【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于抛光技术，尤其涉及一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统。
技术介绍
1、铜箔在阴极辊表面电沉积时，其电镀效率和沉积效果极易受到阴极辊表面形貌的影响，工业上，阴极辊表面处理主要分为两步：应用砂轮进行离线pva和应用抛光刷进行在线抛光，每当生箔机完成一卷铜箔生产需要换卷时，或者阴极辊出现表面不良时，均需要进行在线抛光，铜箔在阴极辊表面沉积，随着阴极辊转动被剥离，在此过程中，需要向箔面喷洒洗箔水，用以冲洗掉箔面残留的电解液以及可能存在的铜粉、杂质、硫酸铜结晶等等，一般用高纯水。
2、抛光废水飞溅至其他零部件上，淋湿后未及时清理可能会导致部件锈蚀或其他安全隐患；抛光废水回流到电解液中，会破坏溶液中各组分的浓度与比例配合，当多台生箔机同时排入大量抛光废水时，还会导致整个系统液位上涨，打乱工艺平衡，造成生箔各参数波动，对铜箔的生产有着很大的影响，洗箔水流入电解槽与抛光水流入电解槽的后果一致，水量过多也容易造成电解液组分浓度下降、工艺不稳定，为此提供了一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统。
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【技术保护点】
1.一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，包括支撑台(1)，所述支撑台(1)的上表面设置有凹槽(2)，所述凹槽(2)中间凸起，两侧凹陷并设置有漏水孔，所述支撑台(1)的内壁上固定安装有隔板(8)，其特征在于：所述隔板(8)的下表面设置有过滤组件(7)，所述隔板(8)的上表面设置有疏通组件(10)；
2.根据权利要求1所述的一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，其特征在于，所述过滤水箱(71)的外表面通过支撑架固定安装有控制电机(75)，所述控制电机(75)的输出端固定安装有往复丝杠(76)，所述往复丝杠(76)的一端贯穿于过滤水箱(71)的内部并固定安...
【技术特征摘要】
1.一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，包括支撑台(1)，所述支撑台(1)的上表面设置有凹槽(2)，所述凹槽(2)中间凸起，两侧凹陷并设置有漏水孔，所述支撑台(1)的内壁上固定安装有隔板(8)，其特征在于：所述隔板(8)的下表面设置有过滤组件(7)，所述隔板(8)的上表面设置有疏通组件(10)；
2.根据权利要求1所述的一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，其特征在于，所述过滤水箱(71)的外表面通过支撑架固定安装有控制电机(75)，所述控制电机(75)的输出端固定安装有往复丝杠(76)，所述往复丝杠(76)的一端贯穿于过滤水箱(71)的内部并固定安装有第一齿链轮(713)。
3.根据权利要求2所述的一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，其特征在于，所述往复丝杠(76)的外表面螺纹安装有螺纹套(77)，所述螺纹套(77)的外表面固定安装有连接杆(78)与固定杆(711)，所述连接杆(78)的一端固定安装有刮板(79)，所述刮板(79)的下表面与过滤水箱(71)的底面内壁滑动连接，所述刮板(79)的侧壁上固定安装有顶杆(710)。
4.根据权利要求3所述的一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，其特征在于，所述固定杆(711)的一端固定安装有清洁板(712)，所述清洁板(712)的侧壁与过滤板(72)的侧壁贴合，所述过滤水箱(71)的内侧壁上转动安装有转动杆(714)，所述转动杆(714)的一端延伸至过滤水箱(71)的外部并固定安装有第二齿链轮(715)，所述第二齿链轮(715)与第一齿链轮(713)通过齿链传动连接。
5.根据权利要求4所述的一种用于电解铜箔生产的抛光水再利用系统，其特征在于，所述转动杆(714)的外表面固定安装有转动盘(7111)，所述转动盘(7111)的外表面固定安装有凸块(7112)，所述过滤水箱(71)的底面内壁上固定安装有定位板(716)，所述定位板(716)的侧壁上固定安装有伸缩弹簧(717)，所述伸缩弹簧(717)的一端固定安装有移动板(718)，所述移动板(718)的侧壁上固定安装有撞击杆(719)，所述撞击杆(719)的一端延伸至定位板(716)的侧壁外，所述移动板(718)的另一侧壁上固定安装有活动杆(7110)，所述活动杆(7110...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈佳佳，张冰，戴祖明，严雷，赵双艳，
申请(专利权)人：南京龙鑫电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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