【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光伏，尤其涉及一种扩散方法、装置、系统、存储介质和电子设备。
技术介绍
1、当前时期，太阳能电池主要采用氮气等保护气体携带扩散源进入一个提前将待扩散对象装载完成的扩散反应腔室中，通过扩散过程制造pn结。并且，通常采用方阻来表征pn结的性能参数。另外，在制作上述pn结的生产过程中，向扩散反应腔室内通入的扩散源的量是导致方阻波动的第一要因；同时，向扩散反应腔室内通入的扩散源的量容易受到扩散源温度的影响。
2、在上述内容的情况下，目前是通过上一扩散周期得到的实际方阻和目标方阻进行比较，然后结合行业经验对下一周期的工艺参数进行调整来控制方阻稳定性。但是，该工艺参数的调整方式具有滞后性，且主观判断也会带来较大的方阻波动，不利于提升太阳能电池的良率和光电转换效率。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种扩散方法、装置、系统、存储介质和电子设备，用于实时估算当前扩散源温度值对应的当前方阻值，并在基于相互关系确定与当前扩散源温度值对应的补偿后的扩散工艺关联参数值后，及时对扩散工艺关联参数进行调整，提高扩散方阻的稳定性和所制造的太阳能电池的光电转换效率。
2、为了实现上述目的，第一方面，本专利技术提供了一种扩散方法，该扩散方法包括：首先，获取对当前扩散对象进行扩散处理时扩散设备所应用的当前扩散源温度值。接下来，获取同一预设扩散工艺关联参数值下对扩散对象进行扩散处理时扩散设备所应用的扩散源温度数据和方阻数据的对应关系。接下来，基于扩散源温度数据和方阻数据的
3、采用上述技术方案的情况下，在通过扩散设备对当前扩散对象进行扩散处理时，获取该扩散设备所应用的当前扩散源温度值，以便于后续根据当前扩散源温度值对当前扩散对象进行扩散处理时的扩散工艺关联参数值进行相应调整。另外，还获取了同一预设扩散工艺关联参数值下对扩散对象进行扩散处理时扩散设备所应用的扩散源温度数据和方阻数据的对应关系，并可以基于该对应关系实时估算在当前扩散源温度值下，若采用上述预设扩散工艺关联参数值对当前扩散对象进行扩散处理，则经扩散处理后当前扩散对象的方阻大小为当前方阻值。换句话说，本专利技术提供的扩散方法能够在扩散过程中对扩散对象的当前方阻值进行实时估算，无须等到扩散完成后对扩散对象进行直接测量的方式才能获得当前方阻值，便于提前对扩散方阻进行调整。
4、其次，本专利技术提供的扩散方法在当前方阻值与满足工作要求的目标方阻值不匹配时，能够及时基于相互关系确定与当前扩散源温度值对应的补偿后的扩散工艺关联参数值。在此情况下，在实际的应用过程中，在当前扩散源温度值下，并基于上述确定的补偿后的扩散工艺关联参数值对当前扩散对象进行扩散处理，可以使得经扩散处理后当前扩散对象的实际方阻值和目标方阻值匹配，有效改善扩散源温度对当前扩散对象经扩散处理后的方阻影响，同时还可以实现补偿后的扩散工艺关联参数值的实时且自动化确定。而在现有技术中，仅可以在扩散完成后通过实际测量方式获得实际方阻值，使得现有扩散方法仅能够根据上一周期采用的扩散源温度值和扩散后测量获得的实际方阻值对下一周期的扩散工艺关联参数进行调整，而导致下一周期的扩散对象因调整不及时造成批量不良品。基于此，与现有扩散方法相比，本专利技术提供的扩散方法利于提高扩散处理后当前扩散对象实际方阻值的稳定性，进而利于提高扩散良品的产能、且提高所制造的太阳能电池的良率和光电转换效率。
5、作为一种可能的实现方案，在扩散源为磷源的情况下，当扩散源温度值大于等于18.5℃、且小于等于19.5℃时，扩散源温度数据和方阻数据的对应关系为：f＝(t01-t1)3+d+f0；当扩散源温度值大于19.5℃、且小于等于20.5℃时，扩散源温度数据和方阻数据的对应关系为：f＝f0；当扩散源温度值大于等于20.6℃、且小于等于21.5℃时，扩散源温度数据和方阻数据的对应关系为：f＝f0-(t1-t01)3-d；其中，f为当前方阻值，f0为目标方阻值，t1为当前扩散源温度值，t01为目标扩散源温度值，d为修正参数。
6、采用上述技术方案的情况下，当扩散源为磷源时，根据扩散源温度值的不同对扩散源温度数据和方阻数据的对应关系分情况限定，以准确表征在相应预设扩散工艺参数值下扩散源温度数据与方阻数据之间的关系，利于提高后续基于该扩散源温度数据和方阻数据的对应关系，实时估算得到的当前扩散源温度值对应的当前方阻值的准确性，进而利于后续根据准确的当前方阻值与目标方阻值的匹配关系，对扩散工艺关联参数值进行高精度的补偿，进一步提高扩散处理后当前扩散对象的实际方阻值的稳定性。
7、作为一种可能的实现方案，上述预设扩散工艺关联参数值包括：预设扩散环境温度值、预设扩散环境湿度值、预设扩散源压力值、预设载气气体流量值、预设反应腔室温度值和预设反应腔室压力值。其中，预设扩散环境温度值大于等于23℃、且小于等于25℃；和/或，预设扩散环境湿度值大于等于45％、且小于等于55％；和/或，预设扩散源压力值大于等于650mpa、且小于等于700mpa；和/或，预设载气气体流量值大于等于750sccm、且小于等于1000sccm；和/或，预设反应腔室温度值大于等于770℃、且小于等于860℃；和/或，预设反应腔室压力值大于等于50mbar、且小于等于200mbar。
8、采用上述技术方案的情况下，上述预设扩散环境温度值、预设扩散环境湿度值、预设扩散源压力值、预设载气气体流量值、预设反应腔室温度值和预设反应腔室压力值均是与扩散工艺相关联、且在扩散处理过程中对方阻有影响的工艺参数值，因此当上述预设扩散工艺关联参数值包括上述数值时，利于通过控制单一变量的方式，获取准确的扩散源温度数据与方阻数据的对应关系，确保该对应关系中方阻值的变化仅是因扩散源温度值发生改变所导致，进而能够提高后续基于扩散源温度数据与方阻数据的对应关系所确定的当前方阻值的准确性。另外，23℃至25℃是标准扩散环境温度值，因此当预设扩散工艺关联参数值中的预设扩散环境温度值大于等于23℃、且小于等于25℃时，可以使得本专利技术提供的扩散方法具有较高的实用性。其次，预设扩散环境湿度值、预设扩散源压力值、预设载气气体流量值、预设反应腔室温度值和预设反应腔室压力值分别在相应范围内的有益效果可以参考前文所述的预设扩散环境温度值大于等于23℃、且小于等于25℃时的有益效果分析，此处不再赘述。
9、作为一种可能的实现方案，上述扩散工艺关联参数值包括：反应腔室温度值、载气气体流量值和反应腔室压力值中的至少一个。在此情况下，扩散工艺关联参数值的种类具有多种可选的方案，可以根据实际应用场景的要求选择合适的扩散工艺关联参数值的种类，可以提高本专利技术提供的扩本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种扩散方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，在扩散源为磷源的情况下，
3.根据权利要求1或2所述的扩散方法，其特征在于，所述预设扩散工艺关联参数值包括：预设扩散环境温度值、预设扩散环境湿度值、预设扩散源压力值、预设载气气体流量值、预设反应腔室温度值和预设反应腔室压力值；其中，
4.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，所述扩散工艺关联参数值包括：反应腔室温度值、载气气体流量值和反应腔室压力值中的至少一个。
5.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，在所述扩散工艺关联参数值为反应腔室温度值的情况下，所述相互关系为所述当前方阻值、所述目标方阻值、补偿后的扩散工艺关联参数值和目标反应腔室温度值之间的预设关系式；
6.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，在所述扩散工艺关联参数为载气气体流量或反应腔室压力的情况下，所述获取对当前扩散对象进行扩散处理时扩散设备所应用的当前扩散源温度值后，所述在所述当前方阻值和目标方阻值不匹配时，基于所述当前方阻值和所述目标方阻值从相互关系中确定与
7.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，所述扩散方法还包括：
8.一种扩散装置，其特征在于，包括：
9.根据权利要求8所述的扩散装置，其特征在于，所述扩散装置还包括：
10.根据权利要求8所述的扩散装置，其特征在于，所述扩散装置还包括：
11.一种计算机存储介质，其特征在于，所述计算机存储介质中存储有指令，当所述指令被运行时，使得权利要求1～7任一项所述的扩散方法被执行。
12.一种电子设备，其特征在于，包括：
13.一种扩散系统，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种扩散方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，在扩散源为磷源的情况下，
3.根据权利要求1或2所述的扩散方法，其特征在于，所述预设扩散工艺关联参数值包括：预设扩散环境温度值、预设扩散环境湿度值、预设扩散源压力值、预设载气气体流量值、预设反应腔室温度值和预设反应腔室压力值；其中，
4.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，所述扩散工艺关联参数值包括：反应腔室温度值、载气气体流量值和反应腔室压力值中的至少一个。
5.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，在所述扩散工艺关联参数值为反应腔室温度值的情况下，所述相互关系为所述当前方阻值、所述目标方阻值、补偿后的扩散工艺关联参数值和目标反应腔室温度值之间的预设关系式；
6.根据权利要求1所述的扩散方法，其特征在于，在所述扩散工艺关联参数为载气气体流量或反...
【专利技术属性】
技术研发人员：贺凤龙，赵赞良，王武林，高华，王安红，
申请(专利权)人：宁夏隆基乐叶科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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