一种气阀表面的氮化处理装置制造方法及图纸

技术编号:41107666 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-25 14:01
本技术涉及氮化处理技术领域,且公开了一种气阀表面的氮化处理装置,包括底座与密封罐,所述底座的上侧连接有第一放置件,所述第一放置件的上侧连接有多组第二放置件,所述密封罐的上侧设置有第二氮化处理器件组,所述底座的上侧连接有回形环,所述回形环的上侧开设有与密封罐相匹配的插孔,所述底座的上侧连接有第一氮化处理器件组,所述第一氮化处理器件组与第二氮化处理器件组相匹配,本新型方案通过设置第一放置件便于第二放置件与底座进行连接,通过设置多组第二放置件使工作人员可以根据需要对第二放置件进行组装,同时在不需要时进行拆卸,另外加工完毕后的气阀通过吊装第二放置件可以快速脱离本装置。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于氮化处理,具体为一种气阀表面的氮化处理装置


技术介绍

1、气阀是压缩机中用来控制气体进出气缸的部件。主要由阀座、阀片、弹簧与升程限制器组成,阀片与阀座之间的升启高度或闭合决定了气体通道的大小和密闭,弹簧主要用以推动阀片关闭,也可减轻阀片开启时与升程限制器的撞击,升程限制器可限制阀片的升程并可承座弹簧,气阀阀片的启闭由气缸内、外气体压差与弹簧力控制,无需其他驱动机构。

2、现有气阀生产时需要对其表面进行氮化处理,现有氮化装置大批量对气阀进行氮化加工时,上下料较不方便,特别是加工后,温度较高,为此,我们提出一种气阀表面的氮化处理装置。


技术实现思路

1、针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本技术提供一种气阀表面的氮化处理装置,有效的解决了上述问题。

2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种气阀表面的氮化处理装置,包括底座与密封罐,所述底座的上侧连接有第一放置件,所述第一放置件的上侧连接有多组第二放置件,所述密封罐的上侧设置有第二氮化处理器件组,所述底座的上侧连接有回形环,所述回形环的上侧开设有与密封罐相匹配的插孔,所述底座的上侧连接有第一氮化处理器件组,所述第一氮化处理器件组与第二氮化处理器件组相匹配。

3、优选的,所述第一放置件包括四组第一插管,四组所述第一插管的外侧连接有第一放置网板,所述第二放置件包括第二放置网板,所述第二放置网板的下侧连接有四组与第一插管相匹配的插杆,所述第二放置网板的上侧连接有四组与插杆相匹配的第二插管。

4、优选的,所述底座的下侧连接有三组脚座,所述脚座的下侧连接有放置板。

5、优选的,所述底座的上侧连接有两组导杆,所述密封罐的外侧连接有两组导块,所述导块的本体开设有与导杆相匹配的插孔。

6、优选的,所述回形环的内壁连接有密封垫,所述密封垫位于密封罐的外侧。

7、优选的,所述密封罐的下侧连接有四组稳定块,所述底座的上侧开设有与稳定块相匹配的放置槽。

8、与现有技术相比,本技术的有益效果是:

9、1、通过设置第一放置件便于第二放置件与底座进行连接,通过设置多组第二放置件使工作人员可以根据需要对第二放置件进行组装,同时在不需要时进行拆卸,另外加工完毕后的气阀通过吊装第二放置件可以快速脱离本装置;

10、2、通过设置导块与导杆相配合,对密封罐进行限位,使密封罐放置时比较稳定,避免其放置过程中出现晃动导致碰撞第一放置件与第二放置件的风险,提高本装置使用的安全性;

11、3、通过设置密封垫填充密封罐与回形环之间的缝隙进而使底座与密封罐之间保持真空。

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【技术保护点】

1.一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:包括底座(100)与密封罐(200),所述底座(100)的上侧连接有第一放置件(110),所述第一放置件(110)的上侧连接有多组第二放置件(120),所述密封罐(200)的上侧设置有第二氮化处理器件组(210),所述底座(100)的上侧连接有回形环(130),所述回形环(130)的上侧开设有与密封罐(200)相匹配的插孔,所述底座(100)的上侧连接有第一氮化处理器件组(140),所述第一氮化处理器件组(140)与第二氮化处理器件组(210)相匹配。

2.根据权利要求1所述的一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:所述第一放置件(110)包括四组第一插管(111),四组所述第一插管(111)的外侧连接有第一放置网板(112),所述第二放置件(120)包括第二放置网板(121),所述第二放置网板(121)的下侧连接有四组与第一插管(111)相匹配的插杆(122),所述第二放置网板(121)的上侧连接有四组与插杆(122)相匹配的第二插管(123)。

3.根据权利要求1所述的一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:所述底座(100)的下侧连接有三组脚座(101),所述脚座(101)的下侧连接有放置板(102)。

4.根据权利要求1所述的一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:所述底座(100)的上侧连接有两组导杆(150),所述密封罐(200)的外侧连接有两组导块(220),所述导块(220)的本体开设有与导杆(150)相匹配的插孔。

5.根据权利要求1所述的一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:所述回形环(130)的内壁连接有密封垫(131),所述密封垫(131)位于密封罐(200)的外侧。

6.根据权利要求1所述的一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:所述密封罐(200)的下侧连接有四组稳定块(230),所述底座(100)的上侧开设有与稳定块(230)相匹配的放置槽。

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【技术特征摘要】

1.一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:包括底座(100)与密封罐(200),所述底座(100)的上侧连接有第一放置件(110),所述第一放置件(110)的上侧连接有多组第二放置件(120),所述密封罐(200)的上侧设置有第二氮化处理器件组(210),所述底座(100)的上侧连接有回形环(130),所述回形环(130)的上侧开设有与密封罐(200)相匹配的插孔,所述底座(100)的上侧连接有第一氮化处理器件组(140),所述第一氮化处理器件组(140)与第二氮化处理器件组(210)相匹配。

2.根据权利要求1所述的一种气阀表面的氮化处理装置,其特征在于:所述第一放置件(110)包括四组第一插管(111),四组所述第一插管(111)的外侧连接有第一放置网板(112),所述第二放置件(120)包括第二放置网板(121),所述第二放置网板(121)的下侧连接有四组与第一插管(111)相匹配的插杆(122),所述第二放置网板(12...

【专利技术属性】
技术研发人员:汪宝训王玉英张俊生
申请(专利权)人:淄博联昌工贸有限公司
类型:新型
国别省市:

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