显影辊以及包括该显影辊的电子照相处理盒和电子照相图像形成设备制造技术

本发明专利技术涉及显影辊以及包括该显影辊的电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。本发明专利技术涉及具有能够有效抑制低分子量组分从弹性层渗出的表面层的显影辊，其能够有效赋予负带电性调色剂以高电荷，并且调色剂脱模性优良。所述显影辊具有芯轴，至少一层设置于所述芯轴上的弹性层，和设置于所述弹性层上的表面层，所述显影辊承载和输送调色剂，并用所述调色剂将在相对的感光构件上的静电潜像显影，以及所述表面层包括含Ｓｉ、Ｎ、Ｃ和Ｈ的硅化合物膜，所述表面层具有特定的存在元素Ｓｉ、Ｎ、Ｃ和Ｈ的总丰度和特定丰度比Ｎ／Ｓｉ、Ｃ／Ｓｉ和Ｈ／Ｓｉ。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于电子照相图像形成设备如复印机和激光打 印机中的显影辊，以及设置有该显影辊的电子照相处理盒和电 子照相图像形成设备。
技术介绍
作为将存在于感光鼓上的静电潜像使用调色剂可视化的显 影方法，已知使承载调色剂的显影辊与感光鼓接触的接触显影 法。显影辊需要具有赋予调色剂以良好摩擦电荷的功能。在接 触显影法中，负带电性单组分显影剂通常在多种情况下使用。于是，日本专利申请特开2000-181218和日本专利申请特开 2003-122108公开了在显影辊表面层中使用含氮树脂涂层的显 影辊作为可以有效赋予负带电性调色剂以高电荷的显影辊。此外，建议设置有弹性层的显影辊以保证在与感光鼓的接 触部上的辊隙宽度(nip width)。然而，在具有该弹性层的显影 辊中，不可避免地包含在弹性层中的低分子量物质有时候渗出 至表面。已渗出的低分子量物质粘附至接触显影辊的感光鼓表 面，因此有时候影响电子照相图像等级和感光鼓寿命。于是， 曰本专利申请特开2005-215485公开了设置屏蔽从弹性层渗出 的渗出材料的屏蔽层的显影剂承载体。
技术实现思路
本专利技术人进行了关于在日本专利申请特开2000-1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影辊，其包括芯轴、至少一层设置于所述芯轴上的弹性层、和设置于所述弹性层上的表面层，所述显影辊承载和输送调色剂，并将在相对的感光构件上的静电潜像用所述调色剂显影，其中　　　　所述表面层包括含Ｓｉ、Ｎ、Ｃ和Ｈ的硅化合物膜；和　　　　在所述表面层中，　　　　通过Ｘ射线光电子能谱法和弹性反冲探测分析测量的，Ｓｉ、Ｎ、Ｃ和Ｈ的存在元素总数相对于全部元素的比例为９０．００％以上，和　　　　Ｎ与Ｓｉ的丰度比Ｎ／Ｓｉ为０．２０以上至１．００以下，Ｃ与Ｓｉ的丰度比Ｃ／Ｓｉ为０．３０以上至１．５０以下，和Ｈ与Ｓｉ的丰度比Ｈ／Ｓｉ为０．１５以上至０．３５以下。

【技术特征摘要】
JP 2008-8-25 2008-2152671.一种显影辊，其包括芯轴、至少一层设置于所述芯轴上的弹性层、和设置于所述弹性层上的表面层，所述显影辊承载和输送调色剂，并将在相对的感光构件上的静电潜像用所述调色剂显影，其中所述表面层包括含Si、N、C和H的硅化合物膜；和在所述表面层中，通过X射线光电子能谱法和弹性反冲探测分析测量的，Si、N、C和H的存在元素总数相对于全部元素的比例为90.00％以上，和N与Si的丰度比N/Si为0.20以上至1.00以下，C与Si的丰度比C/Si为0.30以上至1.50以下，和H与Si的丰度比H/Si为0.15以上至0.35以下。2. 根据权利要求l所述的显影辊，其中所述表面层包含氧 原子。3. 根据权利要求l所述的显影辊，其中所述表面层的膜厚 度为15nm以上至5，000...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿南严也，山内健一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]