【技术实现步骤摘要】
本技术涉及加热设备，尤其涉及到一种cvd真空镀膜加热板。
技术介绍
1、cvd镀膜，其特点是在真空条件下，材料在高温加热器的作用下发生化学反应并在基片表面上结合成膜，再经高温热处理后，在基片表面形成附着力很强的膜层，真空镀膜中应用最广泛加热器的就是高温铝基板加热器。现有技术中，高温铝基板加热器由于功率不够高，导致在加热过程中由于温度补偿能力有限，在有限的时间里面温度补偿不足，影响镀膜的质量。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种cvd真空镀膜加热板，从而解决上述技术缺陷。
2、本技术为解决其技术问题所采用的技术方案是：
3、一种cvd真空镀膜加热板，包括本体；
4、所述本体上的一侧开设有第一加热槽、第二加热槽、第三加热槽和第四加热槽，所述本体的区域内还设置有用于固定加热器法兰的安装区，所述第一加热槽、第二加热槽、第三加热槽和第四加热槽的首尾段均位于安装区内。
5、在技术一或多个实施方式中，所述第一加热槽、第二加热槽、第三加热槽和第四加热槽的形状为各不相同的弯曲状结构。
6、在技术一或多个实施方式中，所述第一加热槽、第二加热槽、第三加热槽和第四加热槽各自的内部分别形成第一内加热区、第二内加热区、第一外加热区和第二外加热区。
7、在技术一或多个实施方式中，所述本体上还设置有第一热电偶槽、第二热电偶槽、第三热电偶槽和第四热电偶槽，所述第一热电偶槽、第二热电偶槽、第三热电偶槽和第四热电偶槽的内侧端位于第二内加热区内
8、在技术一或多个实施方式中，所述第一加热槽、第二加热槽、第三加热槽和第四加热槽沿周长方向的两侧开设有若干呈均匀间隔设置有点孔，所述点孔深度为1mm。
9、在技术一或多个实施方式中，所述本体上开设有呈回形阵列设置的螺孔，其位于最外侧的螺孔分布于第四加热槽的内外侧。
10、在技术一或多个实施方式中，所述本体上开设有四个呈矩形阵列设置的吊装孔，所述吊装孔位于第一内加热区内。
11、在技术一或多个实施方式中，所述本体的两个相对外侧端开设有若干矩型通槽。
12、在技术一或多个实施方式中，所述本体的四角为圆角；所述本体的一侧还设置有刻字区，所述刻字区位于第二外加热区内。
13、在技术一或多个实施方式中，所述本体的另一侧开设有若干防应力槽。
14、本技术的优点在于：
15、本技术通过改进加热器分区及排布结构，使得组装后的加热器能提高功率，从而达到加热速度快、温度补偿能力足且温度均匀的目的。
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1.一种CVD真空镀膜加热板，包括本体(1)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
7.根据权利要求3所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
8.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
9.根据权利要求3所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
10.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜加热板，其特征在于：
【技术特征摘要】
1.一种cvd真空镀膜加热板，包括本体(1)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种cvd真空镀膜加热板，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的一种cvd真空镀膜加热板，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的一种cvd真空镀膜加热板，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的一种cvd真空镀膜加热板，其特征在于：
<...【专利技术属性】
技术研发人员：徐宏林，
申请(专利权)人：上海宏端精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：
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