一种PDMS漫反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术提出一种PDMS漫反射膜及其制备方法。属于PDMS膜领域。制备步骤如下：将PDMS与交联剂在溶剂中溶解、稀释，制得PDMS溶液；将PDMS、交联剂、纳米材料在溶剂中混合、分散，制得纳米材料悬浊液；在物体表面旋涂或喷涂PDMS溶液；在物体表面再次旋涂或喷涂纳米材料悬浊液；将旋涂或喷涂后的物体经自然风干固化或烘干固化，制得PDMS漫反射膜，所述的纳米材料为粒径在20nm～200nm的纳米颗粒，本发明专利技术制得的PDMS漫反射膜高效、安全、绿色，再增加物体表面漫反射强度的同时，不会对物体表面造成伤害，最大限度的反映物体表面的细节和纹路，其次经过测试本反射膜在具备漫反射功能的同时，具有较高的透光率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于pdms膜，特别是涉及一种pdms漫反射膜及其制备方法。

技术介绍

1、漫反射在计算机视觉和人工智能领域中具有重要作用，包括物体识别分类、对环境的估计分析、图像增强修复、三维重建虚拟现实和计算机视觉任务等方面，为相关应用和算法提供了重要的支持和基础。在传统方法中，为了增强漫反射效果，常常采用增加物体表面的粗糙度的方式。例如，通过刻蚀物体表面或在物体表面堆叠漫反射材料等工艺来实现。这些方法虽然能够实现漫反射，但是会使物体表面的细节和纹理模糊化，在一些需要高精度测量的领域，会使某些测量数据发生大的误差甚至无法完成测量任务。

2、因此，有必要提供一种技术，在实现漫反射的同时，保护物体的表面，减少对物体表面造成损伤，并且最大限度的反映物体的表面性质。

技术实现思路

1、本专利技术目的是为了解决现有技术中的问题，提出了一种pdms漫反射膜及其制备方法。

2、本专利技术是通过以下技术方案实现的，本专利技术提出一种漫反射和透光率高的高性能反射膜，所述反射膜具有ab两层共挤结构，所述a层本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种漫反射和透光率高的高性能反射膜，其特征在于，所述反射膜具有AB两层共挤结构，所述A层为反射膜涂层，所述B层为反射膜基材，所述反射膜基材和涂层都是在需要形成漫反射特性的物体表面经过涂布形成涂层实现；所述反射膜涂层和反射膜基材在涂布之前先配制成涂布液，所述反射膜基材涂布液由下述组份组成：溶剂98.2％～98.6％,聚二甲基硅氧烷PDMS1.2％～1.6％，聚二甲基硅氧烷固化剂0.12％～0.16％，所述的百分含量为重量的百分含量；所述的反射膜涂层涂布液由下述组分组成：溶剂84％～98％，聚二甲基硅氧烷PDMS1.2％～1.4％，聚二甲基硅氧烷交联剂0.12％～0.14％，纳米材料1％...

【技术特征摘要】

1.一种漫反射和透光率高的高性能反射膜，其特征在于，所述反射膜具有ab两层共挤结构，所述a层为反射膜涂层，所述b层为反射膜基材，所述反射膜基材和涂层都是在需要形成漫反射特性的物体表面经过涂布形成涂层实现；所述反射膜涂层和反射膜基材在涂布之前先配制成涂布液，所述反射膜基材涂布液由下述组份组成：溶剂98.2％～98.6％,聚二甲基硅氧烷pdms1.2％～1.6％，聚二甲基硅氧烷固化剂0.12％～0.16％，所述的百分含量为重量的百分含量；所述的反射膜涂层涂布液由下述组分组成：溶剂84％～98％，聚二甲基硅氧烷pdms1.2％～1.4％，聚二甲基硅氧烷交联剂0.12％～0.14％，纳米材料1％～14％，所述的百分含量为重量的百分含量。

2.根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷pdms交联剂有甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、丙基三丁酮肟基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷，可以选择以上几种交联剂的一种或多种组合。

3.根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述的纳米材料为粒径为20nm～200nm的纳米颗粒，有银、二氧化硅、氧化镁、氧化钛、硫酸钡或氧化锆，所述的纳米材料可以是上述的一种或多种材料的混合。

4.根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述的反射膜基材由下述材料构成：聚二甲基硅氧烷pdms：90.9％，聚二甲基硅氧烷交联剂：9.1％，所述的百分含量为重量的百分含量；所述的反射膜涂层由下述材料构成：聚二甲基硅氧烷pdms：9％～83.3％，聚二甲基硅氧烷交联剂：0.9％～8.3％，纳米材料：8.3％～90.1％，所述的百分含量为重量百分含...

【专利技术属性】
技术研发人员：张东昱，李宗洋，倪莉，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：