【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体外延，特别是涉及一种隔离装置及分子束外延设备。
技术介绍
1、分子束外延设备作为一种单晶薄膜生长设备，被广泛应用于产业界和科研界。经由分子束外延设备生产出的外延片拥有超高的成膜质量、精细的组分调控，在经过后期流片处理之后可以得到性能优异的器件。在分子束外延设备中，不同元素的单质在对应的源炉中被加热，从而形成对应的分子束流被喷射而出。分子束流在衬底表面相遇，在合适的温度下即可形成单晶薄膜。
2、为保证成膜质量，分子束外延设备内，即生长腔内需要维持超高真空环境，从而需要各类真空泵协同工作。例如：冷泵、离子泵等。现有的分子束外延设备将真空泵直接连接生长腔，可能会让真空泵受到生长腔内器件加热时散发出的热辐射的影响，导致抽力下降。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例为解决
技术介绍
中存在的至少一个问题，而提供一种隔离装置及分子束外延设备。
2、为达到上述目的，本申请的技术方案是这样实现的：
3、第一方面，本申请实施例提供了一种隔离装置，应用于分...
【技术保护点】
1.一种隔离装置，应用于分子束外延设备中，所述分子束外延设备包括真空腔室、冷泵和所述隔离装置；其特征在于，所述隔离装置包括：
2.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述隔离芯的外壁开设有增加表面积的预设结构。
3.根据权利要求2所述的隔离装置，其特征在于，所述预设结构包括至少一个预设深度的凹槽。
4.根据权利要求2所述的隔离装置，其特征在于，所述预设结构包括多个预设深度的凹槽，多个所述凹槽沿通道方向排列分布或垂直于通道方向排列分布。
5.根据权利要求2所述的隔离装置，其特征在于，所述预设结构包括至少一个预设高度的
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【技术特征摘要】
1.一种隔离装置，应用于分子束外延设备中，所述分子束外延设备包括真空腔室、冷泵和所述隔离装置；其特征在于，所述隔离装置包括：
2.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述隔离芯的外壁开设有增加表面积的预设结构。
3.根据权利要求2所述的隔离装置，其特征在于，所述预设结构包括至少一个预设深度的凹槽。
4.根据权利要求2所述的隔离装置，其特征在于，所述预设结构包括多个预设深度的凹槽，多个所述凹槽沿通道方向排列分布或垂直于通道方向排列分布。
5.根据权利要求2所述的隔离装置，其特征在于，所述预设结构包括至少一个预设高度的凸起。
6.根据权利要求4所述的隔离...
【专利技术属性】
技术研发人员：楼厦，薛聪，倪健，
申请(专利权)人：埃特曼半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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