【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体设备，具体涉及一种用于立式炉的冷却系统。
技术介绍
1、近年来，半导体相关产业发展迅速，晶圆的热处理在所有的半导体制造工艺中是必不可少。其中，立式炉具有产能大、可批量式处理的特点从而得到大量应用。在fab厂内，为满足产能需求，设备不间断运行，因此，设备运行的稳定性十分重要，各部件在运转过程中产生的热能需要及时通过水循环带走。
2、传统的冷却水系统设计占地空间大，流量控制采用浮子流量计，控制精度难以保证，且流量大小采用接近式传感器，感应液面位置，其精度较差，无法实现可靠报警。漏水检测一般采用光电漫反传感器，易受到粉尘或其他遮挡物的干扰产生故障报警，致使设备停机。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是克服而现有的立式炉水冷系统大多集成度不高、设备占地多、维护不方便等不足，提供一种结构紧凑、集成度高、冷却效果显著且维护便捷的用于立式炉的冷却系统。
2、为解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：
3、一种用于立式炉的冷却系统，包括：支撑框架，以及安装在支撑框架上的供水支路、回水支路、歧管块、供水总管、回水总管、漏液检测部件和流量监测显示器；所述供水总管与外围冷却水源连通，多个所述供水支路的输入端与供水总管连通，各个供水支路的输出端分别对应连接立式炉中各个待冷却部件的冷却流道入口，以实现立式炉中的部件独立冷却；多个所述回水支路的输入端分别对应连接立式炉中各个待冷却部件的冷却流道出口，多个回水支路的输出端汇集至回水总管，回
4、作为本专利技术的进一步改进，多个所述回水支路上均设有流量开关，所述流量开关用于控制冷却水流量。
5、作为本专利技术的进一步改进，所述歧管块中还连接有比例泄压阀，所述比例泄压阀分别与供水总管和回水总管连通，以用于调节进出水量。
6、作为本专利技术的进一步改进，所述漏液检测部件包括检测带和终端电阻，所述检测带位于歧管块下方，检测带的两端分别与终端电阻连接；若有漏液滴落到检测带上，则检测带与终端电阻之间的电路连通。
7、作为本专利技术的进一步改进，所述流量监测显示器还与plc控制器或工控机连接，并输出模拟量至plc控制器或工控机，以实现冷却水流量实时监控和报警。
8、作为本专利技术的进一步改进，所述供水总管上并排设有多个供水支管接口，所述供水支管接口与供水支路之间设有进水支路控制阀，以实现各个供水支路独立控制进水。
9、作为本专利技术的进一步改进，所述回水总管上并排设有多个回水支管接口，所述回水支管接口与回水支路之间设有回水支路控制阀，以实现各个回水支路独立控制回水。
10、作为本专利技术的进一步改进，所述支撑框架上设有多个管夹块，所述管夹块用于固定供水总管和回水总管。
11、作为本专利技术的进一步改进，所述供水支路和回水支路均包括四个独立的支路，其中，第一个支路用于冷却承载台，第二个支路用于冷却反应室炉体，第三个支路用于冷却多支路歧管，第四个支路用于冷却摆动炉门和炉体顶部散热器。
12、作为本专利技术的进一步改进，所述第一个支路和第三个支路的冷却水流量为0～5l/min，第二个支路和第四个支路的冷却水流量为0～10l/min。
13、与现有技术相比，本专利技术的优点在于：
14、本专利技术的用于立式炉的冷却系统，通过采用模块化设计，具有集成所有水管支路供水与回水的功能，具有空间占地小、维护方便的特点。该冷却系统的每条支路采用高精度非接触式流量传感器，对支路的流量进行实时监测。通过控制流量开关的流量，可精确控制反应室、水冷法兰、摆动炉门、散热器、承载台等部件的水流量，从而达到精确控制各部件温度的目的，采用接触式漏水检测传感器提高了检测的可靠性。该冷却系统的使用提高了设备的可靠性和使用寿命，以及工艺运行的稳定性。
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1.一种用于立式炉的冷却系统，其特征在于，包括：支撑框架(11)，以及安装在支撑框架(11)上的供水支路(1)、回水支路(2)、歧管块(4)、供水总管(5)、回水总管(6)、漏液检测部件(7)和流量监测显示器(10)；所述供水总管(5)与外围冷却水源连通，多个所述供水支路(1)的输入端与供水总管(5)连通，各个供水支路(1)的输出端分别对应连接立式炉中各个待冷却部件的冷却流道入口，以实现立式炉中的部件独立冷却；多个所述回水支路(2)的输入端分别对应连接立式炉中各个待冷却部件的冷却流道出口，多个回水支路(2)的输出端汇集至回水总管(6)，回水总管(6)与外围排水管连通，以实现冷却水外排；所述供水总管(5)和回水总管(6)均与歧管块(4)连接固定，所述歧管块(4)固定在支撑框架(11)端部，以实现供水总管(5)和回水总管(6)固定安装，且进水和回水在歧管块(4)中进行整流；所述漏液检测部件(7)设置在支撑框架(11)端部，并位于歧管块(4)下方，以用于检测漏液；多个所述流量监测显示器(10)均设置在支撑框架(11)上，各个供水支路(1)中均设有与流量监测显示器(10)一一匹配的超声波
2.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，多个所述回水支路(2)上均设有流量开关(3)，所述流量开关(3)用于控制冷却水流量。
3.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述歧管块(4)中还连接有比例泄压阀(12)，所述比例泄压阀(12)分别与供水总管(5)和回水总管(6)连通，以用于调节进出水量。
4.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述漏液检测部件(7)包括检测带(71)和终端电阻(72)，所述检测带(71)位于歧管块(4)下方，检测带(71)的两端分别与终端电阻(72)连接；若有漏液滴落到检测带(71)上，则检测带(71)与终端电阻(72)之间的电路连通。
5.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述流量监测显示器(10)还与PLC控制器或工控机连接，并输出模拟量至PLC控制器或工控机，以实现冷却水流量实时监控和报警。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述供水总管(5)上并排设有多个供水支管接口(51)，所述供水支管接口(51)与供水支路(1)之间设有进水支路控制阀(9)，以实现各个供水支路(1)独立控制进水。
7.根据权利要求1至5中任意一项所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述回水总管(6)上并排设有多个回水支管接口(61)，所述回水支管接口(61)与回水支路(2)之间设有回水支路控制阀(8)，以实现各个回水支路(2)独立控制回水。
8.根据权利要求1至5中任意一项所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述支撑框架(11)上设有多个管夹块(13)，所述管夹块(13)用于固定供水总管(5)和回水总管(6)。
9.根据权利要求1至5中任意一项所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述供水支路(1)和回水支路(2)均包括四个独立的支路，其中，第一个支路用于冷却承载台，第二个支路用于冷却反应室炉体，第三个支路用于冷却多支路歧管，第四个支路用于冷却摆动炉门和炉体顶部散热器。
10.根据权利要求9所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述第一个支路和第三个支路的冷却水流量为0～5L/min，第二个支路和第四个支路的冷却水流量为0～10L/min。
...【技术特征摘要】
1.一种用于立式炉的冷却系统，其特征在于，包括：支撑框架(11)，以及安装在支撑框架(11)上的供水支路(1)、回水支路(2)、歧管块(4)、供水总管(5)、回水总管(6)、漏液检测部件(7)和流量监测显示器(10)；所述供水总管(5)与外围冷却水源连通，多个所述供水支路(1)的输入端与供水总管(5)连通，各个供水支路(1)的输出端分别对应连接立式炉中各个待冷却部件的冷却流道入口，以实现立式炉中的部件独立冷却；多个所述回水支路(2)的输入端分别对应连接立式炉中各个待冷却部件的冷却流道出口，多个回水支路(2)的输出端汇集至回水总管(6)，回水总管(6)与外围排水管连通，以实现冷却水外排；所述供水总管(5)和回水总管(6)均与歧管块(4)连接固定，所述歧管块(4)固定在支撑框架(11)端部，以实现供水总管(5)和回水总管(6)固定安装，且进水和回水在歧管块(4)中进行整流；所述漏液检测部件(7)设置在支撑框架(11)端部，并位于歧管块(4)下方，以用于检测漏液；多个所述流量监测显示器(10)均设置在支撑框架(11)上，各个供水支路(1)中均设有与流量监测显示器(10)一一匹配的超声波流量计，流量监测显示器(10)用于实时显示供水支路(1)中的冷却水流量。
2.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，多个所述回水支路(2)上均设有流量开关(3)，所述流量开关(3)用于控制冷却水流量。
3.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述歧管块(4)中还连接有比例泄压阀(12)，所述比例泄压阀(12)分别与供水总管(5)和回水总管(6)连通，以用于调节进出水量。
4.根据权利要求1所述的用于立式炉的冷却系统，其特征在于，所述漏液检测部件(7)包括检测带(71)和...
【专利技术属性】
技术研发人员：樊坤，龙会跃，晏雅媚，谭恺琪，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所，
类型：发明
国别省市：
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