【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体处理设备领域，具体来说，特别涉及一种真空腔室及使用真空腔室的半导体处理设备。
技术介绍
1、在半导体处理过程中，需要在高温环境下使用氯气、氯化氢、氧气、三氧化硫、二氧化硫、氟化氢、二氧化氮、硫化氢、氨气、臭氧等具有强氧化性或强腐蚀性的工艺气体，因此选用的腔体材料只有石英、刚玉等以二氧化硅、三氧化二铝为主的惰性材料。此外，现有技术中，半导体处理过程中通常需要真空环境，即腔体内压力低于一个大气压，而石英、刚玉等材料易碎、不耐压，因此腔体尺寸越大，越有可能在使用时被大气压碎，因此目前石英腔体的最大直径约在500-600mm，且石英腔也无法在正压环境，即腔体内压力高于一个大气压使用。
2、中国专利cn113035748b公开了一种真空腔室及真空腔室的压力控制方法以及半导体处理设备，真空腔室包括：内腔，设有至少一个内腔进气管和至少一个内腔出气管；外腔，套设于所述内腔，设有至少一个外腔进气管和至少一个外腔出气管；腔门组件，设于所述外腔和所述内腔的同侧面，控制所述内腔与外部连通或隔离；第一供气组件，与所述内腔进气管连接...
【技术保护点】
1.一种真空腔室，包括嵌套设置的外腔室（1）和内腔室（4），其特征在于：所述外腔室（1）的侧壁上开设有外腔室进出料口（2），所述外腔室进出料口（2）内安装有能转动打开的外腔室密封门（3）；
2.根据权利要求1所述的一种真空腔室，其特征在于：所述外腔室密封门（3）包括外密封板（31）和铰链（32），所述外密封板（31）通过铰链（32）转动安装于所述外腔室进出料口（2）的外侧端，所述外密封板（31）和外腔室进出料口（2）之间安装有多个呈圆周分布的锁扣（34），所述外密封板（31）外表面上远离铰链（32）的一端固定安装有把手（33）。
3.根据权利要...
【技术特征摘要】
1.一种真空腔室，包括嵌套设置的外腔室（1）和内腔室（4），其特征在于：所述外腔室（1）的侧壁上开设有外腔室进出料口（2），所述外腔室进出料口（2）内安装有能转动打开的外腔室密封门（3）；
2.根据权利要求1所述的一种真空腔室，其特征在于：所述外腔室密封门（3）包括外密封板（31）和铰链（32），所述外密封板（31）通过铰链（32）转动安装于所述外腔室进出料口（2）的外侧端，所述外密封板（31）和外腔室进出料口（2）之间安装有多个呈圆周分布的锁扣（34），所述外密封板（31）外表面上远离铰链（32）的一端固定安装有把手（33）。
3.根据权利要求2所述的一种真空腔室，其特征在于：所述内腔室密封门（5）包括滑动座（51）、两个弧形轨道（511）和传动组件，两个所述弧形轨道（511）均固定安装于所述内腔室（4）的表面，且两个弧形轨道（511）分别设置于所述内腔室进出料口（7）的上下端，所述滑动座（51）滑动安装于两个弧形轨道（511）之间，并通过传动组件与外密封板（31）传动连接，所述滑动座（51）上安装有能将内腔室进出料口（7）抵接密封的内密封板（52）。
4.根据权利要求3所述的一种真空腔室，其特征在于：所述传动组件包括传动轴（53）、直齿条（56）、侧开口（513）和弧形齿条（514），所述侧开口（513）开设于所述弧形轨道（511）的外侧面，所述弧形齿条（514）固定安装于所述滑动座（51）端部的外侧，并滑动卡装于所述弧形轨道（511）的轨道槽内，且所述弧形齿条...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗中平，段恒，雷超，
申请(专利权)人：常熟市兆恒众力精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。