【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及掩膜板制备，特别涉及一种高精密掩膜板及其制备方法。
技术介绍
1、oled显示屏相较于lcd显示屏具有较多优势，例如色彩再现好、响应时间短、低温特性好，且厚度可以做到更薄、重量更轻、柔性更好；目前手机、手表等显示器已普遍使用了oled显示屏。
2、oled显示屏制造用蒸镀机中设置有发光层蒸镀室，所述发光层蒸镀室内设置有蒸镀时遮蔽其它像素的精密掩膜板(fmm)，通过发光层蒸镀室内的精密掩膜板可实现将rgb发光层有机材料分别蒸镀到基板的rgb像素点上。现有量产所用的精密掩膜板厚度一般在30-50μm，其通常用湿法刻蚀出蒸镀时材料蒸气穿过的孔洞，由于湿法刻蚀的各向同性，较厚的箔材难以把孔洞做到更小从而得到更高的分辨率；另一方面，由于一些有机材料蒸气蒸镀至基板时有一定的蒸发入射角，为使基板像素内均匀填充有机膜，往往需要将膜片制作得很薄，且像素分辨率越高，需要的掩膜板越薄，而掩膜片越薄，其强度也就越弱，强度弱的掩膜片容易起皱或破裂，从而给绑定、搬送和镀膜带来较严重的问题。
3、因此，现有技术还有待于改进和发展
【技术保护点】
1.一种高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，包括步骤：
2.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为透明载板且所述分离层为牺牲层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为透明载板且所述分离层为像素限制膜层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
4.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为透明载板且所述分离层为由牺牲层和像素限制膜层依次叠合的组合层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
5.根据权利要求1...
【技术特征摘要】
1.一种高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，包括步骤：
2.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为透明载板且所述分离层为牺牲层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为透明载板且所述分离层为像素限制膜层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
4.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为透明载板且所述分离层为由牺牲层和像素限制膜层依次叠合的组合层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
5.根据权利要求1所述高精密掩膜板的制备方法，其特征在于，当所述载板为非透明载板且所述分离层为第一光阻膜层时，则在形成光阻图案膜后包括以下步骤：
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