【技术实现步骤摘要】
本申请涉及无机非金属材料，具体涉及氧化锆复合陶瓷及其制备方法、应用。
技术介绍
1、氧化锆陶瓷因同时具有高强度、高硬度和优异的耐腐蚀性而被广泛应用。特别是在电子设备用户量井喷的时代，具有氧化锆陶瓷壳体的手机以及智能穿戴设备的市场热度越来越高，黑色氧化锆陶瓷壳体尤其受欢迎。但是，业界一般通过在氧化锆陶瓷内引入氧化钴等彩色氧化物或者简单加入二氧化钛来制备黑色氧化锆陶瓷，上述方法制得的黑色氧化锆陶瓷要么颜色不够纯正，要么成本过高。因此，亟需开发一种颜色纯正度高、力学性能好且生产成本低的黑色氧化锆陶瓷。
技术实现思路
1、鉴于此，本申请提供了氧化锆复合陶瓷及其制备方法，该氧化锆复合陶瓷的颜色纯正度高、视觉冲击力强，且其具有优异的抗跌落性能，能够用于提供极具外观辨识度的电子设备壳体组件。
2、本申请第一方面提供了一种氧化锆复合陶瓷，该氧化锆复合陶瓷以下重量百分比的物相：92wt.％-99wt.％的钇稳定四方相氧化锆及1wt.％-8wt.％钛基复合氧化物；其中，所述钛基复合氧化物的分子通式包括ti(1-x-y)mxayo(2-x-0.5y)，x＝0或0.01≤x≤0.1，y＝0或0.01≤y≤0.1，x、y不同时为0；m元素包括co、ni、mn、zn、mg、sr、ba和ca中的至少一种；a元素包括cr、fe、al、la、er、nd和yb中的至少一种。
3、钛基复合氧化物ti(1-x-y)mxayo(2-x-0.5y)为黑色，且纯正度高，从而使得复合氧化锆陶瓷展现出更加纯
4、本申请第二方面提供了一种氧化锆复合陶瓷的制备方法，包括以下步骤：
5、(1)混合m元素源和/或a元素源、二氧化钛，然后进行第一烧结处理，得到复合氧化物原料；其中，所述复合氧化物原料的分子通式包括ti(1-x’-y’)mx’ay’o(2-x’-0.5y’)，x’＝0或0.01≤x’≤0.1，y’＝0或0.01≤y’≤0.1，x’、y’不同时为0；所述m元素包括co、ni、mn、zn、mg、sr、ba和ca中的至少一种；所述a元素包括cr、fe、al、la、er、nd和yb中的至少一种；
6、(2)将钇稳定四方相氧化锆和所述复合氧化物原料混合后进行一次烧结，冷却后再依次进行破碎、粒径细化处理，得到前驱体材料；
7、(3)将所述前驱体材料依次进行造粒、压制、第二烧结以及还原烧结处理，得到氧化锆复合陶瓷；其中，所述氧化锆复合陶瓷包括以下重量百分比的物相：92wt.％-99wt.％的钇稳定四方相氧化锆及1wt.％-8wt.％钛基复合氧化物；其中，所述钛基复合氧化物的分子通式包括ti(1-x-y)mxayo(2-x-0.5y)，x＝0或0.01≤x≤0.1，y＝0或0.01≤y≤0.1，x、y不同时为0。
8、上述制备方法步骤简单、生产效率高、生产成本低，可实现大规模工业化生产。
9、本申请第三方面提供了一种盖板，包括本申请第一方面提供的氧化锆复合陶瓷或者按本申请第二方面提供的制备方法制得的氧化锆复合陶瓷。
10、上述盖板由于带有本申请提供的氧化锆复合陶瓷，拥有高纯正度的黑色外观且其具有较高的强度，抗跌落性能好，可兼顾美观与力学性能，从而可用于提供一种带有纯正黑色的陶瓷外观的电子设备，可显著提高电子设备的辨识度和市场竞争力。
11、本申请第四方面提供了一种电子设备，包括本申请第三方面提供的盖板。该电子设备因带有上述盖板，其外观辨识度高、市场竞争力强。
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1.一种氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括以下重量百分比的物相：92wt.％-99wt.％的钇稳定四方相氧化锆及1wt.％-8wt.％钛基复合氧化物；其中，所述钛基复合氧化物的分子通式包括Ti(1-x-y)MxAyO(2-x-0.5y)，其中，x＝0或0.01≤x≤0.1，y＝0或0.01≤y≤0.1，x、y不同时为0；M元素包括Co、Ni、Mn、Zn、Mg、Sr、Ba和Ca中的至少一种；A元素包括Cr、Fe、Al、La、Er、Nd和Yb中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷的颜色具有6.51～7.35之间的L值，0.04～0.23之间的a值，-0.29～-0.10之间的b值。
3.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷的维氏硬度大于或等于1260Hv。
4.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括93wt.％-98wt.％的钇稳定的四方相氧化锆及2wt.％-7wt.％钛基复合氧化物。
5.根据权利要求1所述的氧
6.根据权利要求1所述的陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括以下质量百分数的各元素：63.38wt％-71.38wt％的锆元素、1.88wt％-5.41wt％的钇元素、0.54wt％-4.75wt％的钛元素、0.006wt％-0.59wt％的第一元素，以及氧元素；其中，所述第一元素包括所述M元素和所述A元素中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括以下质量百分数的各元素：64.06wt％-70.65wt％的锆元素、1.91wt％-5.36wt％的钇元素、1.08wt％-4.16wt％的钛元素、0.012wt％-0.52wt％的第一元素，以及氧元素；其中，所述第一元素包括所述M元素和所述A元素中的至少一种。
8.一种氧化锆复合陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述第一烧结处理的温度为1100℃-1300℃，时间为1h-3h。
10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述还原烧结的条件为：在氢气气氛下，以1150℃-1250℃的温度保温1h-3h。
11.一种盖板，其特征在于，所述盖板包括如权利要求1-7任一项所述的氧化锆复合陶瓷或者按权利要求8-10任一项所述的制备方法制得的氧化锆复合陶瓷。
12.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括如权利要求11所述的盖板。
...【技术特征摘要】
1.一种氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括以下重量百分比的物相：92wt.％-99wt.％的钇稳定四方相氧化锆及1wt.％-8wt.％钛基复合氧化物；其中，所述钛基复合氧化物的分子通式包括ti(1-x-y)mxayo(2-x-0.5y)，其中，x＝0或0.01≤x≤0.1，y＝0或0.01≤y≤0.1，x、y不同时为0；m元素包括co、ni、mn、zn、mg、sr、ba和ca中的至少一种；a元素包括cr、fe、al、la、er、nd和yb中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷的颜色具有6.51～7.35之间的l值，0.04～0.23之间的a值，-0.29～-0.10之间的b值。
3.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷的维氏硬度大于或等于1260hv。
4.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括93wt.％-98wt.％的钇稳定的四方相氧化锆及2wt.％-7wt.％钛基复合氧化物。
5.根据权利要求1所述的氧化锆复合陶瓷，其特征在于，钇元素在所述钇稳定四方相氧化锆中的摩尔含量为1.5mol％-4mol％。
6.根据权利要求1所述的陶瓷，其特征在于，所述氧化锆复合陶瓷包括以下质量百分数的各...
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