【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于材料表面强化，涉及一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置及方法。
技术介绍
1、在金属表面镀铬基是一种常见的表面处理技术，通过将铬层镀在金属表面上，可以赋予金属耐腐蚀性、耐磨性、美观性、导电性、导热性、光学特性和硬度。金属镀铬的作用广泛应用于航空航天、汽车、电气设备、冶金、化工、光学仪器等高精端科技领域，为产品提供了卓越的性能和外观。其中，金属镀铬最为突出的特性是能够有效提高金属表面的耐腐蚀性，因为铬层能够有效隔离金属与外部环境的接触，从而降低氧化和腐蚀的风险。
2、目前常见的金属镀铬层的加工技术有电镀法、化学镀法和物理镀法。其中，电镀法是将金属物质通过电解在金属表面形成一层铬层；化学镀法是通过化学反应在金属表面生成一层铬层。这两种方法共同存在需要使用大量的化学药品和电力，造成严重的环境污染的问题。物理镀法是通过物理方法在金属表面沉积一层铬层，该方法需要在高真空环境下进行，在实际应用中有着极大的局限性。而等离子体增强化学气相沉积(pecvd)可以有效地避免以上问题。
3、pecvd技术，是用...
【技术保护点】
1.一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置，其特征在于：由高压气源、气体调节控制系统、等离子体反应系统、供料系统、动力加速系统和气体温度控制系统组成。包括气瓶(1)、供气管路(2)、气压节流阀(3)、流量计(4)、固用流量计(5)、固体加热坩埚(6)、水浴加热锅(7)、集气瓶(8)、液用流量计(9)、前驱体气体(10)、气用流量计(11)、射频电源(12)、管式加热炉(13)、等离子体反应腔体(14)、动力加速器(15)、基底(16)、气体加热器(17)构成；
2.根据权利要求1所述的一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置，其特征在于，所述...
【技术特征摘要】
1.一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置，其特征在于：由高压气源、气体调节控制系统、等离子体反应系统、供料系统、动力加速系统和气体温度控制系统组成。包括气瓶(1)、供气管路(2)、气压节流阀(3)、流量计(4)、固用流量计(5)、固体加热坩埚(6)、水浴加热锅(7)、集气瓶(8)、液用流量计(9)、前驱体气体(10)、气用流量计(11)、射频电源(12)、管式加热炉(13)、等离子体反应腔体(14)、动力加速器(15)、基底(16)、气体加热器(17)构成；
2.根据权利要求1所述的一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置，其特征在于，所述固体加热坩埚(6)对固体前驱体加热温度范围为20℃-1200℃；所述水浴加热锅(7)，对液态前驱体的加热温度范围为20℃-99.9℃；所述集气瓶(8)，为长进短出的结构；所述射频电源(12)为等离子体反应器提供能量，频率为13.65mhz；所述管式加热炉(13)，用于升高温度，促进等离子体和前驱体的反应，加热温度范围为20℃-1200℃；所述等离子体反应腔体(14)，长度为30mm-60mm；所述气体加热器(17)使气体预热更为均匀迅速，为螺旋环绕的结构。
3.根据权利要求1所述的一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置，其特征在于：动力...
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