【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对基板进行处理的基板处理模块和具备基板处理模块的基板处理装置。
技术介绍
1、专利文献1公开了一种基板处理装置，其中，在装置的长尺寸方向上配置有多对药液槽和清洗槽，并且具有主输送机构和副输送机构。主输送机构使多个基板在长尺寸方向上从装置的一端侧移动至另一端侧。副输送机构使多个基板在一对药液槽和清洗槽的范围内在长尺寸方向和上下方向上移动。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2018－56158号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的问题
2、本专利技术的问题在于，在使用多个槽来对基板进行处理的基板处理装置中，提升多个槽各自的运转率并提高基板处理装置的生产能力(throughput)。
3、用于解决问题的方案
4、为了解决上述问题，根据本专利技术的一个方案，提供一种基板处理模块，其具有：
5、第一槽和第二槽，在第一方向上排列，能配置基板；以及
6、两个第一输送部，输送所述基板，
7、一方的所述第一输送部具备能升降且在保持有基板的状态下配置于所述第一槽内的第一卡盘(chuck)，
8、另一方的所述第一输送部具备能升降且在保持有基板的状态下配置于所述第二槽内的第二卡盘，
9、所述第一卡盘和所述第二卡盘中的至少一方能在所述第一槽的上方位置与所述第二槽的上方位置之间移动，
10、所述第一卡盘和所述第二卡盘构成为能
11、根据本专利技术的另一方案，提供一种基板处理装置，其具备：所述基板处理模块；以及在与所述第一方向交叉的第二方向上连结于所述基板处理模块的其他模块。
12、专利技术效果
13、根据本专利技术，在使用多个槽来对基板进行处理的基板处理装置中，能提升多个槽各自的运转率并提高基板处理装置的生产能力。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板处理模块，具有：
2.根据权利要求1所述的基板处理模块，其中，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理模块，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理模块，其中，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板处理模块，其中，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理模块，还具有：
7.根据权利要求6所述的基板处理模块，其中，
8.根据权利要求7所述的基板处理模块，其中，
9.一种基板处理装置，具备：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板处理模块，具有：
2.根据权利要求1所述的基板处理模块，其中，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理模块，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理模块，其中，
5.根据权利要求1至4中任一...
【专利技术属性】
技术研发人员：出口泰纪，
申请(专利权)人：大金优科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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