【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体镀膜，尤其涉及一种便于清理的半导体镀膜设备。
技术介绍
1、半导体材料在使用时有时需要在外部镀上特定材质的膜以对其进行保护，常见的半导体镀膜方法包括pvd镀膜、cvd镀膜、离子镀膜等，而物理镀膜主要利用加热可蒸发的镀膜原料，使其转化成蒸汽，并附着在半导体材料表面，从而达到镀膜的效果。在半导体镀膜的过程中，部分废屑会掉落在工作台表面，凌乱的废屑造成工作台面的脏污，影响的循环使用。
2、为此，我们提出一种便于清理的半导体镀膜设备。
技术实现思路
1、本技术主要是解决上述现有技术所存在的技术问题，提供一种便于清理的半导体镀膜设备。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案，一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台和镀膜箱，工作台上固定连接有两个限位框，两个限位框的内腔均固定连接有限位杆，两个限位杆上均滑动连接有移动块，两个移动块相对的侧壁面上固定连接有收集壳，收集壳的底部分别固定连接有若干个清洁刷和清洁铲，工作台一端的底部固定连接有放置框，放置框上活
【技术保护点】
1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台(1)和镀膜箱(5)，其特征在于：所述工作台(1)上固定连接有两个限位框(2)，两个限位框(2)的内腔均固定连接有限位杆(3)，两个限位杆(3)上均滑动连接有移动块(4)，两个移动块(4)相对的侧壁面上固定连接有收集壳(6)，收集壳(6)的底部分别固定连接有若干个清洁刷(12)和清洁铲(13)，工作台(1)一端的底部固定连接有放置框(8)，放置框(8)上活动设有集尘盒(11)。
2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)的侧壁面上固定设有吸尘器(14)，吸尘器(14)输入端...
【技术特征摘要】
1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台(1)和镀膜箱(5)，其特征在于：所述工作台(1)上固定连接有两个限位框(2)，两个限位框(2)的内腔均固定连接有限位杆(3)，两个限位杆(3)上均滑动连接有移动块(4)，两个移动块(4)相对的侧壁面上固定连接有收集壳(6)，收集壳(6)的底部分别固定连接有若干个清洁刷(12)和清洁铲(13)，工作台(1)一端的底部固定连接有放置框(8)，放置框(8)上活动设有集尘盒(11)。
2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)的侧壁面上固定设有吸尘器(14)，吸尘器(14)输入端固定连接有输送管(15)，输...
【专利技术属性】
技术研发人员：舒波，洪滔，程浩东，包瑞，
申请(专利权)人：安合鑫光电科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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