温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种真空腔室及使用真空腔室的半导体处理设备，涉及半导体处理设备领域。本发明中当外腔室密封门转动开闭时，能驱动内腔室密封门在内腔室的外表面沿圆周方向滑动，使得内腔室密封门与外腔室密封门同步开闭；通过将内腔室密封门沿内腔室外表面的圆...
该专利属于常熟市兆恒众力精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常熟市兆恒众力精密机械有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。