一种高度可调节的生长基台制造技术

本技术属于化学气相沉积法沉积金刚石技术领域，具体为一种高度可调节的生长基台，其包括：升降支座、升降台和导向机构，升降支座包括底座、转套、丝杆、从动齿轮、支架、转轴和驱动齿轮，所述底座中心设置转套，所述转套内连接丝杆，所述丝杆下端设置从动齿轮，所述底座顶部侧边设置支架，所述支架上设置伸出底座的转轴，所述转轴左端设置与从动齿轮啮合的驱动齿轮；升降台连接在所述丝杆上，所述升降台包括基片台和螺纹套，通过转轴带动驱动齿轮转动，驱动齿轮啮合带动从动齿轮转动，从动齿轮同步带动丝杆转动，利用丝杆在螺纹进给的作用下带动升降台进行升降，调节基片台的高度，调节操作仅需转动转轴即可，操作方便快捷。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学气相沉积法沉积金刚石，具体为一种高度可调节的生长基台。

技术介绍

1、微波等离子体化学气相沉积法是一种应用广泛的新型cvd沉积方式，在制备单晶金刚石时具有放电稳定，生长可控，安全高效的特点。

2、专利号cn201721069482.1中公开了一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台,包括底座，所述底座的上表面竖直设有两个相互平行设置的第一立柱，所述第一立柱为中空结构，两个所述第一立柱中均竖直设有第二立柱，且第二立柱贯穿第一立柱的上端侧壁设置，两个所述第二立柱远离第一立柱的侧壁之间横向设有台体，两个所述第一立柱的侧壁均横向设有套筒，所述套筒中横向设有转杆，且转杆贯穿套筒和第一立柱的侧壁设置，位于所述第一立柱中的转杆一端设有齿轮，所述第二立柱的侧壁竖直设有与齿轮匹配的齿条，所述转杆为中空结构。

3、上述基片台使用时，采用两侧的齿条进行支撑，在调节时，需要拨动两侧的拨片，然后转动两侧的转杆带动齿条升降，操作繁琐不便，为此，本申请提出一种高度可调节的生长基台。

技术实现思路

1、本本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高度可调节的生长基台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)底部设置有均匀分布的支腿，所述支腿底部均设置有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述转套(120)与丝杆(130)之间、支架(150)与转轴(160)之间均设置有轴承。

4.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)采用凹型座，所述底座(110)侧壁开设有通孔，所述转轴(160)从通孔穿出底座(110)外侧。

5.根据权利要求1所述的一种高度...

【技术特征摘要】

1.一种高度可调节的生长基台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)底部设置有均匀分布的支腿，所述支腿底部均设置有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述转套(120)与丝杆(130)之间、支架(150)与转轴(160)之间均设置有轴承。

4.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)采用凹型座，所述底座(110)侧壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁稳，侯淅燕，郑怡，李兵，
申请(专利权)人：成都稳正科技有限公司，
类型：新型
国别省市：