【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及金属材料物理检验，具体而言，涉及一种铁素体晶界显示方法及晶粒度评定方法。
技术介绍
1、目前，采用金相法进行铁素体晶粒度检测时，由于受腐蚀剂的限制，其腐蚀后的组织形貌为铁素体+珠光体，晶界和组织同时显示，晶界不明显，导致难以分辨晶界，影响晶粒度的观察与评定。当前采用的晶界显示试剂为4％硝酸酒精或饱和苦味酸，均归属于易燃易爆危化品，存储环境要求较高，其中苦味酸已禁止销售。
2、鉴于此，提出本专利技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种铁素体晶界显示方法及晶粒度评定方法。
2、本专利技术解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。
3、本专利技术提供一种铁素体晶界显示方法，其包括：采集断口为解理形貌的试样的二次电子图像，通过观察试样二次电子图像的解理形貌，以每个解理面代表一个晶粒大小，获取铁素体晶界信息。
4、本专利技术还提供一种铁素体晶粒度评定方法，其包括：对采集的每张二次电子图像逐一测量至少3个解理面的最大尺寸，并计算解理面的最大尺寸的平均值，记为第一平均值，将采集的所有的二次电子图像计算出的第一平均值再次取平均值，记为第二平均值，将所述第二平均值与标准平均晶粒直径对照，得出铁素体晶粒度级别。
5、本专利技术具有以下有益效果：
6、本专利技术提供的一种铁素体晶界显示方法及晶粒度评定方法，本专利技术提供的铁素体晶粒度评定方法，其包括：采集断口为解理形貌的试样
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1.一种铁素体晶界显示方法，其特征在于，其包括：采集断口为解理形貌的试样的二次电子图像，通过观察试样二次电子图像的解理形貌，以每个解理面代表一个晶粒大小，获取铁素体晶界信息。
2.根据权利要求1所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，包括以下步骤：试样制取、试样打断、试样清洗和试样观察。
3.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样制取包括：从圆钢D/4位置沿纵向取横截面为方形的样坯，样坯一端开V形槽；
4.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样打断包括：将所述试样的V形槽朝下放置，然后打断，得到横截面为方形的断口，所述试样的断口微观形貌为解理形貌；
5.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样清洗包括：将断裂后的试样进行超声清洗后，热风吹干。
6.根据权利要求5所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，清洗剂包括酒精，清洗时间为不少于5min。
7.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样观察包括：选择合适的放大倍数，将试样断口置于扫描电子显微镜下
8.根据权利要求1所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，包括以下步骤：
9.一种铁素体晶粒度评定方法，其特征在于，其包括：对权利要求1-8中采集的每张二次电子图像逐一测量至少3个解理面的最大尺寸，并计算3个解理面的最大尺寸的平均值，记为第一平均值，将采集的所有的二次电子图像计算出的第一平均值再次取平均值，记为第二平均值，将所述第二平均值与标准平均晶粒直径对照，得出铁素体晶粒度级别。
10.根据权利要求9所述的铁素体晶粒度评定方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种铁素体晶界显示方法，其特征在于，其包括：采集断口为解理形貌的试样的二次电子图像，通过观察试样二次电子图像的解理形貌，以每个解理面代表一个晶粒大小，获取铁素体晶界信息。
2.根据权利要求1所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，包括以下步骤：试样制取、试样打断、试样清洗和试样观察。
3.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样制取包括：从圆钢d/4位置沿纵向取横截面为方形的样坯，样坯一端开v形槽；
4.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样打断包括：将所述试样的v形槽朝下放置，然后打断，得到横截面为方形的断口，所述试样的断口微观形貌为解理形貌；
5.根据权利要求2所述的铁素体晶界显示方法，其特征在于，试样清洗包括：将断裂后的试样进行超声清洗后，热风吹干。
6.根据权利要求5所述的铁...
【专利技术属性】
技术研发人员：王银国，刘年富，何健楠，孙福猛，董凤奎，廖美华，丘先堂，李祥龙，杨雄强，邹小梅，
申请(专利权)人：宝武杰富意特殊钢有限公司，
类型：发明
国别省市：
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