【技术实现步骤摘要】
本申请涉及抗干扰控制，具体而言，涉及一种干扰抑制方法及光刻机控制系统。
技术介绍
1、工件台控制系统是光刻机的重要组成部分之一。对于工件台控制系统，需要能够长时间稳定地工作且保持很高的重复定位精度。其中，工件台控制系统是由多个刚体通过柔性铰链连接起来的复杂系统，柔性铰链可以视为弹簧阻尼结构，且柔性铰链会降低系统模态，产生较大的机械谐振，当外界存在较宽频域的激励时，容易产生共振而使系统不稳定。此外，工件台控制系统在工作过程中还存在系统模型参数容易发生摄动、隔振系统无法完全滤除环境振动、采用双隔振系统时无法保持隔振系统的同步性而导致测量模块和运动模块存在较大的相对运动干扰、环境噪声较大，测量系统信噪比较低等复杂干扰问题，这些干扰会严重影响工件台控制系统的稳定性，降低工件台控制系统的定位精度。
技术实现思路
1、为了至少克服现有技术中的上述不足，本申请的目的在于提供一种干扰抑制方法及光刻机控制系统。
2、第一方面，本申请实施例提供一种干扰抑制方法，所述干扰抑制方法包括：
3、设置检测位置，获取被控对象的干扰信号；
4、对所述干扰信号进行分析，确定低通滤波器、谐振调节器以及陷波滤波器的参数；
5、设置给定位置，根据所述给定位置对应的第一信号与所述低通滤波器的输出信号，得到第二信号；
6、将所述第二信号输入比例-积分-微分调节器以及至少一个所述谐振调节器，得到第三信号；其中，所述谐振调节器与所述比例-积分-微分调节器并联；
<...【技术保护点】
1.一种干扰抑制方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述设置给定位置，设置给定位置，根据所述给定位置对应的第一信号与所述低通滤波器的输出信号，得到第二信号的步骤，包括：
3.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述对所述干扰信号进行分析，确定低通滤波器、谐振调节器以及陷波滤波器的参数的步骤，包括：
4.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述对所述干扰信号进行分析，确定低通滤波器、谐振调节器以及陷波滤波器的参数的步骤，包括：
5.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述低通滤波器为一阶低通滤波器或双极点低通滤波器。
6.根据权利要求5所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述双极点低通滤波器的传递函数为：
7.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述谐振调节器的传递函数为：
8.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述陷波器的传递函数为：
9.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述比
10.一种光刻机控制系统，其特征在于，使用权利要求1-9任意一项所述的干扰抑制方法以抑制干扰信号。
...【技术特征摘要】
1.一种干扰抑制方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述设置给定位置，设置给定位置，根据所述给定位置对应的第一信号与所述低通滤波器的输出信号，得到第二信号的步骤，包括：
3.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述对所述干扰信号进行分析，确定低通滤波器、谐振调节器以及陷波滤波器的参数的步骤，包括：
4.根据权利要求1所述的干扰抑制方法，其特征在于，所述对所述干扰信号进行分析，确定低通滤波器、谐振调节器以及陷波滤波器的参数的步骤，包括：
5.根据权利要求1所述的...
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