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本发明公开一种可采用多源前驱体的等离子体铬基涂层制备装置及方法，该装置由气瓶、供气管路、气压节流阀、流量计、固用流量计、固体加热坩埚、水浴加热锅、集气瓶、液用流量计、前驱体气体、气用流量计、射频电源、管式加热炉、等离子体反应腔体、动力加速器...
该专利属于北京化工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京化工大学授权不得商用。

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