐磨性,本专利技术的目的在于提供一种具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,采用电弧离子镀膜技术,在alcrtisin涂层中掺杂v元素,形成alcrvtisin涂层,通过工艺设计以及优化v元素含量制备出兼具高硬度、高耐磨、自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层。

2、为实现上述目的,本专利技术所采用的技术方案如下:

3、一种具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,是采用电弧离子镀膜技术在基体上沉积alcrvtisin高熵合金涂层,其中靶材选取金属alcrsi靶、altisi靶以及v靶;沉积alcrvtisin高熵合金涂层时:本底真空度为3.0×10-3pa以上,沉积温度430-470℃,沉积压强调节至2.8-3.0pa,同时开启alcrsi靶、altisi靶以及v靶,alcrsi靶电流为95-100a,altisi靶电流为80 -85a,v靶电流75-95a,设置脉冲偏压为-100~-110v,通入ar和n2;沉积时间120-150min,根据实验要求设置不同v靶电流。

4、进一步地,沉积alcrvtisin高熵合金涂层时,通入ar的流量为50-60sccm,通入n2的流量为550-600sccm;脉冲偏压的频率为45-50khz,脉宽6-8μs。

5、所述具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,具体包括如下步骤:

6、(1)将清洗后的基体固定于镀膜室内旋转架上,抽真空到真空度为3.0×10-3pa以上;所述基体为金属(硬质合金基片、不锈钢片)或硅片,所述v靶材纯度为99.5%,其余靶材纯度均为99.95%。

7、(2)对基体依次进行辉光放电清洗和离子轰击清洗;所述辉光放电清洗的过程为:将炉腔加热制430-470℃,通入氩气380-400sccm,通过调整节流阀使工作压强升至2.3-2.4pa,设置脉冲偏压-780~-800v,频率10-15khz,脉宽6-8μs,对基体进行辉光清洗15-30min;所述离子轰击清洗过程为:辉光放电清洗后,通入180-220sccm的氩气,工作压强为0.5-0.6pa,开启cr靶,cr靶电流为85-92a,保持与辉光清洗时同样的频率与脉宽不变,依次在-800v、-600v、-400v、-200v的脉冲偏压下各轰击2min。

8、(3)沉积crn过渡层,以提高工作层与基体的结合强度,沉积crn过渡层的过程为:在辉光放电清洗和离子轰击清洗后,保持cr靶开启,通入180-200sccm的反应气体n2以及40-50sccm的ar,调整节流阀将工作压强升高至0.9-1.1pa,脉冲偏压-100~-110v,频率50-60khz,脉宽6-8μs,沉积时间为10-20min。

9、(4)沉积alcrvtisin高熵合金涂层。

10、本专利技术所制备的alcrvtisin高熵合金涂层中,v为17.5-23.05wt.%,al为17.0-21.0wt.%,cr为7.2-9.0wt.%,ti为5.0-6.5wt.%,si为3.5-4.5wt.%,n为42-46wt.%。

11、本专利技术所制备的alcrvtisin高熵合金涂层是由alcrsi靶、altisi靶以及v靶共同沉积而成,沉积alcrvtisin高熵合金涂层时,当v靶电流为75-95a时,涂层中v元素含量为17.5-23.05wt.%;优选v靶电流为80-90a,此时涂层中v元素含量为18.4-20.26wt.%;更优选v靶电流为83-87a,此时涂层中v元素含量为19.80-20.20wt.%。

12、所述alcrvtisin高熵合金涂层为面心立方(fcc)晶相和密排六方(hcp)晶相双相结构,面心立方晶相包括aln、crn、tin、vn相,密排六方晶相包括hcp-aln相,面心立方晶相中的fcc-tin、fcc-aln、fcc-vn均沿(200)晶面择优生长。

13、所述alcrvtisin高熵合金涂层的硬度高于27gpa,涂层的临界载荷最高可达84.2n,涂层的磨损率低至2.54×10-3μm3/n·μm。

14、本专利技术的设计机理如下:

15、本专利技术采用电弧离子镀膜技术在硬质合金片、sus304不锈钢和单晶si片上沉积alcrvtisin高熵合金涂层。

16、alcrtisin涂层具有较高的硬度、韧性以及高温热稳定性,在机械加工生产中得到广泛应用,但在干式切削时,刀具的摩擦系数高,切削力较大,切削温度过高,造成刀具严重磨损。过渡族金属v元素作为固体润滑剂的一种,在摩擦环境下易与空气中氧气结合生成润滑相氧化物v2o5,使涂层内部形成低剪切模量的滑移平面,将大大降低刀具切削时的磨损率。然而润滑相氧化物的含量较高,容易造成涂层硬度下降;v元素含量较低本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:该工艺是采用电弧离子镀膜技术在基体上沉积AlCrVTiSiN高熵合金涂层,其中靶材选取金属AlCrSi靶、AlTiSi靶和V靶;沉积AlCrVTiSiN高熵合金涂层时:本底真空度为3.0×10-3Pa以上,沉积温度430-470℃,沉积压强2.8-3.0Pa,开启AlCrSi靶、AlTiSi靶以及V靶,AlCrSi靶电流95-100A,AlTiSi靶电流80-85A,V靶电流为75-95A,脉冲偏压-100~-110V,通入Ar和N2,沉积时间120-150min,根据不同实验要求选择V靶电流。

2.根据权利要求1所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:沉积AlCrVTiSiN高熵合金涂层时,通入Ar的流量为50-60sccm,通入N2流量为550-600sccm;脉冲偏压的频率为45-50KHz,脉宽6-8μs。

3.根据权利要求1或2所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:该工艺具体包括如下步骤:</p>

4.根据权利要求3所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:步骤(2)中,所述辉光放电清洗的过程为:将炉腔加热至430-470℃,通入氩气380-400sccm,通过调整节流阀使工作压强升至2.3-2.4Pa,设置脉冲偏压-780~-800V,频率10-15KHz,脉宽6-8μs,对基体进行辉光放电清洗15-30min。

5.根据权利要求3所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:步骤(2)中,所述离子轰击清洗过程为:辉光放电清洗后,通入氩气180-220sccm,工作压强0.5-0.6Pa,开启Cr靶,Cr靶电流为85-92A,保持与辉光清洗时同样的频率与脉宽不变,依次在-800V、-600V、-400V、-200V的脉冲偏压下各轰击2min。

6.根据权利要求3所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:步骤(3)中,沉积CrN过渡层的过程为:在辉光放电清洗和离子轰击清洗后,保持Cr靶开启,通入180-200sccm的反应气体N2以及40-50sccm的Ar,调整节流阀将工作压强升高至0.9-1.1Pa,脉冲偏压-100~-110V,频率50-60KHz,脉宽6-8μ,沉积时间为10-20min。

7.根据权利要求1所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:所述基体为金属或硅片(硬质合金基片、不锈钢片或硅片),所述V靶材纯度为99.5%,其余靶材纯度均为99.95%。

8.根据权利要求1所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:所述AlCrVTiSiN高熵合金涂层中,V为17.5-23.05wt.%,Al为17.0-21.0wt.%,Cr为7.2-9.0wt.%,Ti为5.0-6.5wt.%,Si为3.5-4.5wt.%,N为42-46wt.%。

9.根据权利要求1所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:沉积AlCrVTiSiN高熵合金涂层时,V靶电流为75-95A时,涂层中V元素含量为17.5-23.05wt.%;优选V靶电流为80-90A,此时涂层中V元素含量为18.4-20.26wt.%;更优选V靶电流为83-87A,此时涂层中V元素含量为19.80-20.20wt.%。

10.根据权利要求1所述的具有自润滑性能的AlCrVTiSiN高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:所述AlCrVTiSiN高熵合金涂层为面心立方(fcc)晶相和密排六方(hcp)晶相双相结构,面心立方晶相包括AlN、CrN、TiN和VN相,密排六方晶相包括AlN相,面心立方晶相中的fcc-TiN、fcc-AlN和fcc-VN均沿(200)晶面择优生长。

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【技术特征摘要】

1.一种具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:该工艺是采用电弧离子镀膜技术在基体上沉积alcrvtisin高熵合金涂层,其中靶材选取金属alcrsi靶、altisi靶和v靶;沉积alcrvtisin高熵合金涂层时:本底真空度为3.0×10-3pa以上,沉积温度430-470℃,沉积压强2.8-3.0pa,开启alcrsi靶、altisi靶以及v靶,alcrsi靶电流95-100a,altisi靶电流80-85a,v靶电流为75-95a,脉冲偏压-100~-110v,通入ar和n2,沉积时间120-150min,根据不同实验要求选择v靶电流。

2.根据权利要求1所述的具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:沉积alcrvtisin高熵合金涂层时,通入ar的流量为50-60sccm,通入n2流量为550-600sccm;脉冲偏压的频率为45-50khz,脉宽6-8μs。

3.根据权利要求1或2所述的具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:该工艺具体包括如下步骤:

4.根据权利要求3所述的具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:步骤(2)中,所述辉光放电清洗的过程为:将炉腔加热至430-470℃,通入氩气380-400sccm,通过调整节流阀使工作压强升至2.3-2.4pa,设置脉冲偏压-780~-800v,频率10-15khz,脉宽6-8μs,对基体进行辉光放电清洗15-30min。

5.根据权利要求3所述的具有自润滑性能的alcrvtisin高熵合金涂层的制备工艺,其特征在于:步骤(2)中,所述离子轰击清洗过程为:辉光放电清洗后,通入氩气180-220sccm,工作压强0.5-0.6pa,开启cr靶,cr靶电流为85-92a,保持与辉光清洗时同样的频率与脉宽不变,依次在-800v、-600v、-400v、-200v的脉冲偏压下各轰...

【专利技术属性】
技术研发人员:王铁钢熊龙宇葛敏白乌力吉刘艳梅阎兵戚厚军范其香
申请(专利权)人:天津职业技术师范大学中国职业培训指导教师进修中心
类型:发明
国别省市:

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