【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种感光性元件、层叠体、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。
技术介绍
1、以往，在印刷配线板的制造领域中，作为用于蚀刻处理或镀覆处理等的抗蚀剂材料，广泛使用感光性树脂组合物、以及在支撑膜上具备使用感光性树脂组合物所形成的层(以下，也称为“感光层”)的感光性元件。
2、印刷配线板是使用上述感光性元件，通过例如以下的步骤来制造的。即，首先，将感光性元件的感光层层压于覆铜层叠板等电路形成用基板上。此时，以感光层的与支撑膜接触的面的相反侧的面密合于电路形成用基板的形成电路的面的方式进行层压。另外，层压例如通过将感光层加热压接于电路形成用基板上来进行(常压层压法)。
3、接着，使用掩模膜等，隔着支撑膜对感光层的所期望的区域进行曝光，从而产生自由基。所产生的自由基通过几个反应路径而有助于光聚合性化合物的交联反应(光固化反应)。接着，将支撑膜剥离，然后利用显影液将感光层的未固化部溶解或分散去除，从而形成抗蚀剂图案。接着，将抗蚀剂图案作为抗蚀剂，实施蚀刻处理或镀覆处理而形成导体图案，最后将感光层的光固化部(抗蚀剂图案)剥离(去除)。
4、但是，在上述隔着支撑膜的曝光方式中，有时在所形成的抗蚀剂图案中产生微小的脱落。
5、因此，近年来，研究了在曝光前将支撑膜剥离后对感光层进行曝光，从而减少抗蚀剂图案的微小脱落的制造方法。但是，当在剥离支撑膜后对感光层进行曝光时，空气中的氧会与所产生的自由基接触，由此自由基迅速地稳定化(失活)，从而光聚合性化合物的光固化反应难以进行。因此，在该制造
6、现有技术文献
7、专利文献
8、专利文献1：日本专利第5483734号公报
9、专利文献2：日本特开2013-24913号公报
10、专利文献3：日本专利第5551255号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、近年来，伴随高细线封装基板的普及，导体图案的进一步微细化正在发展。对于用于形成这样的微细的导体图案的感光性元件，存在可形成微小的脱落少的抗蚀剂图案的持续需求。
3、在上述专利文献1～3中记载那样的在支撑膜与感光层之间具备具有阻气性的中间层的感光性元件中，即使将支撑膜剥离后对感光层进行曝光，也未必可充分地满足形成微小的脱落少的抗蚀剂图案这样的要求。特别是在使用可形成高分辨率的抗蚀剂图案的曝光机(以下，也称为“高分辨率曝光机”)时，在抗蚀剂图案中产生的微小的脱落更加被视为问题。
4、本公开是鉴于上述以往技术所具有的课题而作出的，其目的在于提供一种能够形成微小的脱落少的抗蚀剂图案的感光性元件、层叠体、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。
5、解决课题的方法
6、为了实现上述目的，本公开提供一种感光性元件，其依次包含支撑膜、中间层和感光层，上述支撑膜的厚度大于或等于20μm。该支撑膜中所含的直径大于或等于5μm的粒子的数量为小于或等于30个/mm2。根据上述感光性元件，能够形成微小的脱落少的抗蚀剂图案。
7、本专利技术人等认为，作为利用本公开的感光性元件能够形成微小的脱落少的优异的抗蚀剂图案的理由之一，可列举：源自支撑膜中所含的润滑剂等粒子的形状轨迹难以被转印至中间层。即，从其生产率的观点出发，支撑膜有时包含用于对支撑膜的表面赋予滑动性的润滑剂。该润滑剂可通过涂布或吹附而包含于支撑膜的一面或两面，另外，可通过捏合而包含于支撑膜的一面或两面(包括内部)。另外，在支撑膜中，有时也因支撑膜的制作工序等而包含上述润滑剂以外的粒子。由于这样的润滑剂等粒子的存在，有时粒子的形状轨迹被转印至与粒子接触的其他层(例如中间层等)。已知：若粒子的形状轨迹被转印至中间层，则即使在将支撑膜剥离来进行曝光的情况下，也因中间层表面的凹凸(粒子的形状轨迹)而使曝光光线散射，并导致抗蚀剂图案中的微小脱落的产生。特别是已知在使用高分辨率曝光机(例如投影曝光机)，在能量低(成为低固化)的严酷条件下进行曝光时，抗蚀剂图案中的微小脱落的产生会显著地出现。
8、已知在与中间层接触的面具备大粒子的支撑膜上形成中间层时，容易产生该现象(即，润滑剂等粒子的形状轨迹向中间层的转印)。另外，令人吃惊的是，还已知：当在支撑膜的与中间层接触的面的相反侧的面存在大粒子时，在感光性元件的层压工序中，由于辊压力，支撑膜的与中间层接触的面的相反侧的面所存在的大粒子的形状轨迹有时也会被转印至中间层。
9、本专利技术人等进行了积极研究，结果发现，通过将支撑膜中所含的润滑剂等粒子中的直径大于或等于5μm的粒子的数量设为小于或等于30个/mm2、及将支撑膜的厚度设为大于或等于20μm，从而即使经过在支撑膜上的中间层形成工序及感光性元件的层压工序，也能够抑制源自润滑剂等粒子的形状轨迹向中间层的转印。因此，根据本公开的感光性元件，能够使抗蚀剂图案的微小的脱落变得极少。尤其是通过使用具有特定厚度的支撑膜，从而即使在支撑膜的与中间层接触的面的相反侧的面存在大粒子时，也能够抑制该粒子的影响而形成微小的脱落少的优异的抗蚀剂图案。另外，即使在使用了高分辨率曝光机的情况下，也能够充分地减少抗蚀剂图案的微小脱落。
10、另外，在上述感光性元件中，上述支撑膜的与中间层接触的面中的直径大于或等于5μm的粒子的数量可为小于或等于10个/mm2。根据上述感光性元件，能够形成微小的脱落更少的抗蚀剂图案。
11、另外，在上述感光性元件中，中间层可包含聚乙烯醇。根据上述感光性元件，能够更加抑制利用在曝光中使用的活性光线所产生的自由基的失活，能够提高所形成的抗蚀剂图案的分辨力。
12、另外，在上述感光性元件中，支撑膜可为聚酯膜。根据上述感光性元件，能够提高支撑膜的机械强度及耐热性，并且能够抑制在支撑膜上形成中间层时所产生的中间层的皱褶等不良，能够提高作业性。
13、另外，本公开还提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其具备：使用上述本公开的感光性元件，将上述感光层、上述中间层及上述支撑膜依次配置于基板上的工序；将上述支撑膜去除，利用活性光线隔着上述中间层对上述感光层进行曝光的工序；以及从上述基板上去除上述感光层的未固化部及上述中间层的工序。上述抗蚀剂图案的形成方法由于使用上述本公开的感光性元件来形成抗蚀剂图案，因此能够形成微小的脱落少的抗蚀剂图案。
14、另外，上述曝光可使用透镜的数值孔径大于或等于0.05的高分辨率曝光机来进行。根据上述抗蚀剂图案的形成方法，由于使用上述本公开的感光性元件来形成抗蚀剂图案，因此能够以高分辨率形成微小的脱落少的抗蚀剂图案。
15、另外，本公开还提供一种层叠体，其依次具备基板、感光层及中间层，且在上述中间层的与上述感光层侧相反一侧的面中，直径大于或等于3μm的凹部的数量为小于或本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种层叠体，其依次具备基板、感光层和中间层，并且在所述中间层的与所述感光层侧相反一侧的面中，直径大于或等于3μm的凹部的数量为小于或等于30个/mm2。
2.一种感光性元件，其为用于制造权利要求1所述的层叠体的感光性元件，
3.根据权利要求2所述的感光性元件，所述支撑膜的与中间层接触的面中的直径大于或等于5μm的粒子的数量为小于或等于10个/mm2。
4.根据权利要求2或3所述的感光性元件，所述中间层包含聚乙烯醇。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的感光性元件，所述支撑膜为聚酯膜。
6.权利要求1所述的层叠体的制造方法，具备：以将感光性元件的感光层密合于基板上的方式将所述感光性元件压接于所述基板上，所述感光性元件依次具备支撑膜、中间层和所述感光层，所述支撑膜的厚度大于或等于20μm，该支撑膜中所含的直径大于或等于5μm的粒子的数量为小于或等于30个/mm2。
7.一种抗蚀剂图案的形成方法，其包括：
8.根据权利要求7所述的抗蚀剂图案的形成方法，使用透镜的数值孔径大于或等于0.05的高分辨率曝
9.一种印刷配线板的制造方法，其包括：对通过权利要求7或8所述的抗蚀剂图案的形成方法形成了抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀覆处理，从而形成导体图案的工序。
...【技术特征摘要】
1.一种层叠体，其依次具备基板、感光层和中间层，并且在所述中间层的与所述感光层侧相反一侧的面中，直径大于或等于3μm的凹部的数量为小于或等于30个/mm2。
2.一种感光性元件，其为用于制造权利要求1所述的层叠体的感光性元件，
3.根据权利要求2所述的感光性元件，所述支撑膜的与中间层接触的面中的直径大于或等于5μm的粒子的数量为小于或等于10个/mm2。
4.根据权利要求2或3所述的感光性元件，所述中间层包含聚乙烯醇。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的感光性元件，所述支撑膜为聚酯膜。
6.权利要求1所述的层叠体的制造方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：粂壮和，小野博史，松村辽，大桥武志，吉回公博，阿部弘行，大友聪，
申请(专利权)人：株式会社力森诺科，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。