【技术实现步骤摘要】
本专利技术具体涉及一种双盖系统对接方法和对接装置。
技术介绍
1、随着核电建设的不断推进，在建立新型的核燃料闭式循环、保证核能可持续发展的战略下，大型核工业厂的建设和相关技术储备的需求显得越发迫切，保持核工业自主开发创新能力是当前发展的必由之路。在核工业中，设有大量的泵、阀、过滤器等用于放射性介质处理的工艺设备，但由于机械磨损和失效等问题，这些设备在设施寿期内无法做到免维修，需要定期更换易损部件，以保证核工业厂的长久运行。
2、但由于其具备放射性，故无法像民用工程那样由人员靠近直接操作更换，而需要根据辐射防护要求，利用一套专用的机械系统，在屏蔽和密封条件下对工艺设备的易损部件进行更换及转运，即实现间接检修更换，这套专用的机械系统是检修容器系统。为了实现更换前后及更换过程中的密封，检修容器和工艺设备之间通常采用α密封双盖系统技术，即检修容器底盖和工艺设备顶盖形成相互对接的双盖系统，这项技术对于双盖系统的对接精度要求很高，而由于对于更换和转运的放射性易损部件的屏蔽要求，检修容器通常屏蔽很厚，造成其重量很重，达到20吨左右。
3、目前厂房内部能够用于辅助对接的操作手段只有厂房吊车，其为手动控制，吊运过程中难免会发生摆动和偏移，现有工艺设备和检修容器对接还需要操作人员趴在地上检查双盖系统的对接情况，安全性低下，吊车配合人员手动控制很难满足精确的对接要求，需要反复吊起移动位置，对接成功率很低，操作时间很长。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术
2、本专利技术提供一种双盖系统对接方法，采用对接装置，所述对接装置包括辅助机构，辅助机构的顶端能够相对底端运动，所述
3、方法包括：
4、通过吊运设备使辅助机构的底端套接工艺设备的顶盖，以使辅助机构底端和工艺设备顶盖对位，再将检修容器放置在辅助机构的顶端；
5、通过辅助机构的顶端托持检修容器相对底端运动以使检修容器的底盖和工艺设备的顶盖完成对接。
6、优选的，所述通过辅助机构的顶端托持检修容器3相对底端运动使检修容器的底盖和工艺设备的顶盖完成对接，具体包括以
7、下步骤：
8、使辅助机构的顶端与辅助机构的底端对中；
9、使检修容器的底盖与辅助机构的底端对中；
10、使检修容器的底盖与工艺设备的顶盖对中。
11、优选的，所述使辅助机构的顶端与辅助机构的底端对中，具体为：将辅助机构的顶端中心轴水平移动至与辅助机构的底端中心轴重合处，之后辅助机构的顶端下降至第一高度；
12、所述使检修容器的底盖与辅助机构的底端对中，具体为：在第一高度处使辅助机构的顶端水平移动以使检修容器底盖中心轴到达与辅助机构的底端中心轴重合处，之后辅助机构的顶端下降至第二高度；
13、所述使检修容器的底盖与工艺设备的顶盖对中，具体为：在第二高度处使辅助机构的顶端水平移动以使检修容器底盖中心轴到达与工艺设备顶盖中心轴重合处，之后使辅助机构的顶端下降直至使检修容器底盖与工艺设备顶盖完成对接。
14、优选的，所述辅助机构具有第一测距传感件，所述第一测距传感件位于第一高度处，设有至少两组，各组第一测距传感件均朝向辅助机构的底端中部，所述对接装置还包括对接环，所述对接环同轴设置在检修容器底盖的外围，且突出于检修容器底面，所述在第一高度处使辅助机构的顶端水平移动以使检修容器底盖中心轴到达与辅助机构的底端中心轴重合处，具体包括：
15、通过各第一测距传感件获取对接环中心轴相对辅助机构底端中心轴的相对位置，根据相对位置使辅助机构的顶端水平移动，以使检修容器底盖中心轴到达与辅助机构的底端中心轴重合处。
16、优选的，每组所述第一测距传感件均设有多个，所述在第一高度处使辅助机构的顶端水平移动以使检修容器底盖中心轴到达与辅助机构的底端中心轴重合处，之后所述方法还包括：
17、通过多个第一测距传感件的感测值和第一测距传感件的位置值获取对接环的直径，并与对接环的预设直径比对，在二者一致时判定所述在第一高度处使辅助机构的顶端水平移动以使检修容器底盖中心轴到达与辅助机构的底端中心轴重合处有效。
18、优选的，所述对接装置还包括对接槽，对接槽同轴设置在工艺设备顶盖的外围，且突出于工艺设备顶面，用于与对接环对接，所述辅助机构的底端设有内孔，所述通过吊运设备使辅助机构的底端套接工艺设备的顶盖，具体是：将辅助机构底端的内孔套设在对接槽外围。
19、优选的，所述对接环上设有多个第二测距传感件，各第二测距传感件沿对接环的径向布置，所述第二高度是指对接环的第二测距传感件能够感测到对接槽时所处的高度位置，所述在第二高度处使辅助机构的顶端水平移动以使检修容器底盖中心轴到达与工艺设备顶盖中心轴重合处，具体包括：
20、通过各第二测距传感件获取对接环中心轴相对对接槽中心轴的相对位置，根据相对位置使辅助机构的顶端水平移动，以使检修容器底盖中心轴到达与工艺设备顶盖中心轴重合处。
21、优选的，所述对接环内侧的检修容器底面上设有第三测距传感件，所述第三测距传感件沿对接环轴向布置，所述使辅助机构的顶端下降直至使检修容器底盖与工艺设备顶盖完成对接，具体包括：
22、使辅助机构的顶端下降直至无法继续降低，通过第三测距传感件获取检修容器底面与工艺设备顶面的间距，
23、若间距与预设间距不一致，则生成工艺设备表面存在杂质警报，用于提示工作人员处理杂质，
24、若间距与预设间距一致，则生成检修容器底盖与工艺设备顶盖完成对接信号。
25、优选的，所述辅助机构的顶端能够相对底端沿两个相互垂直的方向水平移动，且两个方向上移动行程的末端均设有行程开关，两个方向上移动行程的中心均与辅助机构的底端中心重合，所述将辅助机构的顶端中心轴水平移动至与辅助机构的底端中心轴重合处，具体是：
26、使辅助机构的顶端沿一个方向水平移动至触发一端行程开关后，再反向移动至触发另一端行程开关，从而根据两端行程开关位置确定该方向上移动行程的中心，
27、再使辅助机构的顶端沿另一个方向水平移动至触发一端行程开关后，再反向移动至触发另一端行程开关，从而根据两端行程开关位置确定该方向上移动行程的中心，
28、使辅助机构的顶端中心轴移动至两个方向上移动行程的中心处，从而到达与辅助机构的底端中心轴重合处。
29、优选的，所述将辅助机构的顶端中心轴水平移动至与辅助机构的底端中心轴重合处，之后还包括：
30、根据所述辅助机构的顶端移动至两个方向上移动行程的中心处，获取移动行程端部至中心的距离，并与预设距离比对，在二者一致时判定所述将辅助机构的顶端中心轴水平移动至与辅助机构的底端中心轴重合处有效。
3本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种双盖系统对接方法，其特征在于，采用对接装置，所述对接装置包括辅助机构(1)，辅助机构(1)的顶端能够相对底端运动，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述通过辅助机构(1)的顶端托持检修容器(3)相对底端运动使检修容器(3)的底盖和工艺设备(2)的顶盖完成对接，具体包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的双盖系统对接方法，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述辅助机构(1)具有第一测距传感件(13)，所述第一测距传感件(13)位于第一高度处，设有至少两组，各组第一测距传感件(13)的检测端均朝向辅助机构(1)的底端中部，
5.根据权利要求4所述的双盖系统对接方法，其特征在于，每组所述第一测距传感件(13)均设有多个，
6.根据权利要求4所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述对接装置还包括对接槽(4)，对接槽(4)同轴设置在工艺设备(2)顶盖的外围，且突出于工艺设备(2)顶面，用于与对接环(5)对接，
7.根据权利要求6所述的双盖系统
8.根据权利要求4所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述对接环(5)内侧的检修容器(3)底面上设有第三测距传感件(52)，所述第三测距传感件(52)沿对接环(5)轴向布置，
9.根据权利要求2所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述辅助机构(1)的顶端能够相对底端沿两个相互垂直的方向水平移动，且两个方向上移动行程的末端均设有行程开关，两个方向上移动行程的中心均与辅助机构(1)的底端中心重合，
10.根据权利要求9所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述将辅助机构(1)的顶端中心轴水平移动至与辅助机构(1)的底端中心轴重合处之后，所述方法还包括：
11.一种双盖系统对接装置，其特征在于：所述对接装置具体包括辅助机构(1)、对接环(5)和对接槽(4)，
12.根据权利要求11所述的双盖系统对接装置，其特征在于：所述辅助机构(1)的底端为底板(11)，顶端为托持组件(12)，
13.根据权利要求12所述的双盖系统对接装置，其特征在于：所述底板(11)上设有内孔(111)，
14.根据权利要求12所述的双盖系统对接装置，其特征在于：还包括控制系统，所述辅助机构(1)具有第一测距传感件(13)，
15.根据权利要求14所述的双盖系统对接装置，其特征在于：所述对接环(5)上设有多个第二测距传感件(51)，各第二测距传感件(51)沿对接环(5)的径向布置，
...【技术特征摘要】
1.一种双盖系统对接方法，其特征在于，采用对接装置，所述对接装置包括辅助机构(1)，辅助机构(1)的顶端能够相对底端运动，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述通过辅助机构(1)的顶端托持检修容器(3)相对底端运动使检修容器(3)的底盖和工艺设备(2)的顶盖完成对接，具体包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的双盖系统对接方法，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述辅助机构(1)具有第一测距传感件(13)，所述第一测距传感件(13)位于第一高度处，设有至少两组，各组第一测距传感件(13)的检测端均朝向辅助机构(1)的底端中部，
5.根据权利要求4所述的双盖系统对接方法，其特征在于，每组所述第一测距传感件(13)均设有多个，
6.根据权利要求4所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述对接装置还包括对接槽(4)，对接槽(4)同轴设置在工艺设备(2)顶盖的外围，且突出于工艺设备(2)顶面，用于与对接环(5)对接，
7.根据权利要求6所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述对接环(5)上设有多个第二测距传感件(51)，各第二测距传感件(51)沿对接环(5)的径向布置，
8.根据权利要求4所述的双盖系统对接方法，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：段宏，降宇波，梁汝囡，寇维鹏，杨秀杰，王志鹏，吴德慧，王靳南，王广开，刘佳朋，
申请(专利权)人：中国核电工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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