一种具有限位凹槽的吸盘及支架制造技术

技术编号:41052163 阅读:5 留言:0更新日期:2024-04-23 21:50
本技术提供一种具有限位凹槽的吸盘及支架,所述吸盘包括本体部和凸起部,所述凸起部具有形变区,所述形变区呈环状设置,所述本体部具有平整区和承载区,所述平整区的底面与所述承载区的底面具有第一相对高度差,以形成所述本体部的凹槽的深度,所述形变区的一端与所述承载区连接,所述形变区具有第一侧面、第二侧面及连接所述第一侧面和所述第二侧面的连接区,所述连接区突出于所述平整区的底面;所述形变区在外力作用下可朝靠近待吸附表面运动并容纳在所述凹槽内,所述形变区在所述待吸附表面形成负压以吸附所述待吸附表面。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于配件,更具体地,涉及一种具有限位凹槽的吸盘及支架


技术介绍

1、市场上很多用于支撑电子设备的桌面支架,为了提高桌面支架放置的稳固性,通常采用增大支架与放置表面的摩擦力的方式,例如,在支架底部增加软胶垫(硅胶垫片或者是海绵垫片)。有些支架为了放置得更加牢靠,会在底部粘贴带有粘性的零件。不论是增加软胶垫还是粘胶,其对承载物的支撑稳定性及支架的灵活度均不高。并且,现有的桌面支架中,为了实现对承载物的支撑稳定性,采用了对承载物底面设有吸盘的技术方案。如cn201911287146.8公开了真空吸盘固定装置用以将整个手机支架固定,但是该专利未公开其特有的真空吸盘结构,如果采用传统的吸盘,则使用者在使用时同样存在吸附稳定性不高和灵活度不高的现象。


技术实现思路

1、有鉴于此,本技术提供一种具有限位凹槽的吸盘及支架,以解决如何提高提高对支撑物支撑稳定性的同时提高吸盘使用的灵活性的技术问题。

2、本技术的技术方案是这样实现的:

3、本技术实施例提供一种具有限位凹槽的吸盘,所述吸盘包括本体部和凸起部,所述凸起部具有形变区,所述形变区呈环状设置,所述本体部具有平整区和承载区,所述平整区的底面与所述承载区的底面具有第一相对高度差,以形成所述本体部的凹槽的深度,所述形变区的一端与所述承载区连接,所述形变区具有第一侧面、第二侧面及连接所述第一侧面和所述第二侧面的连接区,所述连接区突出于所述平整区的底面;所述形变区在外力作用下可朝靠近待吸附表面运动并容纳在所述凹槽内,所述形变区在所述待吸附表面形成负压以吸附所述待吸附表面。

4、一些实施例中,所述凸起部还包括非形变区,所述非形变区设于所述形变区的所述第一侧面内,所述非形变区的厚度小于所述平整区的厚度。

5、一些实施例中,所述凹槽的深度大于等于所述形变区的厚度,所述凹槽的宽度大于等于所述形变区的长度。

6、一些实施例中,所述平整区的厚度比所述非形变区的厚度大0.2mm-0.5mm。

7、一些实施例中,所述形变区的厚度大于等于0.2mm且小于等于0.6mm。

8、一些实施例中,所述形变区与所述平整区的夹角大于等于30度且小于等于45度。

9、一些实施例中,所述形变区可设置为圆环形、方环形、菱环形中的一种或多种。

10、一些实施例中,所述形变区具有在前后方向相对设置的第一延伸部和在左右方向相对设置的第二延伸部,所述第一延伸部和所述第二延伸部连接成环形。

11、一些实施例中,所述第一延伸部的设定参数大于所述第二延伸部的设定参数,所述设定参数包括硬度、厚度、长度及与所述本体部的夹角。

12、一些实施例中,所述形变区设置有多个,每个所述形变区外围均设有凹槽;

13、其中,多个所述形变区同心间隔设置;

14、和/或,多个所述形变区呈矩阵间隔设置。

15、本技术实施例还提供了一种支架,所述支架包括:

16、支撑架,用于支撑物体;

17、根据上述任一项所述的吸盘,所述吸盘与所述支撑架固定。

18、本技术实施例提供了一种具有限位凹槽的吸盘,该吸盘包括本体部和凸起部,凸起部具有形变区,形变区呈环状设置,本体部具有平整区和承载区,平整区的底面与承载区的底面具有第一相对高度差,以形成本体部的凹槽的深度,形变区的一端与承载区连接,形变区具有第一侧面、第二侧面及连接第一侧面和第二侧面的连接区,连接区突出于平整区的底面;形变区在外力作用下可朝靠近待吸附表面运动并容纳在凹槽内,形变区在待吸附表面形成负压以吸附待吸附表面。本技术实施例通过将吸盘设置为本体部和凸起部,凸起部的一端与本体部连接,在吸附的过程中,形变区受外力的作用发生形变,形变后的形变区可容纳在凹槽内,使得平整区与吸盘所放置的表面贴合接触,从而提高了吸盘吸附的平稳性,在外力作用下,吸盘可相对待支撑表面拆卸,提高了吸盘使用场景的灵活性。

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【技术保护点】

1.一种具有限位凹槽的吸盘,其特征在于,所述吸盘包括本体部和凸起部,所述凸起部具有形变区,所述形变区呈环状设置,所述本体部具有平整区和承载区,所述平整区的底面与所述承载区的底面具有第一相对高度差,以形成所述本体部的凹槽的深度,所述形变区的一端与所述承载区连接,所述形变区具有第一侧面、第二侧面及连接所述第一侧面和所述第二侧面的连接区,所述连接区突出于所述平整区的底面;所述形变区在外力作用下可朝靠近待吸附表面运动并容纳在所述凹槽内,所述形变区在所述待吸附表面形成负压以吸附所述待吸附表面。

2.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述凸起部还包括非形变区,所述非形变区设于所述形变区的所述第一侧面内,所述非形变区的厚度小于所述平整区的厚度。

3.根据权利要求2所述的吸盘,其特征在于,所述凹槽的深度大于等于所述形变区的厚度,所述凹槽的宽度大于等于所述形变区的长度。

4.根据权利要求3所述的吸盘,其特征在于,所述平整区的厚度比所述非形变区的厚度大0.2mm-0.5mm。

5.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述形变区的厚度大于等于0.2mm且小于等于0.6mm。

6.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述形变区与所述平整区的夹角大于等于30度且小于等于45度。

7.根据权利要求1-6任一项所述的吸盘,其特征在于,所述形变区可设置为圆环形、方环形、菱环形中的一种或多种。

8.根据权利要求1-6任一项所述的吸盘,其特征在于,所述形变区具有在前后方向相对设置的第一延伸部和在左右方向相对设置的第二延伸部,所述第一延伸部和所述第二延伸部连接成环形。

9.根据权利要求8所述的吸盘,其特征在于,所述第一延伸部的设定参数大于所述第二延伸部的设定参数,所述设定参数包括硬度、厚度、长度及与所述本体部的夹角。

10.根据权利要求1-6任一项所述的吸盘,其特征在于,所述形变区设置有多个,每个所述形变区外围均设有凹槽;

11.一种支架,其特征在于,所述支架包括:

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【技术特征摘要】

1.一种具有限位凹槽的吸盘,其特征在于,所述吸盘包括本体部和凸起部,所述凸起部具有形变区,所述形变区呈环状设置,所述本体部具有平整区和承载区,所述平整区的底面与所述承载区的底面具有第一相对高度差,以形成所述本体部的凹槽的深度,所述形变区的一端与所述承载区连接,所述形变区具有第一侧面、第二侧面及连接所述第一侧面和所述第二侧面的连接区,所述连接区突出于所述平整区的底面;所述形变区在外力作用下可朝靠近待吸附表面运动并容纳在所述凹槽内,所述形变区在所述待吸附表面形成负压以吸附所述待吸附表面。

2.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述凸起部还包括非形变区,所述非形变区设于所述形变区的所述第一侧面内,所述非形变区的厚度小于所述平整区的厚度。

3.根据权利要求2所述的吸盘,其特征在于,所述凹槽的深度大于等于所述形变区的厚度,所述凹槽的宽度大于等于所述形变区的长度。

4.根据权利要求3所述的吸盘,其特征在于,所述平整区的厚度比所述非形变区的厚度大0.2m...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡志勇周飞郑雨辰陈剑华
申请(专利权)人:深圳市倍思科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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