【技术实现步骤摘要】
本公开涉及生化检测，尤其涉及一种用于流动池内表面的涂层处理系统。
技术介绍
1、基因测序芯片是现代遗传学研究中的重要工具，用于分析和解读dna序列；基因测序芯片包括玻璃底板和石英层，两者粘接构成带有流道的芯片整体；所有的基因测序芯片在使用前均需要对其内部的流道进行涂层处理。
2、为了满足涂层处理需求，现有技术中公开的方案为：在基因测序芯片粘接前，即先分别对玻璃底板、石英层的表面进行涂层处理，然后再把两者粘接起来，但是已完成的涂层区域会影响粘接强度，无法保证芯片整体的高密封性，同时，该整体过程工艺复杂，处理周期长，且不能保证所有芯片粘接后均具有高性能涂层效果。如果涂层效果差，会影响测序结果，导致测序结果不准确，严重的情况会导致测序数据一点都出不来，即导致测序失败。
技术实现思路
1、有鉴于此，本公开实施例提供了一种用于流动池内表面的涂层处理系统，至少部分的解决现有技术中存在的涂层效果差、影响测序结果的问题。
2、第一方面，本公开实施例提供了一种用于流动池内表面的涂层处理系统，包括：
3、试剂源供应系统，其包括清洗试剂供应组件、涂层处理试剂供应组件和干燥气源供应组件；
4、试剂选择系统，分别与所述清洗试剂供应组件、所述涂层处理试剂供应组件、所述干燥气源供应组件连接；
5、动力系统；
6、废液存储系统，与所述动力系统的出口连接；
7、芯片系统，包括基因测序芯片和支撑装置，所述基因测序芯片竖直装设于所述支撑
8、所述支撑装置包括可旋转支架、进液汇流件和出液汇流件，所述进液汇流件设置于所述基因测序芯片的上侧；所述进液汇流件的入口与所述试剂选择系统的出口连接，所述进液汇流件的出口与所述进液孔连通；所述出液汇流件设置于所述基因测序芯片的下侧；所述出液汇流件的入口与所述出液孔连通，所述出液汇流件的出口与所述动力系统的入口连接。
9、可选的，所述可旋转支架包括承载座、限位架和驱动组件，所述限位架用于固定所述基因测序芯片；
10、所述驱动组件包括电机以及装设于所述电机动力输出端的丝杠，所述电机装设于所述承载座，所述限位架装设于所述丝杠；所述丝杠在所述电机的驱动下旋转，可带动所述限位架旋转至预设位置。
11、可选的，所述限位架上还设置有温控装置，以提供所述基因测序芯片所需的温度环境。
12、可选的，该系统还包括总控中心和计时装置，所述计时装置、所述试剂选择系统、所述动力系统、所述温控装置、所述电机均与所述总控中心信号连接。
13、可选的，所述动力系统包括n个动力控制组件，n个所述动力控制组件分别与n条所述流道匹配设置；
14、所述进液汇流件包括一个进液口和n个分液口，所述进液口与所述试剂选择系统通过进液管路连接，n个所述分液口分别与n条所述流道的入口对应连通；
15、所述出液汇流件包括n个导液口和n个出液口，n个所述导液口分别与n条所述流道的出口对应连通，n个所述出液口分别与n个所述动力控制组件对应连接。
16、可选的，在第一工作状态下，所述试剂选择系统在所述总控中心的控制下与所述涂层处理试剂供应组件连通，在n个所述动力控制组件的驱动下，抽取涂层处理试剂至n条所述流道，静置第一预设时长；
17、在第二工作状态下，在n个所述动力控制组件的驱动下，按照第一预设流速抽取n条所述流道中的涂层处理试剂至所述废液存储系统；
18、在第三工作状态下，所述电机在所述总控中心的控制下驱动所述丝杠旋转，以带动所述基因测序芯片旋转至水平位置；所述温控装置在所述总控中心的控制下提供第一预设温度，所述试剂选择系统在所述总控中心的控制下与所述干燥气源供应组件，在n个所述动力控制组件的驱动下，按照第二预设流速抽取干燥气源至n条所述流道；
19、在第四工作状态下，所述温控装置在所述总控中心的控制下提供第二预设温度，静置温控时长；
20、在第五工作状态下，所述试剂选择系统在所述总控中心的控制下与所述清洗试剂供应组件连通，在n个所述动力控制组件的驱动下，按照第三预设流速抽取清洗试剂至n条所述流道，冲洗第二预设时长。
21、可选的，所述试剂源供应系统还包括芯片保存液供应组件，所述试剂选择系统与所述清洗试剂供应组件、所述涂层处理试剂供应组件、所述干燥气源供应组件、所述芯片保存液供应组件择一连通；
22、在第六工作状态下，所述试剂选择系统在所述总控中心的控制下与所述芯片保存液供应组件连通，在n个所述动力控制组件的驱动下，抽取芯片保存液至n条所述流道，并灌满n条所述流道。
23、可选的，所述第一预设时长为t1，5分钟≤t1≤30分钟；
24、所述第一预设流速为v1，10微升/秒≤v1≤20微升/秒；
25、所述第一预设温度为t1，50℃≤t1≤60℃；
26、所述第二预设流速为v2，50微升/秒≤v2≤100微升/秒；
27、所述第二预设温度为t2，80℃≤t2≤180℃；
28、所述温控时长为30分钟；
29、所述第三预设流速为50微升/秒；
30、所述第二预设时长为1分钟。
31、可选的，所述干燥气源的湿度不大于40％。
32、可选的，n≥2。
33、本申请公开的方案，结合了试剂源供应系统和试剂选择系统，能够快速、准确地供应清洗试剂、涂层处理试剂或干燥气源，在一个系统中满足不同试剂的匹配供应，实现对流动池内表面的高效涂层处理，有效提高涂层处理的效率与涂层质量；系统中的废液存储系统可以方便地收集和储存产生的废液，不会对环境造成污染；芯片系统中的基因测序芯片具有多条流道，能够同时进行多个样品的测序分析；支撑装置的设计使得进液和出液的过程稳定可靠，通过竖直设置的基因测序芯片以及上进下出的输液模式，能够实时控制输入液体的流量，同时减少样品之间的交叉污染，实现较厚的涂层附着，以达到实现流动池内表面高效均匀的涂层处理。
34、本申请公开的方案，通过竖直放置的基因测序芯片，在涂层处理试剂供应组件提供的涂层处理试剂充满基因测序芯片的腔体后，在重力和动力源的负压作用下，界面可以稳定的实现齐平，在动力源的稳定且连续的液体抽取作用下，界面上方的区域会得到稳定厚度的疏水处理液，这些处理液在蒸干后与活化的流动池的内部区域的表面反应，形成稳定的化学键连接，即实现高效均匀的涂层处理。
35、上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能更清楚了解本公开的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为让本公开的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
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1.一种用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，所述可旋转支架包括承载座(135)、限位架(133)和驱动组件，所述限位架(133)用于固定所述基因测序芯片(136)；
3.根据权利要求2所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，所述限位架(133)上还设置有温控装置，以提供所述基因测序芯片(136)所需的温度环境。
4.根据权利要求3所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，该系统还包括总控中心和计时装置，所述计时装置、所述试剂选择系统(12)、所述动力系统(14)、所述温控装置、所述电机均与所述总控中心信号连接。
5.根据权利要求4所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，所述动力系统(14)包括N个动力控制组件，N个所述动力控制组件分别与N条所述流道匹配设置；
6.根据权利要求5所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，所述干燥气源的湿度不大于40％。
7.根据权利要求1所述的用于流动池内表面
...【技术特征摘要】
1.一种用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，所述可旋转支架包括承载座(135)、限位架(133)和驱动组件，所述限位架(133)用于固定所述基因测序芯片(136)；
3.根据权利要求2所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，所述限位架(133)上还设置有温控装置，以提供所述基因测序芯片(136)所需的温度环境。
4.根据权利要求3所述的用于流动池内表面的涂层处理系统，其特征在于，该系...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜灵国，魏斌红，乔朔，
申请(专利权)人：赛纳生物科技广州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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