一种失效分析的方法以及系统装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种失效分析的方法以及系统装置，属于半导体领域芯片失效分析领域，其包括一种失效分析的系统装置，包括激光束源；第一机构；第二机构；一种失效分析的方法，包括：S1、产生激光束；S2、通过由高速电流计电动机驱动的至少一个反射板引导激光束；S3、将产生的激光束引导到由材料封装的结构上；S4、利用激光束烧蚀封装位置的材料，以暴露结构的至少一部分，而不损坏结构；S5、分析通过烧蚀材料产生的羽，以确定材料的组成。本发明专利技术在半导体芯片失效分析和可靠性分析中，可以实现精准蚀刻、精准层切、失效点定位、精准开封、无应力蚀刻、不需要化学蚀刻，清洁环保。是芯片失效分析工程师有力的工具助手，提高分析效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体领域芯片失效分析领域，具体为一种失效分析的方法以及系统装置。

技术介绍

1、失效分析是一门发展中的新兴学科，近年开始从军工向普通企业普及。它一般根据失效模式和现象，通过分析和验证，模拟重现失效的现象，找出失效的原因，挖掘出失效的机理的活动。在提高产品质量，技术开发、改进，产品修复及仲裁失效事故等方面具有很强的实际意义。其方法分为有损分析，无损分析，物理分析，化学分析等。

2、早期失效率高的原因是产品中存在不合格的部件；晚期失效率高的原因是产品部件经长期使用后进入失效期。机械产品中的磨合、电子元器件的老化筛选等就是根据这种失效规律而制定的保证可靠性的措施。失效按其工程含义分为暂失效和永久失效、突然失效和渐变失效，按经济观点分为正常损耗失效、本质缺陷失效、误用失效和超负荷失效。产品的种类和状态繁多，失效的形式也千差万别。因此对失效分析难以规定统一的模式。失效分析可分为整机失效分析和零部件残骸失效分析，也可按产品发展阶段、失效场合、分析目的进行失效分析。失效分析的工作程序通常分为明确要求，调查研究，分析失效机制和提出对策等阶段。失本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种失效分析的系统装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以将所述激光束引导到所述结构上。

3.根据权利要求2所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以移动所述结构并使所述激光束位于固定位置。

4.根据权利要求3所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以确定所述激光束的位置，以便提供对所述材料的组成的空间表示。

5.根据权利要求4所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：包括平扫描场透镜和远心透镜中的至少一个，以将所述激光束聚焦到对应于所述结构的材料表面的平面中。...

【技术特征摘要】

1.一种失效分析的系统装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以将所述激光束引导到所述结构上。

3.根据权利要求2所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以移动所述结构并使所述激光束位于固定位置。

4.根据权利要求3所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以确定所述激光束的位置，以便提供对所述材料的组成的空间表示。

5.根据权利要求4所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：包括平扫描场透镜和远心透镜中的至少一个，以将所述激光束聚焦到对应于所述结构的材料表面的平面中。

6.根据权利要求5所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以宏观视野同轴成像，ccd光路和激光束同在一个光轴上，相机焦点和激光焦点在同一个平面，相机的光路和激光光路同轴齐心并保持垂直成像。

7.根据权利要求6所述的一种失效分析的系统装置，其特征在于：被配置以微...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄锋，
申请(专利权)人：苏州弗为科技有限公司，
类型：发明
国别省市：