装配式机场道面结构制造技术

技术编号:41281920 阅读:3 留言:0更新日期:2024-05-11 09:32
一种装配式机场道面结构,所述道面板四周设有阴企口,阴企口包括位于道面板两侧的纵向阴企口以及位于道面板两端的横向阴企口,在道面板顶面两侧设有位于纵向阴企口上方的纵向注浆孔,在道面板顶面两端设有位于横向阴企口上方的横向注浆孔;相邻两块道面板拼装对齐后,两道纵向阴企口之间形成纵向注浆槽,两道横向阴企口之间形成横向注浆槽;纵向注浆孔与纵向注浆槽连通,横向注浆孔与横向注浆槽连通。本技术采用上述结构,解决了现有道面板调平过程中的人工劳动强度大、精准度不足且效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机场道面施工,具体的是一种装配式机场道面结构


技术介绍

1、机场跑道选用装配式道面板现场拼装,可以加快施工进度,减少现场施工人员,不受当地原材料和气候条件限制。然而,道面板在拼装、使用和抢修过程中,板体收缩时产生的拉应力会拉裂注浆体,导致失去传荷功能,同时道面板在损毁抢修时无法快速剔除阴企口中的注浆体或者剔除阴企口中注浆体时会损伤未破坏板体的阴企口。


技术实现思路

1、本技术所要解决的技术问题是提供一种装配式机场道面结构,通过在装配式道面板阴企口喷涂隔离层,让注浆体不与道面板粘结,这样即可以传递板间荷载,剔除注浆体时也因为有隔离层的存在,更加方便容易。

2、为解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种装配式机场道面结构,所述道面板四周设有阴企口,阴企口包括位于道面板两侧的纵向阴企口以及位于道面板两端的横向阴企口,在道面板顶面两侧设有位于纵向阴企口上方的纵向注浆孔,在道面板顶面两端设有位于横向阴企口上方的横向注浆孔;

3、相邻两块所述道面板拼装对齐后,两道纵向阴企口之间形成纵向注浆槽,两道横向阴企口之间形成横向注浆槽;

4、所述纵向注浆孔与纵向注浆槽连通,横向注浆孔与横向注浆槽连通。

5、优选的方案中,所述阴企口为梯形槽,阴企口的较窄一侧为槽底。

6、优选的方案中,所述阴企口的槽底及两侧上涂覆有隔离层。

7、优选的方案中,所述隔离层上铺设有一层薄膜层。

8、优选的方案中,所述隔离层为聚氨酯环氧涂料涂层。

9、优选的方案中,所述薄膜层为聚乙烯薄膜。

10、优选的方案中,所述薄膜层在对齐相邻道面板的阴企并形成注浆槽前,设置于相邻道面板的接缝处,薄膜层贴合阴企口及注浆孔孔壁设置;

11、所述薄膜层的下端延伸至道面板下方的基层上,薄膜层的上端位于道面板顶面外。

12、本技术提供的一种装配式机场道面结构,通过采用上述结构,具有以下有益效果:

13、(1)板体收缩时不会拉裂而破坏注浆体,导致失去传荷功能;

14、(2)道面在损毁抢修时能轻易快速剔除阴企口中的注浆体;

15、(3)在剔除阴企口中注浆体时不会损伤未破坏板体的阴企口。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种装配式机场道面结构,包括道面板(1),其特征在于:所述道面板(1)四周设有阴企口(2),阴企口(2)包括位于道面板(1)两侧的纵向阴企口(201)以及位于道面板(1)两端的横向阴企口(202),在道面板(1)顶面两侧设有位于纵向阴企口(201)上方的纵向注浆孔(3),在道面板(1)顶面两端设有位于横向阴企口(202)上方的横向注浆孔(4);

2.根据权利要求1所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述阴企口(2)为梯形槽,阴企口(2)的较窄一侧为槽底。

3.根据权利要求2所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述阴企口(2)的槽底及两侧上涂覆有隔离层(5)。

4.根据权利要求3所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述隔离层(5)上铺设有一层薄膜层(6)。

5.根据权利要求3所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述隔离层(5)为聚氨酯环氧涂料涂层。

6.根据权利要求4所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述薄膜层(6)为聚乙烯薄膜。

7.根据权利要求4所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述薄膜层(6)在对齐相邻道面板(1)的阴企口(2)并形成注浆槽前,设置于相邻道面板(1)的接缝处,薄膜层(6)贴合阴企口(2)及注浆孔孔壁设置;

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【技术特征摘要】

1.一种装配式机场道面结构,包括道面板(1),其特征在于:所述道面板(1)四周设有阴企口(2),阴企口(2)包括位于道面板(1)两侧的纵向阴企口(201)以及位于道面板(1)两端的横向阴企口(202),在道面板(1)顶面两侧设有位于纵向阴企口(201)上方的纵向注浆孔(3),在道面板(1)顶面两端设有位于横向阴企口(202)上方的横向注浆孔(4);

2.根据权利要求1所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述阴企口(2)为梯形槽,阴企口(2)的较窄一侧为槽底。

3.根据权利要求2所述的一种装配式机场道面结构,其特征在于:所述阴企口(2)的槽底及...

【专利技术属性】
技术研发人员:董岭余祥忠杨正贵李新明胡方华顾强康黎超陈亮安萍
申请(专利权)人:中国葛洲坝集团第一工程有限公司
类型:新型
国别省市:

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