【技术实现步骤摘要】
本申请涉及烹饪器具，特别涉及一种物理不粘结构及烹饪器具。
技术介绍
1、现有烹饪器具实现不粘性能都是在烹饪器具表面涂一层化学涂层，一般为聚四氟乙烯。聚四氟乙烯涂层在常态下是无毒的,但当涂层的受热温度达到260℃之后就会开始挥发,在温度达到350℃时,聚四氟乙烯涂层将开始分解。所以带有聚四氟乙烯涂层的不粘锅的使用温度一般不能超过250℃。但是一般烹饪器具如炒锅，加热温度经常会超过260℃，因此存在安全隐患。另外涂层不耐磨，存在脱落的风险，容易跟随食物被误食，影响身体健康。
2、目前有一种蜂窝结构的炒锅，采用不锈钢作为基材，在基材表面加工出均布的凹槽，再在整个基材表面喷一层聚四氟乙烯，最后采用抛光的方式将凹槽之间的基材表面的聚四氟乙烯抛光去除，只保留凹槽内的聚四氟乙烯以实现锅具表面的不粘性能。这种技术的优点是不锈钢材料强度好耐锅铲刮擦还可以实现一定的不粘性，缺点是没有聚四氟乙烯覆盖的不锈钢不具有不粘性，另外聚四氟乙烯存在分解和脱落风险，存在安全隐患。
技术实现思路
1、为了解决以上技术问题，本申请提供了一种物理不粘结构及烹饪器具，既可以提升金属材料表面的不粘性能，还具有耐磨不易脱落的优点。
2、第一方面，本申请提供了一种物理不粘结构，应用于金属基材表面，所述金属基材表面设有含多个凹部和凸部的凹凸结构，所述凸部为环绕于所述凹部周围的丘陵状形貌，所述凹部表面粗糙度小于所述凸部表面的粗糙度，至少部分所述凹部和/或部分所述凸部表面设置有物理气相沉积层。
3、
4、传统的不粘结构是通过化学蚀刻方法在金属表面加工出凹槽再经过喷化学涂层以实现锁油、不粘性能。但是化学涂层不耐磨，经过锅铲等餐具刮擦后化学涂层容易脱落影响安全性，所以在喷化学涂层后会进行抛光，将凹槽周围的凸起上的涂层打磨掉漏出金属基材。因为打磨掉化学涂层的凸起漏出了金属基材，所以这部分凸起没有不粘性。而且化学蚀刻方法加工出来的凹槽粗糙度高于凹槽周围凸起的粗糙度，这种结构表面强度较低、与物理气相沉积层(pvd)结合性较差，需要通过在化学涂层和沉积层之间增加过渡层来提升结合性能。
5、本技术方案可以通过喷丸或辊压等加工工艺加工出凹部和凸部可以实现金属基材表面硬化，且凹部表面粗糙度小于凸部表面的粗糙度，凸部为环绕于凹部周围的丘陵状形貌，提升与物理气相沉积层的结合性能，且具有良好的表面强度。因此，在金属基材表面加工的物理不粘结构使金属整个表面都具有既耐磨又不粘的特性。
6、结合第一方面，在进一步的方案中，所述凹部和所述凸部与所述金属基材为一体结构，所述物理气相沉积层与至少部分凹部和/或部分凸部表面直接接触。
7、通过采用上述技术方案，在金属基材表面直接通过喷丸或辊压等方式加工出具有多个凹部和凸部的凹凸结构，一体结构强度更高，可以降低两体结构带来的脱落风险。物理气相沉积层直接与凹凸结构接触，中间没有过渡层，可以减少加工工序、降低加工成本且具有良好的结合性能并同样能达到耐磨不粘性能。
8、结合第一方面，在进一步的方案中，至少部分所述凹部和/或至少部分所述凸部表面设有电解层，所述电解层和所述物理气相沉积层直接接触。
9、通过采用上述技术方案，在电解的作用下使得锅具内表面构造微米、纳米级的v型、c型、u型或随机大小的凹状体，可以进一步减少食材与锅体的接触面积，加上凹状体中空气受热膨胀产生流动形成的斥力双重作用，能很好地实现不粘效果。另外，电解还能在喷丸层表面形成氧化膜从而改变其颜色和提高其性能，提升产品的性能和产品的档次。
10、结合第一方面，在进一步的方案中，至少部分所述凹部和/或部分所述凸部表面设有等离子抛光层，所述等离子抛光层和所述物理气相沉积层直接接触。
11、通过采用上述技术方案，等离子抛光可以在喷丸层表面进一步加工出微米或纳米级的凹凸结构，进一步提升疏水性能，提升产品表面的不粘性能。等离子抛光还可以提高产品表面的光亮度，提升产品的品质。
12、结合第一方面，在进一步的方案中，所述金属基材的维氏硬度大于等于100，所述凹部不规则分布于所述金属基材表面。
13、通过实验测试发现，喷丸加物理气相沉积(pvd)的加工工艺应用在维氏硬度大于100的金属基材表面具有更优的不粘性能和耐磨性能。凹部不规则分布于金属基材表面以形成不规则的凹部和不规则的丘陵状凸部，金属基材表面可以更方便加工出各向异性更致密的凹凸结构，疏水性和与pvd的结合性更好。
14、结合第一方面，在进一步的方案中，所述凹部为球面凹坑，所述凹坑的球面直径为0.3-0.95毫米；所述凹坑的孔心距范围为0.3-0.8毫米。
15、通过采用上述技术方案，凹部为球面凹坑、凹坑之间设有丘陵状凸起可以在金属表面形成多级凹凸结构，可以形成更好的不粘性能。物理气相沉积(pvd)的加工工艺应用在凹坑球面直径为0.3-0.95毫米，优选为0.4-0.65毫米，凹坑的孔心距范围为0.3-0.8毫米，优选为0.6毫米的凹坑的凹凸结构上，具有更优的不粘性能和耐磨性能。
16、结合第一方面，在进一步的方案中，至少部分所述凹部和/或至少部分所述凸部表面具有多个球面凹坑，所述凹坑之间设有丘陵状凸起，所述凹坑的球面直径为0.3-0.95毫米；所述凹坑的孔心距范围为0.3-0.8毫米。
17、通过采用上述技术方案，凹部内设有多个球面凹坑、凹坑之间设有丘陵状凸起可以在金属表面形成多级凹凸结构，可以形成更好的不粘性能。物理气相沉积(pvd)的加工工艺应用在凹坑球面直径为0.3-0.95毫米，优选为0.4-0.65毫米，凹坑的孔心距范围为0.3-0.8毫米，优选为0.6毫米的凹坑的凹凸结构上具有更优的不粘性能和耐磨性能。
18、结合第一方面，在进一步的方案中，所述凹坑的球面直径为0.4-0.65毫米；所述凹坑的孔心距为0.6毫米。
19、通过采用上述技术方案，物理不粘结构具有更优的结合性能和不粘性能。
20、第二方面，本申请提供了一种烹饪器具，包括由金属基材成型的本体，所述本体内表面设有第一方面所述的物理不粘结构。
21、通过采用上述技术方案，具有物理不粘结构的烹饪器具，在烹饪食物时可以提高不粘性能，降低食物粘连在本体表面几率，更便于对烹饪器具进行清洗，提升了烹饪乐趣。
22、结合第二方面，在进一步的方案中，所述凹部和所述凸部为所述本体成型后对所述本体内表面加工处理制成的高度差为45-85微米的凹凸结构。
23、通过采用上述技术方案，物理气相沉积层具有耐磨的特性，物理气相沉积层具有与凹凸结构相似的形貌，在物理气相沉积层表面具有与凹凸结构相似的疏水性。因此，在本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种物理不粘结构(200)，应用于金属基材(100)表面，其特征在于，所述金属基材(100)表面设有含多个凹部(21)和凸部(22)的凹凸结构(2)，所述凸部(22)为环绕于所述凹部(21)周围的丘陵状形貌，所述凹部(21)表面粗糙度小于所述凸部(22)表面的粗糙度，至少部分所述凹部(21)和/或部分所述凸部(22)表面设置有物理气相沉积层(3)。
2.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，所述凹部(21)和所述凸部(22)与所述金属基材(100)为一体结构，所述物理气相沉积层(3)与至少部分所述凹部(21)和/或部分所述凸部(22)表面直接接触。
3.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，至少部分所述凹部(21)和/或至少部分所述凸部(22)表面设有电解层，所述电解层和所述物理气相沉积层(3)直接接触。
4.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，至少部分所述凹部(21)和/或部分所述凸部(22)表面设有等离子抛光层，所述等离子抛光层和所述物理气相沉积层(3)直接接触。
5.
6.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，所述凹部(21)为球面凹坑(4)，所述凹坑(4)的球面直径为0.3-0.95毫米；所述凹坑(4)的孔心距(a)范围为0.3-0.8毫米。
7.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，至少部分所述凹部(21)和/或至少部分所述凸部(22)表面具有多个球面凹坑(4)，所述凹坑(4)之间设有丘陵状凸起(41)，所述凹坑(4)的球面直径为0.3-0.95毫米；所述凹坑(4)的孔心距(a)范围为0.3-0.8毫米。
8.根据权利要求6或7所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，所述凹坑(4)的球面直径为0.4-0.65毫米；所述凹坑(4)的孔心距(a)为0.6毫米。
9.一种烹饪器具，包括由金属基材(100)成型的本体，其特征在于，所述本体内表面(51)设有如权利要求1-8中任一项所述的物理不粘结构(200)。
10.根据权利要求9所述的烹饪器具，其特征在于，所述凹部(21)和所述凸部(22)为所述本体成型后对所述本体内表面(51)加工处理制成的高度差为45-85微米的凹凸结构(2)。
...【技术特征摘要】
1.一种物理不粘结构(200)，应用于金属基材(100)表面，其特征在于，所述金属基材(100)表面设有含多个凹部(21)和凸部(22)的凹凸结构(2)，所述凸部(22)为环绕于所述凹部(21)周围的丘陵状形貌，所述凹部(21)表面粗糙度小于所述凸部(22)表面的粗糙度，至少部分所述凹部(21)和/或部分所述凸部(22)表面设置有物理气相沉积层(3)。
2.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，所述凹部(21)和所述凸部(22)与所述金属基材(100)为一体结构，所述物理气相沉积层(3)与至少部分所述凹部(21)和/或部分所述凸部(22)表面直接接触。
3.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，至少部分所述凹部(21)和/或至少部分所述凸部(22)表面设有电解层，所述电解层和所述物理气相沉积层(3)直接接触。
4.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，至少部分所述凹部(21)和/或部分所述凸部(22)表面设有等离子抛光层，所述等离子抛光层和所述物理气相沉积层(3)直接接触。
5.根据权利要求1所述的物理不粘结构(200)，其特征在于，所述金属基材(100)的维氏硬度大于等于1...
【专利技术属性】
技术研发人员：张明伟，姚伊奇，唐建中，
申请(专利权)人：浙江新唐实业有限公司，
类型：新型
国别省市：
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