【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、高性能等离子体辅助沉积和蚀刻处理对于许多半导体处理工作流程的成功是重要的。然而，监测、控制和/或优化等离子体处理可能是困难且耗时的，通常涉及工艺工程师费力地测试处理参数以凭经验确定产生目标结果的设置。此外，许多用于原位监测等离子体处理的技术仅提供有限的信息，例如vi传感器的位置处的信息。
2、这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。当前指定的专利技术人的工作在其在此
技术介绍
部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。
技术实现思路
1、本公开的各方面涉及可包括以下元件的系统：(a)半导体处理室，其包括室壁、等离子体源和至少两个站，其中每个站包括晶片支撑件；(b)第一相机传感器，其光学耦合到处理室的第一站的第一光学访问端口；(c)第二相机传感器，其光学耦合到处理室的第一光学访问端口或处理室的第二光学访问端口；(d)逻辑，其被配置为处理来自第一相机传感器和第二相机传感器的信号，以表征处理室的至少第一站中的等离子体的一种或多种属性。
2、每个站可以还包括一个或多个其他部件，例如加热器和/或处理气体输送部件(例如，喷头)。在某些实施方案中，处理室是等离子体沉积室和/或等离子体蚀刻室。在某些实施方案中，处理室包括四个或更多个站。
3、在某些实施方案中，所述系统还包括将第一相机传感器光学耦合到第一光学访问端口的光纤和/或光管。在另外的实施方案中，该系统还包括将第
4、在某些实施方案中，所述逻辑还被配置为考虑处理室的至少第二站的特征。在一些情况下，所述逻辑被配置为在多线程处理中处理来自第一相机传感器和来自第二相机传感器的信号。在一些实现方案中，所述系统还包括用于处理室的边缘计算机，其中所述逻辑包括用于在边缘计算机上执行的指令。
5、在某些实施方案中，所述等离子体的一种或多种属性包括等离子体在室内和/或在至少第一站内的位置。所述位置可以包括第一站内的等离子体的边缘或边界。所述位置可以包括等离子体在室内和/或第一站内的质心。所述位置可以包括等离子体的具有限定光谱特性的点或边界。所述位置可以包括第一相机传感器的视场内的有界的感兴趣区域上的积分或求和光强度。
6、在某些实施方案中，所述等离子体的一种或多种属性包括等离子体的脉冲特性。在某些实施方案中，所述逻辑还被配置为确定处理室中是否出现电弧或寄生等离子体。
7、在某些实施方案中，所述等离子体的一种或多种属性包括寄生等离子体的识别。
8、在某些实施方案中，所述等离子体的一种或多种属性包括空心阴极放电(hcd)的识别。
9、在某些实施方案中，所述逻辑被配置为表征处理室的第一站中的等离子体的一种或多种属性。在这样的实施方案中，所述逻辑可以被配置为考虑位于处理室的第二站中的结构特征。在某些实现方案中，所述第二站与处理室中的第一站相邻。在一些实现方案中，位于处理室的第二站中的结构特征位于来自第一站的光学访问端口的视线上，所述视线穿过第一站和第二站。
10、在某些实施方案中，所述系统包括非相机传感器，并且其中所述逻辑被配置为采用来自非相机传感器的信号以表征处理室中的等离子体的一种或多种属性。
11、在一些实现方案中，相机传感器包括至少两个相机传感器，其定位和/或定向为从处理室内的至少两个位置或两个角度捕获图像。例如，第一相机传感器可以被定位和/或定向为从处理室内的第一位置或第一角度捕获第一图像，并且第二相机传感器可以被定位和/或定向为捕获来自处理室内的第二位置或第二角度的第二图像。在某些实施方案中，所述逻辑还被配置成处理至少第一图像和第二图像以产生等离子体的空间表示。
12、在某些实施方案中，所述逻辑被配置为将等离子体的一种或多种属性表征为时间的函数。在某些实施方案中，所述逻辑被配置为表征等离子体的脉冲。
13、在一些情况下，所述系统还包括光源，所述光源被配置为在一个或多个相机传感器获取处理室的图像时在处理室中提供照明。在一些情况下，所述系统还包括使光源和一个或多个相机传感器同步的逻辑，使得所述一个或多个相机传感器在光源照射处理室的内部区域时获取处理室的图像。
14、在某些实施方案中，所述第一相机传感器被配置为从处理室内捕获间接光学信息。
15、在某些实施方案中，所述逻辑还被配置为根据由第一相机传感器提供的一个或多个图像来定位处理室部件的边缘和/或等离子体的边缘。
16、在某些实施方案中，所述逻辑还被配置为使用等离子体的一种或多种属性来诊断处理室的部件的实际或潜在障碍或故障。
17、在某些实施方案中，所述逻辑还被配置为使用等离子体的一种或多种属性来表征处理室内的处理状况。
18、在某些实施方案中，所述逻辑还被配置为基于处理室内的处理状况来修改处理室内的操作。
19、在一些示例中，所述处理状况是处理气体成分、处理气体流量特性、处理室内的压强、处理室的一个或多个部件的温度、等离子体功率、等离子体频率、处理室的一个或多个部件中的任何一个的几何特性、或其任意组合。
20、本公开的各方面涉及包括以下操作的方法：(a)从第一相机传感器获得第一图像，其中第一图像是处理室的第一站的至少一部分，其中所述处理室包括室壁、等离子体源和至少两个站，每个站包括晶片支撑件；(b)从第二相机传感器获得第二图像，其中所述第二图像是处理室的第二区域；以及(c)表征处理室的至少第一站中的等离子体的一种或多种属性，其中所述表征是基于第一图像和第二图像。在一些实现方案中，所述处理室包括至少四个站。
21、在某些实施方案中，表征至少第一站中的等离子体的一种或多种属性说明了处理室的至少第二站的特征。在一些实施方案中，表征至少第一站中的等离子体的一种或多种属性包括在多线程处理中处理第一图像和第二图像。在一些实施方案中，表征至少第一站中的等离子体的一种或多种属性包括在处理室的边缘计算机中处理第一图像和第二图像。
22、在某些实施方案中，表征至少第一站中的等离子体的一种或多种属性包括识别第一图像和/或第二图像中与第一站相关的元件的一个或多个轮廓。在一些示例中，所述一个或多个元件包括：第一站中的喷头、第一站中的基座、第一站的室壁或其任意组合。在一些示例中，识别一个或多个轮廓包括对第一图像和/或第二图像执行边缘检测。在一些示例中，所述一种或多种属性包括空心阴极放电(hcd)出现的识别，并且其中所述方法还包括将第一图像和/或第二图像的像素聚类成多个类别，所述多个类别中的至少一个类别对应于hcd出现。
23、在某些实施方案中，表征等离子体的一种或多种属性包括将第一图像和/或第二图像提供给经训练的机器学习模型本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑还被配置为考虑所述处理室的至少所述第二站的特征。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述处理室包括四个站。
4.根据权利要求1所述的系统，其还包括将所述第一相机传感器光学耦合到所述第一光学访问端口的光纤和/或光管。
5.根据权利要求4所述的系统，其还包括将所述第一相机传感器光学耦合到所述第二光学访问端口的第二光纤和/或第二光管。
6.根据权利要求4所述的系统，其中所述第一光学访问端口是光学透镜。
7.根据权利要求4所述的系统，其中所述第一光学访问端口包括具有最多约5mm的最大横截面尺寸的窗。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑被配置为在多线程处理中处理来自所述第一相机传感器和来自所述第二相机传感器的信号。
9.根据权利要求1所述的系统，其还包括用于所述处理室的边缘计算机，其中所述逻辑包括用于在所述边缘计算机上执行的指令。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括所述等离
11.根据权利要求10所述的系统，其中所述位置包括所述等离子体在室内和/或所述第一站内的质心。
12.根据权利要求10所述的系统，其中所述位置包括所述等离子体的具有限定光谱特性的点或边界。
13.根据权利要求10所述的系统，其中所述位置包括所述第一相机传感器的视场内的有界的感兴趣区域上的积分或求和光强度。
14.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括所述等离子体的脉冲特性。
15.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括寄生等离子体的识别。
16.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括空心阴极放电(HCD)的识别。
17.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑被配置为表征所述处理室的所述第一站中的所述等离子体的一种或多种属性，并且其中所述逻辑被配置为考虑位于所述处理室的所述第二站中的结构特征。
18.根据权利要求17所述的系统，其中位于所述处理室的所述第二站中的所述结构特征位于来自所述第一站的所述光学访问端口的视线上，所述视线穿过所述第一站的至少一部分和所述第二站的至少一部分。
19.根据权利要求1所述的系统，其还包括非相机传感器，并且其中所述逻辑被配置为采用来自所述非相机传感器的信号以表征所述处理室中的等离子体的所述一种或多种属性。
20.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一相机传感器被定位和/或定向为从所述处理室内的第一位置或第一角度捕获第一图像，并且其中所述第二相机传感器被定位和/或定向为捕获来自所述处理室内的第二位置或第二角度的第二图像。
21.根据权利要求20所述的系统，其中所述逻辑还被配置为至少处理所述第一图像和所述第二图像以产生所述等离子体的空间表示。
22.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑被配置为表征所述等离子体的脉冲。
23.根据权利要求1所述的系统，其还包括光源，所述光源被配置为在所述一个或多个相机传感器获取所述处理室的图像时在所述处理室中提供照明。
24.根据权利要求23所述的系统，其还包括使所述光源和所述一个或多个相机传感器同步的逻辑，使得所述一个或多个相机传感器在所述光源照射所述处理室的内部区域时获取所述处理室的图像。
25.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一相机传感器被配置为从所述处理室内捕获间接光学信息。
26.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑还被配置为根据由所述第一相机传感器提供的一个或多个图像来定位处理室部件的边缘和/或所述等离子体的边缘。
27.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑还被配置为使用所述等离子体的所述一种或多种属性来诊断所述处理室的部件的实际或潜在障碍或故障。
28.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑还被配置为使用所述等离子体的所述一种或多种属性来表征所述处理室内的处理状况。
29.根据权利要求28所述的系统，其中所述逻辑还被配置为基于所述处理室内的处理状况来修改所述处理室内的操作。
30.根据权利要求28所述的系统，其中所述处理状况是处理气体成分、处理气体流量特性、所述处理室内的压强、所述处理室的一个或多个部件的温度、等离子体功率、等离子体频率、所述处理室的一个或多个部件中的任何一个的几何特性、或其任意组合。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑还被配置为考虑所述处理室的至少所述第二站的特征。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述处理室包括四个站。
4.根据权利要求1所述的系统，其还包括将所述第一相机传感器光学耦合到所述第一光学访问端口的光纤和/或光管。
5.根据权利要求4所述的系统，其还包括将所述第一相机传感器光学耦合到所述第二光学访问端口的第二光纤和/或第二光管。
6.根据权利要求4所述的系统，其中所述第一光学访问端口是光学透镜。
7.根据权利要求4所述的系统，其中所述第一光学访问端口包括具有最多约5mm的最大横截面尺寸的窗。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑被配置为在多线程处理中处理来自所述第一相机传感器和来自所述第二相机传感器的信号。
9.根据权利要求1所述的系统，其还包括用于所述处理室的边缘计算机，其中所述逻辑包括用于在所述边缘计算机上执行的指令。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括所述等离子体在室内和/或在至少所述第一站内的位置。
11.根据权利要求10所述的系统，其中所述位置包括所述等离子体在室内和/或所述第一站内的质心。
12.根据权利要求10所述的系统，其中所述位置包括所述等离子体的具有限定光谱特性的点或边界。
13.根据权利要求10所述的系统，其中所述位置包括所述第一相机传感器的视场内的有界的感兴趣区域上的积分或求和光强度。
14.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括所述等离子体的脉冲特性。
15.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括寄生等离子体的识别。
16.根据权利要求1所述的系统，其中所述等离子体的所述一种或多种属性包括空心阴极放电(hcd)的识别。
17.根据权利要求1所述的系统，其中所述逻辑被配置为表征所述处理室的所述第一站中的所述等离子体的一种或多种属性，并且其中所述逻辑被配置为考虑位于所述处理室的所述第二站中的结构特征。
18.根据权利要求17所述的系统，其中位于所述处理室的所述第二站中的所述结构特征位于来自所述第一站的所述光学访问端口的视线上，所述视线穿过所述第一站的至少一部分和所述第二站的至少一部分。
19.根据权利要求1所述的系统，其还包括非相机传感器，并且其中所述逻辑被配置为采用来自所述非相机传感器的信号以表征所述处理室中的等离子体的所述一种或多种属性。
20.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一相机传感器被定位和/或定向为从所述处理室内的第一位置或第一角度捕获第一图像，并且其中所述第二相机传感器被定位和/或定向为捕获来自所述处理室内的第二位置或第二角度的第二图像。
21.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·达内克，本杰明·艾伦·哈斯凯尔，卡普·瑟里什·雷迪，大卫·巴特，布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯，保罗·弗兰岑，卡尔·弗雷德里克·利瑟，詹尼弗·利·佩特拉利亚，崎山行则，卡皮尔·索拉尼，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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