一种高度可调节的生长基台制造技术

本技术属于化学气相沉积法沉积金刚石技术领域，具体为一种高度可调节的生长基台，其包括：升降支座、升降台和导向机构，升降支座包括底座、转套、丝杆、从动齿轮、支架、转轴和驱动齿轮，所述底座中心设置转套，所述转套内连接丝杆，所述丝杆下端设置从动齿轮，所述底座顶部侧边设置支架，所述支架上设置伸出底座的转轴，所述转轴左端设置与从动齿轮啮合的驱动齿轮；升降台连接在所述丝杆上，所述升降台包括基片台和螺纹套，通过转轴带动驱动齿轮转动，驱动齿轮啮合带动从动齿轮转动，从动齿轮同步带动丝杆转动，利用丝杆在螺纹进给的作用下带动升降台进行升降，调节基片台的高度，调节操作仅需转动转轴即可，操作方便快捷。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学气相沉积法沉积金刚石，具体为一种高度可调节的生长基台。

技术介绍

1、微波等离子体化学气相沉积法是一种应用广泛的新型cvd沉积方式，在制备单晶金刚石时具有放电稳定，生长可控，安全高效的特点。

2、专利号cn201721069482.1中公开了一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台,包括底座，所述底座的上表面竖直设有两个相互平行设置的第一立柱，所述第一立柱为中空结构，两个所述第一立柱中均竖直设有第二立柱，且第二立柱贯穿第一立柱的上端侧壁设置，两个所述第二立柱远离第一立柱的侧壁之间横向设有台体，两个所述第一立柱的侧壁均横向设有套筒，所述套筒中横向设有转杆，且转杆贯穿套筒和第一立柱的侧壁设置，位于所述第一立柱中的转杆一端设有齿轮，所述第二立柱的侧壁竖直设有与齿轮匹配的齿条，所述转杆为中空结构。

3、上述基片台使用时，采用两侧的齿条进行支撑，在调节时，需要拨动两侧的拨片，然后转动两侧的转杆带动齿条升降，操作繁琐不便，为此，本申请提出一种高度可调节的生长基台。

技术实现思路

1、本部分的目的在于概述本技术的实施方式的一些方面以及简要介绍一些较佳实施方式。在本部分以及本申请的说明书摘要和技术名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和技术名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本技术的范围。

2、鉴于上述和/或现有高度可调节的生长基台中存在的问题，提出了本技术。

3、因此，本技术的目的是提供一种高度可调节的生长基台，通过转动底座上的转轴，通过转轴带动驱动齿轮转动，驱动齿轮啮合带动从动齿轮转动，从动齿轮同步带动丝杆转动，利用丝杆在螺纹进给的作用下带动升降台进行升降，调节基片台的高度，调节操作仅需转动转轴即可，操作方便快捷。为解决上述技术问题，根据本技术的一个方面，本技术提供了如下技术方案：

4、一种高度可调节的生长基台，其包括：

5、升降支座，包括底座、转套、丝杆、从动齿轮、支架、转轴和驱动齿轮，所述底座中心设置转套，所述转套内连接丝杆，所述丝杆下端设置从动齿轮，所述底座顶部侧边设置支架，所述支架上设置伸出底座的转轴，所述转轴左端设置与从动齿轮啮合的驱动齿轮；

6、升降台，连接在所述丝杆上，所述升降台包括基片台和螺纹套，所述基片台底部固定设置与丝杆连接的螺纹套；

7、导向机构，设置在所述底座与基片台之间，所述导向机构包括套筒和滑杆，所述套筒底部固定在底座顶部，所述套筒顶部插接固定在基片台底部的滑杆。

8、作为本技术所述的一种高度可调节的生长基台的一种优选方案，其中：所述底座底部设置有均匀分布的支腿，所述支腿底部均设置有防滑垫。

9、作为本技术所述的一种高度可调节的生长基台的一种优选方案，其中：所述转套与丝杆之间、支架与转轴之间均设置有轴承。

10、作为本技术所述的一种高度可调节的生长基台的一种优选方案，其中：所述底座采用凹型座，所述底座侧壁开设有通孔，所述转轴从通孔穿出底座外侧。

11、作为本技术所述的一种高度可调节的生长基台的一种优选方案，其中：所述从动齿轮与驱动齿轮采用相互啮合的锥形齿轮。

12、作为本技术所述的一种高度可调节的生长基台的一种优选方案，其中：所述转轴外端设置有转轮，所述转轮外部设置有防滑凸纹。

13、作为本技术所述的一种高度可调节的生长基台的一种优选方案，其中：所述导向机构均匀分布在底座与基片台之间。

14、与现有技术相比：本技术通过转动底座上的转轴，通过转轴带动驱动齿轮转动，驱动齿轮啮合带动从动齿轮转动，从动齿轮同步带动丝杆转动，利用丝杆在螺纹进给的作用下带动升降台进行升降，调节基片台的高度，调节操作仅需转动转轴即可，操作方便快捷。

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【技术保护点】

1.一种高度可调节的生长基台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)底部设置有均匀分布的支腿，所述支腿底部均设置有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述转套(120)与丝杆(130)之间、支架(150)与转轴(160)之间均设置有轴承。

4.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)采用凹型座，所述底座(110)侧壁开设有通孔，所述转轴(160)从通孔穿出底座(110)外侧。

5.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述从动齿轮(140)与驱动齿轮(170)采用相互啮合的锥形齿轮。

6.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述转轴(160)外端设置有转轮，所述转轮外部设置有防滑凸纹。

7.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述导向机构(300)均匀分布在底座(110)与基片台(210)之间。

【技术特征摘要】

1.一种高度可调节的生长基台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)底部设置有均匀分布的支腿，所述支腿底部均设置有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述转套(120)与丝杆(130)之间、支架(150)与转轴(160)之间均设置有轴承。

4.根据权利要求1所述的一种高度可调节的生长基台，其特征在于，所述底座(110)采用凹型座，所述底座(110)侧壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁稳，侯淅燕，郑怡，李兵，
申请(专利权)人：成都稳正科技有限公司，
类型：新型
国别省市：