【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术整体涉及质谱仪和/或迁移率谱仪。本文描述的实施方案整体涉及用于质谱仪和/或迁移率谱仪的离子源，诸如基质辅助激光解吸电离(“maldi”)离子源。
技术介绍
1、包括基质辅助激光解吸电离(“maldi”)离子源的质谱仪是已知的。maldi技术涉及将合适的基质材料添加到分析样品，并且然后使所得样品位于靶板上。然后，将激光脉冲引导到样品上，使样品中的分析物被烧蚀并从靶板解吸。这生成包含分析物离子和不期望的材料(诸如不期望的基质材料)两者的气态分子的热羽流。所使用的基质被选择成以便在激光的波长处具有强吸收，并且有助于分析物的解吸和电离。
2、分析物离子由离子导向器向下游引导，而不期望的材料可分散和沉积在靶板下游的各种表面上。例如，不期望的材料可沉积在光学元件上，该光学元件被提供以将激光脉冲引导到靶板上。此类污染是有问题的并且需要维护以将其去除。
技术实现思路
1、根据第一方面，本公开提供了一种离子源组件，该离子源组件包括：靶板，该靶板用于固定待分析的样品；激光器，该激光器用于电离靶板上的样品以便形成分析物离子；一个或多个光学元件；
2、离子导向器，该离子导向器用于引导分析物离子；第一气体端口，该第一气体端口被布置成供应第一气流，以便迫使在靶板处生成的材料远离一个或多个光学元件；和不同的第二气体端口，该不同的第二气体端口被布置成供应第二气流，该第二气流迫使来自靶板的离子朝向并进入离子导向器中。
3、离子源组件可包括外壳，该外壳容纳靶板、离子导向器
4、第一气体端口可被布置成在外壳的壁中邻近或靠近一个或多个光学元件。
5、第二气体端口可被布置成在外壳的壁中邻近或靠近靶板。
6、第二气体端口可将气体供应到靶板与离子导向器之间的区域。
7、除了第一气体端口、第二气体端口和用于允许由离子导向器传输的离子离开外壳的另一孔口之外，外壳可被气密地密封。因此，外壳可在其中仅具有三个开口。
8、一个或多个光学元件可为以下项中的任一者或任何组合：用于将激光束从激光器传输到靶板的窗口；用于反射来自激光器的激光束的镜；相机；和用于反射可见光的镜，任选地反射到相机。
9、离子源组件可包括第一气体流量调节器，该第一气体流量调节器被配置成可调节的，以便调节第一气流流过第一气体端口的速率；和/或第二气体流量调节器，该第二气体流量调节器被配置成可调节的，以便调节第二气流流过第二气体端口的速率。
10、离子源组件可包括第一泵，该第一泵用于将第一气流泵送到第一气体端口中；和/或第二泵，该第二泵用于将第二气流泵送到第二气体端口中。
11、第一泵可被配置成可控制的，以改变第一泵将第一气流泵送到第一气体端口中的速率；并且/或者第二泵可被配置成可控制的，以改变第二泵将第二气流泵送到第二气体端口中的速率。
12、离子源组件可被配置成维持第一气体端口和/或第二气体端口处的压力低于大气压力。
13、离子源组件可为maldi离子源组件。
14、本公开还提供了一种质谱仪和/或迁移率谱仪，该质谱仪和/或迁移率谱仪包括如本文所述的离子源组件。
15、离子源组件可包括容纳离子导向器的外壳，其中外壳包括用于允许离子从离子导向器穿出外壳的孔口，并且其中谱仪还包括邻近孔口布置以接收离子的真空室。
16、外壳还可容纳靶板和一个或多个光学元件，并且第一气体端口和第二气体端口可被布置成穿过外壳的一个或多个壁。
17、谱仪可包括检测器，该检测器被配置成检测与由离子导向器通过孔口传输分析物离子的水平有关的参数，其中谱仪包括控制电路，该控制电路被配置成基于所检测的参数的值来自动地控制第一气体流和/或第二气体流。
18、例如，检测器可检测分析物离子或由其衍生的离子的强度，并且谱仪然后可基于所检测的强度值来控制第一气体流和/或第二气体流。
19、控制电路可被配置成自动地改变第一气流速率和/或第二气流速率，直到所检测的参数的值指示分析物离子的传输已经增加，例如增加到至少阈值或最佳值。
20、本公开还提供一种电离分析样品的方法，该方法包括：提供如本文所述的离子源组件；在靶板上提供分析样品；用来自激光器的激光束照射样品以便形成分析物离子和其他材料；通过第一气体端口供应第一气流以便迫使所述其他材料远离一个或多个光学元件；以及通过第二气体端口供应第二气流以便迫使来自靶板的分析物离子朝向并进入离子导向器中。
21、该方法可包括改变第一气流流过第一气体端口的速率；和/或改变第二气流流过第二气体端口的速率。
22、可通过控制与第一气体端口和第二气体端口中的一者或两者相关联的气体流量调节器来执行气体流量中的任一者或两者的改变。另选地或附加地，这可通过改变将气体泵送到第一气体端口中的泵和/或将气体泵送到第二气体端口中的泵的操作来实现。
23、第一气流流过第一气体端口的速率和第二气流流经第二气体端口的速率可同时地变化。
24、该方法可包括维持第一气体端口和/或第二气体端口处的压力低于大气压力。
25、本公开还提供了一种质谱仪和/或迁移率谱仪的方法，该方法包括：如本文所述的电离分析物样品的方法；以及质量和/或迁移率分析所述分析物离子或由其衍生的离子。
26、本公开还提供了一种离子源组件，该离子源组件包括：靶板，该靶板用于固定待分析的样品；电离装置，该电离装置用于电离靶板上的样品以便形成分析物离子；离子导向器，该离子导向器用于引导分析物离子；第一气体端口，该第一气体端口被布置成供应第一气流，以便迫使在靶板处生成的材料远离一个或多个表面以保护其免受所述材料影响；和不同的第二气体端口，该不同的第二气体端口被布置成供应第二气流，该第二气流迫使来自靶板的离子朝向并进入离子导向器中。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种离子源组件，所述离子源组件包括：
2.根据权利要求1所述的离子源组件，所述离子源组件包括外壳，所述外壳容纳所述靶板、所述离子导向器和所述一个或多个光学元件，其中所述第一气体端口被布置成通过所述外壳的壁供应所述第一气流，并且所述第二气体端口被布置成通过所述外壳的壁供应所述第二气流。
3.根据权利要求2所述的离子源组件，其中所述第一气体端口被布置成在所述外壳的所述壁中邻近或靠近所述一个或多个光学元件。
4.根据权利要求2或3所述的离子源组件，其中所述第二气体端口被布置成在所述外壳的所述壁中邻近或靠近所述靶板。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的离子源组件，其中除了所述第一气体端口、所述第二气体端口和用于允许由所述离子导向器传输的离子离开所述外壳的另一孔口之外，所述外壳被气密地密封。
6.根据任一前述权利要求所述的离子源组件，其中所述一个或多个光学元件为以下项中的任一者或任何组合：用于将激光束从所述激光器传输到所述靶板的窗口；用于反射来自所述激光器的激光束的镜；相机；和用于反射可见光的镜，任选地反射到相机。
<...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种离子源组件，所述离子源组件包括：
2.根据权利要求1所述的离子源组件，所述离子源组件包括外壳，所述外壳容纳所述靶板、所述离子导向器和所述一个或多个光学元件，其中所述第一气体端口被布置成通过所述外壳的壁供应所述第一气流，并且所述第二气体端口被布置成通过所述外壳的壁供应所述第二气流。
3.根据权利要求2所述的离子源组件，其中所述第一气体端口被布置成在所述外壳的所述壁中邻近或靠近所述一个或多个光学元件。
4.根据权利要求2或3所述的离子源组件，其中所述第二气体端口被布置成在所述外壳的所述壁中邻近或靠近所述靶板。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的离子源组件，其中除了所述第一气体端口、所述第二气体端口和用于允许由所述离子导向器传输的离子离开所述外壳的另一孔口之外，所述外壳被气密地密封。
6.根据任一前述权利要求所述的离子源组件，其中所述一个或多个光学元件为以下项中的任一者或任何组合：用于将激光束从所述激光器传输到所述靶板的窗口；用于反射来自所述激光器的激光束的镜；相机；和用于反射可见光的镜，任选地反射到相机。
7.根据任一前述权利要求所述的离子源组件，所述离子源组件包括第一气体流量调节器，所述第一气体流量调节器被配置成可调节的，以便调节所述第一气流流过所述第一气体端口的速率；和/或第二气体流量调节器，所述第二气体流量调节器被配置成可调节的，以便调节所述第二气流流过所述第二气体端口的速率。
8.根据任一前述权利要求所述的离子源组件，所述离子源组件包括第一泵，所述第一泵用于将所述第一气流泵送到所述第一气体端口中；和/或第二泵，所述第二泵用于将所述第二气流泵送到所述第二气体端口中。
9.根据权利要求8所述的离子源组件，其中所述第一泵被配置成可控制的，以改变所述第一泵将所述第一气流泵送到所述第一气体端口...
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