【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对基板进行处理的基板处理模块和具备基板处理模块的基板处理装置。
技术介绍
1、专利文献1公开了一种基板处理装置，其中，在装置的长尺寸方向上配置有多对药液槽和清洗槽，并且具有主输送机构和副输送机构。主输送机构使多个基板在长尺寸方向上从装置的一端侧移动至另一端侧。副输送机构使多个基板在一对药液槽和清洗槽的范围内在长尺寸方向和上下方向上移动。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2018－56158号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的问题
2、在专利文献1所记载的基板处理装置的情况下，药液槽、清洗槽等多个处理槽在主输送机构的基板的主输送方向上并排。因此，处理槽越增加，基板的主输送方向的基板处理装置的尺寸越大。
3、因此，本专利技术的问题在于，抑制由处理槽的数量的增加引起的基板处理装置的大型化。
4、用于解决问题的方案
5、为了解决上述问题，根据本专利技术的一个方案，提供一种基板处理模块，对基板进行处理，所述基板处理模块具有：
6、第一槽和第二槽，在第一方向上排列，能配置基板；
7、第一输送部，将所述基板输送至所述第一槽和所述第二槽；以及
8、第二输送部，在与所述第一方向交叉的第二方向上输送所述基板，与所述第一输送部进行所述基板的交接，
9、所述第二输送部具备：卡盘(chuck)，保持所述基板并通过所述第一槽的上方；以
10、所述第二输送部的所述致动器在所述基板处理模块中配置于所述第一方向上的所述第一槽侧。
11、根据本专利技术的另一方案，提供一种基板处理装置，其具备：所述基板处理模块；以及在所述第二方向上连结于所述基板处理模块的其他模块。
12、专利技术效果
13、根据本专利技术，能抑制由处理槽的数量的增加引起的基板处理装置的大型化。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板处理模块，对基板进行处理，所述基板处理模块具有：
2.根据权利要求1所述的基板处理模块，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理模块，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理模块，其中，
5.根据权利要求4所述的基板处理模块，其中，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理模块，其中，
7.根据权利要求6所述的基板处理模块，具有：
8.根据权利要求1至7中任一项所述的基板处理模块，其中，
9.根据权利要求1至8中任一项所述的基板处理模块，其中，
10.一种基板处理装置，具备：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板处理模块，对基板进行处理，所述基板处理模块具有：
2.根据权利要求1所述的基板处理模块，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理模块，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理模块，其中，
5.根据权利要求4所述的基板处理模块，其中，
【专利技术属性】
技术研发人员：出口泰纪，
申请(专利权)人：大金优科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。