【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空蒸镀设备,尤其涉及一种蒸镀系统和真空蒸镀设备。
技术介绍
1、真空蒸镀简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。
2、在铝复合集流体加工过程中,一般会用到蒸镀设备,其主体结构包括蒸发槽,在其内部设置坩埚或蒸发舟,通过感应加热或电阻加热的方式,使得蒸发器皿上的铝液蒸发,并冷却沉积在薄膜表面。现有技术中,为增加铝晶体的附着力,往往会在薄膜上形成打底层。其中,氧化铝为常用的打底层,其通过传统蒸镀的方式,是通过在送丝过程中通过氧气(cn112048700a),使得蒸发后的铝蒸汽直接反应形成氧化铝,沉积在薄膜表面,上述结构一般是在蒸发的气体路径上设置输气管,输气管气孔朝向铝蒸汽氛围中输出。
3、上述结构的蒸发槽,存在两个问题,由于输出位置固定,因此蒸发路径中氧气浓度不同,影响均匀性;另一个是,输气管固定安装,长期处于铝蒸汽氛围中(或附近),容易积铝、也容易堵塞损坏,积铝后铝渣还存在掉落风险,蒸镀时容易污染靶材。
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...【技术保护点】
1.一种蒸镀系统,包括:
2.如权利要求1所述的蒸镀系统,其特征在于:输气管设置在蒸发器皿和待蒸镀材料间,且输气管长度方向沿横向或纵向设置。
3.如权利要求2所述的蒸镀系统,其特征在于:输气管设置为多组,独立进行往复运动。
4.如权利要求2或3所述的蒸镀系统,其特征在于:输气管轴向上设置若干气孔,气孔对应分布在输气管往复移动方向的两侧。
5.如权利要求4所述的蒸镀系统,其特征在于:气孔朝向基膜方向向上倾斜,其倾斜角度α为0-90°。
6.如权利要求5所述的蒸镀系统,其特征在于:设置在输气管两侧的气孔错位设置。
7.如...
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀系统,包括:
2.如权利要求1所述的蒸镀系统,其特征在于:输气管设置在蒸发器皿和待蒸镀材料间,且输气管长度方向沿横向或纵向设置。
3.如权利要求2所述的蒸镀系统,其特征在于:输气管设置为多组,独立进行往复运动。
4.如权利要求2或3所述的蒸镀系统,其特征在于:输气管轴向上设置若干气孔,气孔对应分布在输气管往复移动方向的两侧。
5.如权利要求4所述的蒸镀系统,其特征在于:气孔朝向基膜方向向上倾斜,其倾斜角度α为0-90°。
6.如权利要求5所述的蒸镀系统,其特征在于:设置在输...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘志康,伽龙,吴明忠,吴林海,
申请(专利权)人:浙江柔震科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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